液晶显示器阵列基板及其制造方法

文档序号:2811991阅读:152来源:国知局
专利名称:液晶显示器阵列基板及其制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示器技术,尤其涉及一种液晶显示器阵列基板及其制造方法。
背景技术
目前,在液晶显示器制作工艺中通常采用液晶滴注(One Drip Filing,简称ODF) 技术对阵列基板和彩膜基板进行对盒工艺。在对盒工艺中,封框胶被预先涂布在阵列基板 或彩膜基板上,如图1所示为现有技术中涂布在阵列基板上的封框胶示意图,图1中,较粗 的黑色线11即为封框胶区域,多条平行的水平线为阵列基板上的栅线12,多条平行的垂直 线为阵列基板上的数据线13。 在液晶显示器的制作工艺中,采用ODF技术将液晶以特定图形滴注在阵列基板 上,然后进行阵列基板和彩膜基板的对盒工艺形成面板。之后,经过紫外或高温固化工艺对 封框胶进行固化。 在现有技术的ODF过程中,在封框胶固化前,由于封框胶处于液态,容易与液晶接 触使液晶被污染,从而会导致残像等不良情况的产生,降低液晶显示器的成品率。

发明内容
本发明的目的在于针对现有技术中存在的问题,提供一种液晶显示器阵列基板及 其制造方法,可以减少封框胶对液晶的污染,提高液晶显示器的成品率。 为了实现上述目的,本发明提供了一种液晶显示器阵列基板,包括显示区域和设 置在所述显示区域之外的封框胶区域,所述显示区域形成有阵列结构图形,所述封框胶区 域用于涂布封框胶,所述封框胶区域内形成有用于阻止封框胶向所述显示区域侵入的阻止 图形。 所述阻止图形至少包括沿第一方向延伸的条形凸起,所述第一方向为顺时针到 栅线方向的角度大于等于0度且小于90度的方向。 所述阻止图形还可以还包括沿第二方向延伸的条形凸起,所述第二方向为与所述 第一方向垂直的方向; 所述沿第一方向延伸的条形凸起靠近所述显示区域,所述沿第二方向延伸的条形 凸起远离所述显示区域。 所述阻止图形除包括沿第一方向延伸的条形凸起,还可以包括沿栅线方向延伸的 条形凸起和沿数据线方向延伸的条形凸起。 为了实现上述目的,本发明还提供了一种液晶显示器阵列基板制造方法,包括形
成显示区域中阵列结构图形的步骤,还包括在形成显示区域中阵列结构图形的过程中,在
封框胶区域内形成用于阻止封框胶向所述显示区域侵入的阻止图形的步骤。 具体地,可以在形成显示区域中阵列结构图形的各次构图工艺中,在其中一次构
图工艺或其中至少两次构图工艺中,在封框胶区域内形成用于阻止封框胶向所述显示区域
侵入的阻止图形;对于在其中至少两次构图工艺中均在在封框胶区域内形成用于阻止封框
3胶向所述显示区域侵入的阻止图形的情况,各次构图工艺中所使用的掩模板上,阻止图形 的形状和位置均相同。 本发明提供的液晶显示器阵列基板及其制造方法,通过在封框胶区域设置能够阻 止封框胶向显示区域侵入的阻止图形,这样,可以避免未固化之前的液态封框胶侵入显示 区域污染液晶,从而可以提高液晶显示器成品率。 下面通过附图和实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。






之后阻止
之后阻止
之后阻止
之后阻止
之后阻止
的截面图
的截面图
图1所示为现有技术中涂布在阵列基板上的封框胶示意图2所示为本发明中涉及的液体在条纹状表面上流动示意图3所示为本发明液晶显示器阵列基板第一实施例结构示意图4a所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第一实施例中第一次构图工艺
图形的截面图4b所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第 图形的截面图4c所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第 图形的截面图4d所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第 图形的截面图4e所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第 图形的截面图5所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第二实施例中形成的阻止图形
