层叠体的制造方法

专利名称：层叠体的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种如偏振膜或相位差膜那样的具有光学各向 异性的层叠体的制造方法。
背景技术：
在LCD(液晶显示器)中，为了控制显示中的旋光性和双 折射性，使用直线偏振板或圆偏振板。在OLED(有机EL显示 器)中，为了防止外来光线的反射，使用圓偏振板。
目前，在这些偏振板(偏光元件)中，广泛使用如下获得 的偏光元件在聚乙烯醇等高分子材料中溶解或吸附碘或具有 二色性的有机色素，将该膜以一个方向拉伸成膜状，对色素等 进行取向而获得。然而，由此制造的现有偏光元件存在由于所 用的色素或高分子材料而使耐热性或耐光性不足的问题。此外， 还存在液晶装置制造时，薄膜贴合的合格率恶化这样的问题。 此外，也无法实现显示面板的大型化，在制造方面实际上存在 必须进行宽薄膜的拉伸，必须使用非常大的成膜装置的问题。
因此，研究了在玻璃板或透明薄膜等基材上涂布含有二色 性色素的溶液，形成包含二色性色素的膜，利用基底的控制力 (参见例如专利文献l， 2)或涂布时的剪应力(参见例如专利 文献2)等，使二色性色素取向，从而制造偏振膜的方法。
但现状是这些公知的涂布方式产生的偏振膜在性能、制造 的稳定性、操作的容易性方面仍不充分。
例如，通过涂布时的剪切力实现取向结构的方法难以确定 稳定实现充分取向的涂布机理，在通过基底的控制力实现取向 结构的现有方式中，在涂布后的溶液干燥时，取向恐怕会变乱，在制造的稳定性上存在问题。
专利文献l:日本特开2007 - 61755号7>报 专利文献2:美国专利第2400877号公报 专利文献3:日本特表平8- 511109号公才艮

发明内容
发明要解决的问题
本发明的目的是提供能以简单的操作，稳定制造具有高光 学各向异性的层叠体的方法。
解决问题的方法
技术领域：
本发明的要旨是一种层叠体的制造方法，其包括准备含有 水溶性液晶化合物和水的水溶液以及基材的工序，
在上述基材的面上涂布上述水溶液，形成涂膜的涂布工序， 干燥上述涂膜的干燥工序，其中，
上述干燥工序的至少一部分包括将干燥前的上述涂膜置于 70叽RH以上且不足100。/QRH的氛围中以进行干燥，从而将该涂 膜中IO重量％以上的溶剂除去的高湿下干燥工序，
在上述高湿下干燥工序中，通过对水溶性液晶化合物施加 使该水溶性液晶化合物取向的控制力来使该水溶性液晶化合物 取向，在上述基材面上形成光学各向异性层。
在上述高湿下干燥工序中，可以调整上述氛围的湿度，以 使上述高湿下干燥工序的全部干燥时间为3 0 0秒以上。
上述水溶液是在上述涂布工序中不显示液晶性，在上述高 湿下干燥工序中显示出液晶性的溶液。
上述水溶液中的上述水溶性液晶化合物的浓度为O.l ~ 50 重量％ 。
上述光学各向异性层在波长550nm下能显示出吸收二色性。
上述基材的表面可以具有使上述水溶性液晶化合物取向的 各向异性层。
发明效果
根据本发明，可以提供一种能以简单的操作来稳定制造具 有高光学各向异性的层叠体的方法。


图l是示意性说明高湿下干燥工序中的水溶液浓度随干燥 经过时间变化的图表。
具体实施例方式
本发明层叠体的制造方法，其包括准备含有水溶性液晶化 合物和水的水溶液以及基材的工序，在上述基材的面上涂布上 述水溶液，形成涂膜的涂布工序，干燥上述涂膜的干燥工序， 其中，上述干燥工序的至少一部分包括将干燥前的上述涂膜置