实施例中第二次构图工艺 实施例中第三次构图工艺 实施例中第四次构图工艺 实施例中第五次构图工艺
图6所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第三实施例中形成的阻止图形
图7所示为本发明液晶显示器阵列基板第二实施例结构示意图 图8所示为本发明液晶显示器阵列基板第三实施例结构示意图 图9所示为本发明液晶显示器阵列基板第四实施例结构示意图 图IO所示为本发明液晶显示器阵列基板第五实施例结构示意图; 图11所示为本发明液晶显示器阵列基板第六实施例结构示意图。
具体实施例方式
液体不同的物体表面流动时,由于物体表面不同位置的摩擦力或阻力大小不同, 液体通常趋向于沿着摩擦力或阻力较小的方向流动。如图2所示为本发明中涉及的液体在 条纹状表面上流动示意图,图2中,当液体滴到一组平行的水平条纹31上时,液体由于在平 行于水平条纹的方向上阻力较小,而垂直于水平条纹的方向上由于条纹的存在阻力较大, 所以液体趋向于向水平方向扩张,会逐渐流动形成一个椭圆形。 本发明主要基于上述液体在不同图形的表面上流动的原理,在液晶显示器阵列基 板上封框胶区域形成不同的阻止图形,这些阻止图形用于阻止液态的封框胶向液晶显示器阵列基板上的显示区域侵入。 对于液晶显示器阵列基板,通常有一个与栅线连接的用于为栅线提供驱动信号的
第一线路板,有一个与数据线连接的用于为数据线提供驱动信号的第二线路板。在液晶显
示器进行显示时,需要保证数据线和栅线之间的同步,例如当开启第一行栅线时,要保证第
一行各像素显示相应图像,在开启第二行栅线时,要保证第二行各像素显示相应图像,栅线
开启与图像显示应保持同步。所以在第一线路板和第二线路板之间还需要有信号线,用于
提供第一线路板和第二线路板之间的同步信号。或者,第一线路板和第二线路板之间的信
号线还用于为第一线路板提供输入信号,产生输入信号的驱动电路可以在第二线路板上设
置。第一线路板和第二线路板之间的信号线通常设置在阵列基板的左上角。 另外,在阵列基板上还有多条公共电极线,公共电极线在阵列基板显示区域与栅
线平行设置,在阵列基板的边缘,公共电极线通常设置在除设置有信号线的一个角之外的
其他几个边角上。 这样,阵列基板的几个边角就设置有多条信号线和公共电极线。信号线与封框胶 区域会有一部分重叠。 本发明提供的液晶显示器阵列基板,为了阻止液态的封框胶侵入液晶,造成液晶 污染,在阵列基板上的封框胶区域设置有阻止图形。 如图3所示为本发明液晶显示器阵列基板第一实施例结构示意图,图3简要示出 了封框胶区域的四个角上的图形,内边线21和外边线22之间的区域即为实际涂布封框胶 的区域,阴影部分分别是信号线14和公共电极线15,公共电极线15上的空白区域为预留的 涂布封框胶的区域,通常预留的涂布封框胶的区域会大于实际涂布封框胶的区域,本申请 中将实际涂布封框胶的区域称为封框胶区域。在第一实施例中,液晶显示器阵列基板中封 框胶区域的一个角上形成有沿第一方向延伸的条形凸起41,该第一方向是顺时针到栅线方 向的角度大于等于0度且小于90度的方向,其中栅线方向即是在液晶显示器阵列基板上栅 线的排布方向,通常栅线方向是水平方向。该条形凸起41的形状可以是直线,也可以是曲 线,条形凸起41的数量可以是多个。当设置多个条形凸起41的时候,这些条形凸起41看 起来像一组平行线。由于封框胶区域与信号线14有重叠的部分,所以条形凸起41是形成 在信号线14上的。为了不造成信号线14断路,条形凸起41需要设置成图3所示的镂空状 的图形。同时,设置成如图3所示的条形凸起41,能够在固化封框胶的工艺中,通过条形凸 起41之间的透明部分透过光来固化封框胶,并且能够通过设置条形凸起41之间凹槽(透 明部分)的面积大小来调整信号线的电阻(因为信号线的电阻与信号线的面积相关,信号 线的面积越大,电阻越小)。 在第一实施例的基础上,还可以在封框胶区域的四个角上均设置一组条形凸起 41,这样可以阻止四个角上的封框胶向显示区域侵入。公共电极线15上的预留的涂布封 框胶区域设置有多条细线151用于保证公共电极线不断路,对于其他三个角上的条形凸起 41,可以独立设置在封框胶区域,而无需与公共电极线连接。 当然,也可以将条形凸起41与公共电极线连接,具体情况需要由公共电极线的电 阻大小决定。"凸起"是针对液晶显示器阵列基板中的基板而言高出的部分,各凸起之间可以看 作是凹槽,各凸起之间的凹槽的宽度可以是2微米到15微米,各凸起的宽度可以是2微米