于7(r/QRH以上且不足100WRH的氛围中以进行干燥，从而将该 涂膜中的10重量％以上的溶剂除去的高湿下干燥工序，在上述 高湿下干燥工序中，使该水溶性液晶化合物取向，在上述基材 面上形成光学各向异性层。
水溶性液晶化合物的取向通过对水溶性液晶化合物施加使 该水溶性液晶化合物取向的控制力来进行。该控制力可以由例 如取向膜、磁场、剪切力等实现。
本发明中所谓的光学各向异性层，是指在层内垂直的2个方 向上，在吸收、折射等光学性质上具有各向异性的膜，其中， 可以列举具有作为直线偏振膜、圆偏振膜、相位差膜的功能的 膜等。本发明的层叠体最优选在偏振膜中使用。[水溶液J
在本发明所使用的水溶液中，将水溶性液晶化合物溶解在 水中。该水溶性液晶化合物也可以是溶致液晶性化合物。
所谓的溶致液晶性，是指由于温度、色素的变化，引起各 向同性相、液晶相的相转移的性质。此外，本发明中所谓的溶 致液晶性化合物，是在特定的溶剂中，以特定的浓度范围溶解 的情况下，显示出液晶性的化合物(参见丸善林式会社、液晶 便览等)。已知溶致液晶性化合物在液晶状态下通过取向膜、磁 场、剪切力等手段，分子在特定方向上取向。
作为本发明中使用的水溶性液晶化合物，通常使用水溶性 的二色性色素。此外，该色素是具有用于控制取向的液晶相的 色素。本发明中具有液晶相的色素是在溶剂中显示出溶致液晶 性的色素，在室温状态下显示出向列液晶性者，在取向性上优 异，这是优选的。
该液晶相除了向列液晶相以外，还可以列举近晶相液晶相 或胆甾液晶相等。液晶相可以通过用偏光显微镜观察光学图案
进^于确i人、识别。
此外，本发明中使用的该二色性色素是能吸收400 780nm 波长区域下所有波长光线的有机化合物。此外，通过该二色性
吸收二色性。
作为本发明中使用的水溶性液晶化合物的具体例子，可列 举出偶氮类色素、蒽醌类色素、茈类色素、阴丹酮类色素、咪 唑类色素、靛类色素、噁。秦类色素、酞菁类色素、三苯基曱烷 类色素、吡唑啉酮类色素、芘类色素、二苯基曱烷类色素、萘 醌类色素、部花菁类色素、喹酞酮类色素、站吨类色素、茜素 类色素、吖啶类色素、醌亚胺类色素、噻唑类色素、次曱基类偶氮类色素、 蒽醌类色素、茈类色素、阴丹酮类色素和咪唑类色素。这些二 色性色素可以单独使用，也可以将2种以上混合使用。为了得到 黑色的偏振膜，优选混合使用具有不同吸收光谱的多种色素。
此外，这些二色性色素优选包含磺酸基(_S03H)、羧基 (-COOH)或它们的盐、氮类取代基(-NH2、 - NHR、-NR2、 -NR1112(11、 R1、 R2是l价的有机基团))的有机化合物， 特别优选包含磺酸基的有机化合物或其盐。向二色性色素中导 入磺酸基团在提高其在水中的溶解性方面是有效的。在二色性 色素中导入的磺酸基团数量越多，在水中的溶解度就越高。该 磺酸基团的数量可以同时考虑在水中的溶解度以及光学各向异 性层的耐水性来适当选择。
此外，作为本发明中使用的二色性色素的具体例子，可以 列举通式(1 )表示的化合物。
通式(1 )…(色原)(S03M) n (n表示l以上的整数，M表示阳离子。)
作为通式(1)的M,优选氢原子、Li、 Na、 K、 Cs这样的 第一族金属的离子、铵离子等。此外，作为色原部位，优选包 括偶氮衍生物单元、蒽醌衍生物单元、菲4汙生物单元、咪唑衍 生物单元和/或阴丹酮衍生物。
上述通式(1 )表示的二色性色素(A),在溶液中偶氮化 合物和多环式化合物结构等色原成为疏水性部位，且磺酸及其 盐成为亲水性部位，通过两者的平衡，疏水性部位之间和亲水 性部位之间聚集，整体体现为溶致液晶。
作为通式(1 )表示的有机色素的具体例子，可以例示下述 通式(2) ~ (8)表示的化合物等。
7在式(3) (5)中，A为式(a)或(b)表示的基团，n
在式(2)中，R^为氢或氯，112为氢、烷基、ArNH或ArCONH。 作为该烷基，优选碳原子数为l ~4的烷基，其中，更优选曱基 或乙基。作为芳基(Ar)，优选取代或非取代的苯基，其中， 更优选非取代或4位被氯取代的苯基。此外，M与上述通式(l) 相同。
卿)n 式(3)
Win 式(4)
—《SQ3M)n 式(5)为2或3。 A的R^表示氢、烷基、囟素或烷氧基，Ar表示取代或 非取代的芳基。作为烷基，优选碳原子数为1 ~ 4的烷基，其中， 更优选曱基或乙基。卣素优选溴或氯。此外，烷氧基优选碳原 子数为1或2个的烷氧基，其中，更优选甲氧基。作为芳基，优 选取代或非取代的苯基，其中优选非取代或4位被曱氧基、乙氧 基、氯或丁基取代、或3位被甲基取代的苯基。M与上述通式(1 ) 相同。
在式(6)中，n为3 5, M与上述通式(1 )相同。 [化学式4]
在式(7)中，M与上述通式(1 )相同。 [化学式5]
CONH
〃 、^"~HNOC SO3M0
OCX》十《30^ 式(8)
0
在式(8)中，M与上述通式(1 )相同。
在上述化合物中的向有机化合物导入^f黄酸基(磺化)可以 列举例如使硫酸、氯代磺酸或发烟硫酸作用于有机化合物，将 核的氢取代为磺基的方法。上述化合物中的盐是酸的能解离的 氬原子被例如锂离子、钾离子、铯离子、铵离子等l价离子取代 的化合物。
作为本发明中使用的水溶性液晶化合物的其它具体例子， 可以列举在日本特开2006 - 047966号公报、日本特开 2005 - 255846号7>才艮、曰本特开2005 — 154746号^>才艮、曰本斗争 开2002 - 090526号7>报、日本特表平8 - 511109号公报、日本特 表平2004 - 528603号公报中记载的色素。
作为本发明中使用的水溶性液晶化合物，可以使用市售的 二色性色素。作为其例子，可以列举C丄DirectB67、 DSCG (INTAL)、 RU31.156、甲基橙、AH6556、 Sirius Supra Blown RLL、苯紫红素、铜-四羧基酞菁、酸性红266、花青染料、紫 20、茈基双羧基酰亚胺、苯紫红素4B、亚曱基蓝(碱性蓝9)、 亮黄、酸性红18、酸性红27等。
作为本发明中使用的水溶性液晶化合物的水溶液(以下也 仅称为水溶液)的溶剂的水，其导电率优选为20(iS/cm以下， 更优选为0.0001 ~ 5|iS/cm。通过^f吏水的导电率在该范围内，可 以获得具有高的二色比的偏振膜。
在水溶液中，作为溶剂，除了水以外，还可以添加醇类、。 此外，还可以添加甘油、乙二醇等水溶性4匕合物。这些添加物 可以用于调整水溶性液晶化合物的易溶性或水溶液的干燥速 度。这些溶剂的添加量相对于水溶液中的IOO重量J分水，优选为
100重量〗分以下。
水溶液的浓度(水溶性液晶化合物相对于溶剂的重量％) 可以适当调整为能获得在高湿下干燥工序中显示出液晶性的浓
度范围，优选为O.l ~ 50重量％ ,更优选为1~40重量％,特别 优选为1 ~ 30重量％ 。通过使水溶液的浓度在该范围内，从而在 高湿下千燥工序中，涂膜能显示出稳定的液晶状态。
水溶液的pH优选为4 ~ 10。更优选为6~8。