5到10微米。 需要说明的是,除封框胶区域之外,在其他的预留的封框胶区域也可以设置条形
凸起这样可以更有效地限制液态封框胶,不至于使其侵入到显示区域。 下面介绍图3所示液晶显示器阵列基板的制造方法。 本发明提供的液晶显示器阵列基板的制造方法,是在现有技术中形成液晶显示器 显示区域的阵列结构图形的过程中,在封框胶区域形成用于阻止封框胶向液晶显示器阵列 基板的显示区域侵入的阻止图形。可以在形成显示区域中阵列结构图形的各次构图工艺 中,在其中一次构图工艺或其中至少两次构图工艺中,在封框胶区域内形成用于阻止封框 胶向所述显示区域侵入的阻止图形;对于在其中至少两次构图工艺中均在在封框胶区域内 形成用于阻止封框胶向显示区域侵入的阻止图形的情况,各次构图工艺中所使用的掩模板 上,阻止图形的形状和位置均相同。 具体地,可以在形成薄膜晶体管(Thin Film Transistor,简称TFT)的栅电极的同 时,在封框胶区域形成条形凸起;也可以在形成TFT的有源层的同时,在封框胶区域形成条 形凸起;或者在形成TFT的源电极或漏电极的同时,在封框胶区域形成条形凸起。或者,也 可以在形成TFT的栅电极、有源层和源漏电极的各次构图工艺中均在相同的位置处,形成 图案相同的阻止图形,使得条形凸起的厚度大约为lOOnm到400nm。 下面以五次构图工艺为例,说明如何在形成液晶显示器阵列结构图形的过程中形 成阻止图形。 第一次构图工艺首先在阵列基板上沉积一层金属薄膜,该金属膜的材料可以是 Al、 Mo、 Cu等,也可以是合金材料;之后在金属薄膜上涂敷一层光刻胶,采用第一掩模板通 过曝光显影和刻蚀等构图工艺,形成栅电极、栅线、公共电极线和阻止图形。如图4a所示为 本发明液晶显示器阵列基板制造方法第一实施例中第一次构图工艺之后阻止图形的截面 图,图形411是第一次构图工艺中与栅电极、栅线和公共电极线同时形成的,图形410是基 板。 第二构图工艺在第一构图工艺后的基板上依次沉积栅绝缘薄膜和非晶硅半导体 薄膜,之后在非晶硅半导体薄膜上涂敷一层光刻胶,采用第二掩模板通过曝光、显影和刻蚀 等构图工艺,形成栅绝缘层、阻止图形和有源层。如图4b所示为本发明液晶显示器阵列基 板制造方法第一实施例中第二次构图工艺之后阻止图形的截面图,图形412是栅绝缘层, 图形413是在第二次构图工艺中与有源层同时形成的。 第三构图工艺在第二构图工艺后的基板上沉积一层金属薄膜,之后在金属薄膜 上涂敷一层光刻胶,采用第三掩模板通过曝光、显影和刻蚀等构图工艺,形成源电极、漏电 极、阻止图形和数据线。如图4c所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第一实施例中 第三次构图工艺之后阻止图形的截面图,图形414是在第三次构图工艺中与源漏电极同时 形成的。 第四构图工艺在第三构图工艺后的基板上沉积一层钝化层薄膜,之后在钝化层 薄膜上涂敷一层光刻胶,采用第四掩模板通过曝光、显影和刻蚀等构图工艺,形成钝化层过
孔和阻止图形。如图4d所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第一实施例中第四次 构图工艺之后阻止图形的截面图,图形415是在第四次构图工艺中与钝化层过孔同时形成 的。
第五构图工艺在第四构图工艺后的基板上沉积一层透明像素电极薄膜,之后在 透明像素电极薄膜上涂敷一层光刻胶,采用第五掩模板通过曝光、显影和刻蚀等构图工艺, 形成像素电极和阻止图形。如图4e所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第一实施 例中第五次构图工艺之后阻止图形的截面图,图形416是在第五次构图工艺中与像素电极 同时形成的。如果图3中条形凸起采用本发明液晶显示器阵列基板制造方法第一实施例提 供的方法,那么图3中A-A向的截面图即如图4e所示。 通过以上的方法,在每一次构图工艺中均形成阻止图形,可以增大阻止图形的厚 度。