此外，根据需要，水溶液还可以包含选自粘合剂树脂、单 体、固化剂、增塑剂、表面活性剂、热稳定剂、润滑剂、抗氧 化剂、紫外线吸收剂、阻燃剂、抗静电剂、相溶化剂、增稠剂、 流平剂、偶联剂等中的添加物。添加物的添加量优选为水溶液 总量的10重量％以下。
如果在水溶液中添加表面活性剂，则可提高二色性色素对 基材表面的润湿性、涂布性。作为该表面活性剂，优选非离子 表面活性剂。表面活性剂的添加量优选为水溶液总量的5重量％ 以下。
作为本发明中使用的基材，可以使用玻璃板或树脂薄膜。 基材的表面优选具有使水溶性液晶化合物取向的各向异性。因 此，优选在该表面上形成通过研磨进行取向处理的取向膜。作 为这样的基材，可以列举例如在玻璃板上涂布聚酰亚胺膜的基 材。该聚亚胺膜可以是通过公知的方法、例如通过在一定方向 上研磨等，赋予取向性而形成的取向膜。对于用于控制水溶性液晶化合物(色素)取向方向的基材的取向处理，可以通过"液
晶便览"(丸善林式会社，平成12年10月30日发行)第226页~ 239页等中记载的公知方法进行。
在使用树脂薄膜作为基材的情况下，基材可以具有挠性， 因此适用于要求挠性的用途中。树脂薄膜的表面还可以通过研 磨等进行取向处理。此外，还可以在树脂薄膜表面形成由其它 材料构成的取向膜。
作为在基材中使用的树脂薄膜的原料，只要是具有薄膜成 型性的透明树脂，就没有特别限定，可以例示出例如苯乙烯类 树脂、(曱基)丙烯酸类树脂、聚酯类树脂、聚烯烃类树脂、有 机硅类树脂、氟类树脂、聚酰亚胺类树脂、三乙酰基纤维素、 聚乙烯醇类树脂、聚碳酸酯类树脂。
基材的厚度可以根据用途确定，没有特别的限定，通常在 1 ~ 1000(im的范围内。
在涂布工序中，可以在基材面上涂布水溶液而成膜，即， 形成水溶液在基材面上薄薄地展开的层。涂布的方法只要能均 匀涂布涂膜，就没有特别限定，可以适当使用棒涂布、辊涂布 器涂布、苯胺印刷、丝网印刷、帘涂布器涂布、喷涂器涂布、 旋涂器涂布等公知的方法。
涂膜的厚度优选为O.Ol ~ 10pm。
在干燥工序中，千燥涂膜，除去该涂膜中溶剂的约95重量％ 以上。该干燥工序包括通过将干燥前的上述涂膜放置在7 0 % RH 以上且不足10 0 % RH的氛围中进行干燥，除去该涂膜中的10重 量％以上的溶剂的高湿下干燥工序。
在该高湿下干燥工序中，将干燥前的涂膜放置在70MRH以上且不足100。/。RH的氛围中，通过挥发緩慢除去溶剂。在实际 中，通过在该氛围中放置涂布有涂膜的基材来进行。还可以通 过在70。/。RH以上、不足100Q/。RH的氛围中暴露涂膜表面而进 行。该氛围是从涂膜表面至该表面上方至少10mm的位置的空间 部分的氛围，湿度是从涂膜表面上10mm的位置测定的湿度。即， 该氛围并不是在涂膜与空气的界面附近由于挥发而产生的湿度 梯度的一部分。
该高湿的氛围例如可以将作为干燥对象物的涂膜与基材一 起静置于能调节内部湿度的处理室或腔室内而实现。或者，也 可以通过将高湿的空气送入涂膜的上部空间来实现。
涂膜的干燥可以无需从外部积极加热涂膜而在自然干燥状 态下进行。此外，也可以积极加热涂膜或边冷却边干燥。
在本发明中，通过在高湿下干燥工序中，对涂膜中的水溶 性液晶化合物施加控制力而使其取向，该控制力通过形成在基 材面上的取向膜产生，可以使水溶性液晶化合物在与取向膜的 耳又向方向平4于或垂直的方向上耳又向。此外，还可以通过在日本 特开平5 - 297218号/>才艮中记载的方法，对涂膜施加通过一定方 向的电场形成的控制力，从而使水溶性液晶化合物取向。
通过在高湿下干燥工序中，将涂膜置于70。/。RH以上且不足 100。/。RH的氛围中，从而能抑制溶剂从涂膜挥发，防止涂膜粘 度急剧上升，因此在高湿下干燥的过程中，涂膜能长时间保持 液晶状态，从而能在规定时间内，通过该控制力充分使水溶性 液晶化合物进行取向，使水溶性液晶化合物获得均匀且程度高 的取向。此外，该氛围中的空气可以为流动状态，但基本静止 的状态能延緩干燥速度，进行稳定取向，因此是优选的。如果 高湿下干燥工序中的湿度为100 %RH,则涂膜中的溶剂基本不 会挥发，总体干燥时间过长，不利于工业实施。此外，容易引起结露带来的问题。
另 一方面，通过高湿下干燥工序除去的涂膜中的溶剂总量 不足刚涂布后涂膜中溶剂IO重量％的状态下，例如将涂膜从高 湿下干燥工序移至低湿环境的情况下，无法使涂膜长时间保持 液晶状态，因此涂膜中的水溶性液晶化合物无法获得足够取向。
水溶液中水溶性液晶化合物的浓度更优选为低于引起浓度 相转移的浓度。在该情况下，在水溶液刚涂布后，不会形成液 晶相，通过干燥使水溶液浓度上升，达到引起浓度相转移的浓 度以上，从而开始通过控制力进行取向。在本发明中，在高湿 下干燥的过程中，可以使涂膜长时间保持在液晶状态下，进行 非常稳定的水溶性液晶化合物的取向化。还能提高取向度。
在图1的图表中示意性地示出高湿下干燥工序中的涂膜中 溶剂浓度的随时间变化。图1中的横轴是以开始高湿下干燥工序 的时刻为0时经过的时间，纵轴是涂膜中的溶剂浓度。Cu是各 向同性相的浓度区域，Cix是液晶相的浓度区域，Cc是结晶相
的浓度区域。Ct是由各向同性相向液晶相转移的浓度，Cs是由 液晶相向结晶相变化的浓度。直线W1、 W2是在将涂膜放置于 70 % RH以上且不足100 % RH的范围的 一定氛围的情况下，涂膜 中溶剂浓度随时间的变化，直线W1是水溶液中的浓度d比CT 小的情况，直线W2是水溶液中的浓度C2比CT大且比Cs小的情 况。直线D1、 D2是将涂膜放置于不足7(T/。RH的一定氛围的情 况下，涂膜中溶剂浓度随时间的变化，直线D1是水溶液中的浓 度比CT小的情况，直线D2是水溶液中的浓度比CT大且比Cs小的 情况。
t釈是在直线Wl中，涂膜位于液晶相浓度区域的时间带，tw2
是在直线W2中，涂膜位于液晶相浓度区域的时间带，tr^是在直 线D1中，涂膜位于液晶相浓度区域的时间带，tD2是在直线D2中，涂膜位于液晶相浓度区域的时间带。由图l可知，tW1〉tD1,
tW2>tD2，并且，如果C2不是接近于Cs的值，则t^〉tw2〉tm >tD2， 实际上，在直线W1、 W2中的氛围湿度为70。/。RH，直线D1、 D2中的氛围湿度为60% RH的情况下，如果C2不是接近于Cs的 值，则1釈>^2>>101 〉 tD2。
由此，通过将涂膜置于7 0 % RH以上且不足10 0 % RH的范围 的规定氛围中，能延长涂膜位于液晶相浓度区域的时间带，从 而水溶性液晶化合物能获得均匀且高度的取向。
此外，在本发明中，高湿下干燥工序的全部干燥时间为300 秒以上的话，能获得稳定的水溶性液晶化合物的取向化，因此 是优选的。该全部干燥时间为600 ~ 1800秒的话，能获得稳定的 水溶性液晶化合物的取向化，因此是更优选的。通过将氛围调 整为70。/。RH以上且不足100。/QRH范围内的值，设置成不会加快 干燥速度的高湿，从而能使该全部干燥时间为300秒以上。除此 之外，通过将氛围或涂膜的温度设定为不会加快干燥速度那样 的低温，从而使该全部干燥时间为300秒以上，或达到600 ~ 1800 秒。高湿下干燥工序的全部千燥时间是指从将涂膜放置于70 % RH以上且不足100。/qRH的氛園下，至在高湿下干燥工序中溶剂 的80重量％以上通过挥发除去或将涂膜拿到低于70WRH的环 境下的时间。