需要说明的是,以上各次构图工艺中所用的掩模板上,阻止图形的形状、位置都是相同 的,这样可以保证每次形成的阻止图形都在相同的位置,保持相同的形状。从而达到增大图 形厚度的目的。 另外,也可以只在五次构图工艺中的某一次工艺中形成阻止图形。例如,可以在形 成栅电极的第一次构图工艺中形成阻止图形。在第一次构图工艺中,首先在阵列基板上沉 积一层金属薄膜,之后在金属薄膜上涂敷一层光刻胶,采用第一掩模板通过曝光、显影和刻 蚀等构图工艺,形成栅电极、栅线、公共电极线和阻止图形的图案。通过这种方式形成阻止 图形时,除第一次构图工艺的步骤与现有技术不同之外,其余步骤均与现有技术相同。如图 5所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法第二实施例中形成的阻止图形的截面图。
或者,可以在形成源漏电极的第三次构图工艺中形成阻止图形。在第三次构图工 艺中,在第二构图工艺后的基板上沉积一层金属薄膜,之后在金属薄膜上涂敷一层光刻胶, 采用第三掩模板通过曝光、显影和刻蚀等构图工艺,形成源电极、漏电极、阻止图形和数据 线。通过这种方式形成阻止图形时,除第一次构图工艺的步骤与现有技术不同之外,其余步 骤均与现有技术相同。如图6所示为本发明液晶显示器阵列基板制造方法三实施例中形成 的阻止图形的截面图。 也可以在五次构图工艺中的两次构图工艺中形成阻止图形,其他构图工艺与现有 技术相同。具体的形成过程与上述第一实施例和第二实施例类似,此处不再赘述。也可以 通过四次构图工艺中的一次构图工艺或多次构图工艺形成阻止图形。 图7所示为本发明液晶显示器阵列基板第二实施例结构示意图,该实施例与图3 所示实施例的区别在于图7中,在封框胶区域的四个角上均设置有沿第一方向延伸的条 形凸起41,而图3中只在封框胶区域的一个角上设置沿第一方向延伸的条形凸起41。
图8所示为本发明液晶显示器阵列基板第三实施例结构示意图,该实施例与图3 所示实施例的区别在于图8中,在封框胶区域的一个角上除设置有沿第一方向延伸的条 形凸起41夕卜,还设置有沿第二方向延伸的条形凸起42,第二方向与第一方向垂直。该实施 例中条形凸起41和条形凸起42 —起形成阻止图形。 图8所示的实施例中,在靠近显示区域的位置设置沿第一方向延伸的条形凸起 41,这样可以阻止液态封框胶向显示区域侵入,在远离显示区域的位置设置沿第二方向延 伸的条形凸起42,可以使得液态封框胶向着远离显示区域的方向流动。通过这种不同方向 的条形凸起形成的组合阻止图形,可以在阻止液态封框胶向显示区域侵入的同时引导其向 着远离显示区域的方向流动。 图9所示为本发明液晶显示器阵列基板第四实施例结构示意图,该实施例与图8 所示实施例的区别在于图9中,在封框胶区域的四个角上均设置有沿第一方向延伸的条
7形凸起41和沿第二方向延伸的条形凸起42,而图8中只在封框胶区域的一个角上设置沿第 一方向延伸的条形凸起41和沿第二方向延伸的条形凸起42。 图10所示为本发明液晶显示器阵列基板第五实施例结构示意图,该实施例与图3 所示实施例的区别在于图10中,在封框胶区域的一个角上除设置有沿第一方向延伸的条 形凸起41外,还设置有沿栅线方向延伸的条形凸起43和沿数据线方向延伸的条形凸起44, 其中栅线方向是指阵列基板上栅线的设置方向,通常为水平方向;数据线方向是指阵列基 板上数据线的设置方向,通常为垂直方向。该实施例中,条形凸起41 、43和44 一起形成阻 止图形。 图11所示为本发明液晶显示器阵列基板第六实施例结构示意图,该实施例与图 IO所示实施例的区别在于图9中,在封框胶区域的四个角上均设置有沿第一方向延伸的 条形凸起41、沿栅线方向延伸的条形凸起43和沿数据线方向延伸的条形凸起44,而图10 中只在封框胶区域的一个角上设置有这样的图形。 在图11所示的实施例的基础上,一种较佳的实施例可以是,除了在封框胶区域的 四个角上设置条形凸起41、43和44形成的阻止图形,还可以在封框胶区域中两个与栅线平 行的水平条区域设置与栅线平行的条形凸起43,在封框胶区域中两个与数据线平行的垂直 条状区域设置与数据线平行的条形凸起44,这样可以保证整个封框胶区域都有阻止图形来 阻止封框胶向显示区域侵入。 对于液晶显示器阵列基板第一实施例到第六实施例,其中的条形凸起可以是不连
续的,也可以增加除条形凸起之外的其他形状的图形来有效阻止封框胶向显示区域流动。 本发明提供的液晶显示器阵列基板及其制造方法,在形成TFT的同时,在封框胶
区域形成能够阻止封框胶向显示区域侵入的阻止图形,使得未固化前的液态封框胶不容易
侵入滴注液晶的区域,避免了封框胶对液晶的污染,能够提高液晶显示器的成品率。 最后应说明的是以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽
管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解其依然
可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替
换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精
神和范围。
权利要求
一种液晶显示器阵列基板,包括显示区域和设置在所述显示区域之外的封框胶区域,所述显示区域形成有阵列结构图形,所述封框胶区域用于涂布封框胶,其特征在于,所述封框胶区域内形成有用于阻止封框胶向所述显示区域侵入的阻止图形。
2. 根据权利要求1所述的液晶显示器阵列基板,其特征在于,所述阻止图形为设置在 所述封框胶区域的至少一个角部的条形凸起。
3. 根据权利要求2所述的液晶显示器阵列基板,其特征在于,所述阻止图形至少包括 沿第一方向延伸的条形凸起,所述第一方向为顺时针到栅线方向的角度大于等于O度且小 于90度的方向。
4. 根据权利要求3所述的液晶显示器阵列基板,其特征在于,还包括沿第二方向延伸 的条形凸起,所述第二方向为与所述第一方向垂直的方向;所述沿第一方向延伸的条形凸起靠近所述显示区域,所述沿第二方向延伸的条形凸起 远离所述显示区域。
5. 根据权利要求3所述液晶显示器阵列基板,其特征在于,还包括沿栅线方向延伸的 条形凸起和沿数据线方向延伸的条形凸起。
6. 根据权利要求2-5中任一权利要求所述的液晶显示器阵列基板,其特征在于,所述 条形凸起的厚度为100nm到400nm。
7. —种液晶显示器阵列基板制造方法,包括形成显示区域中阵列结构图形的步骤,其 特征在于,还包括在形成显示区域中阵列结构图形的过程中,在封框胶区域内形成用于阻 止封框胶向所述显示区域侵入的阻止图形的步骤。
8. 根据权利要求7所述的液晶显示器阵列基板制造方法,其特征在于,在封框胶区域 内形成用于阻止封框胶向所述显示区域侵入的阻止图形的步骤包括在形成显示区域中阵 列结构图形的各次构图工艺中,在其中一次构图工艺或其中至少两次构图工艺中,在所述 封框胶区域内形成用于阻止封框胶向所述显示区域侵入的阻止图形;对于在其中至少两次构图工艺中均在在所述封框胶区域内形成用于阻止封框胶向所 述显示区域侵入的阻止图形的情况,各次构图工艺中所使用的掩模板上,阻止图形的形状 和位置均相同。
9. 根据权利要求8所述的液晶显示器阵列基板制造方法,其特征在于,所述在其中一 次构图工艺或其中至少两次构图工艺中,在封框胶区域内形成用于阻止封框胶向所述显示 区域侵入的阻止图形的步骤具体包括步骤11、在形成TFT的栅电极图形的同时,在封框胶区域形成所述阻止图形; 步骤12、在形成有源层图形的同时,形成所述阻止图形。
10. 根据权利要求9所述的液晶显示器阵列基板制造方法,其特征在于,还包括 步骤13、在形成源漏电极图形的同时,形成所述阻止图形。
全文摘要
本发明公开了一种液晶显示器阵列基板及其制造方法,其中液晶显示器阵列基板包括显示区域和设置在所述显示区域之外的封框胶区域,所述显示区域形成有阵列结构图形,所述封框胶区域用于涂布封框胶,所述封框胶区域内形成有用于阻止封框胶向所述显示区域侵入的阻止图形。本发明提供的液晶显示器阵列基板,通过在封框胶区域设置阻止图形,可以阻止封框胶向显示区域侵入,可以减少封框胶对液晶的污染,提高液晶显示器的成品率。
文档编号G02F1/13GK101738787SQ20081022647
公开日2010年6月16日 申请日期2008年11月12日 优先权日2008年11月12日
发明者徐宇博, 赵继刚 申请人:北京京东方光电科技有限公司
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