在本发明中，在干燥工序中，可以在高湿下千燥工序后设 置第二干燥工序。该第二干燥工序仅在高湿下干燥工序中干燥
的涂膜中存在不需要的残余溶剂的情况下，设置该第二千燥工 序。例如，在涂布时，涂膜中所含溶剂中的50重量％在高湿下 干燥工序中干燥除去的情况下，残留溶剂的全部或大部分在第 二干燥工序中除去。在高湿下干燥工序中千燥除去溶剂的全部
1或大部分的情况下，例如在涂布时，涂膜中所含溶剂中的95重 量％以上在高湿下干燥工序中干燥除去时，可以不设置第二千
燥工序。此外，第二干燥工序通常与高湿下干燥工序连续进行。 第二干燥工序中的氛围湿度等条件没有特别的限定，为了缩短 工序时间，优选为高温低湿。在第二干燥工序中，优选刚刚涂 布完成后涂膜中所含溶剂中的95重量％以上被干燥除去。即， 第二干燥工序优选在高湿下千燥工序下干燥的涂膜中，残留有
超过刚涂布后的涂膜中溶剂量的5重量％的溶剂的情况下进行。
通过本发明获得的层叠体基本上由基材、在基材面上设置 的取向的水溶性液晶化合物的层构成，在层叠体中还可以层叠 其他层。例如，还可以在水溶性液晶化合物的层的表面设置由 树脂形成的保护层。此外，还可以在基材表面或背面上预先设 置平滑层、脱模层或易粘合层等。
通过本发明获得的层叠体可以在需要光学各向异性的各种 光学元件中使用，特别优选用作偏振器。在该情况下，取向后 的涂膜的二色比在波长550nm下，优选为20以上，更优选为30 以上。该二色比可以如下计算，即，使用分光光度计，向试样 (涂膜)上入射作为测定光的直线偏振光，相对于涂膜(光学 各向异性层)的取向方向，测定光的偏光电场矢量为平行和垂 直状态时的各个光透射率来计算。
此外，通过本发明获得的层叠体还可以与基材一起使用， 还可以从基材剥离涂膜，作为取向膜，优选在其他支持体或光 学元件中层叠^f吏用。
通过本发明获得的层叠体可以在各种液晶显示装置中使 用。例如，可以在个人电脑监^L器、笔记本电脑、复印机等OA 机器、手机、钟表、数码相机、便携信息终端(PDA)、便携游 戏机等便携机器、数码相机、电视、微波炉等家庭用机器、后监视器、汽车导航系统用监视器、汽车音响等车载用机器、商 业店铺用信息用监视器等展示机器、监视用监视器等警备机器、 护理用监视器、医疗用监视器等液晶显示装置中使用。 [实施例]
制备具有S03H基团的水溶性茈类液晶化合物(才-亍< A 公司制造商品名"NO-15")的水溶液。相对于全部水溶液， 该茈类液晶化合物的浓度为5重量％ 。作为溶剂的水，使用蒸馏 水。该水溶液在23°C下，由各向同性相向液晶相转移的浓度(CT ) 为7重量％, 5重量％时不显示液晶性。将该水溶液通过滑动式 涂布器，涂布在具有聚酰亚胺取向膜的玻璃板基材上。将该聚 酰亚胺取向膜的表面进行研磨处理后，在该取向膜上形成厚度 51im的水溶液的涂布层(涂膜)。接着，立刻将该形成涂膜的玻 璃板基材放入温度24。C,湿度80。/。RH的加湿室(卜—卩w、乂 制造产品名"WET- CABI")内。涂膜中的水分在20分钟(1200 秒)内挥发80重量％。此时，涂膜位于液晶相浓度区域的时间 带(twl)为540秒。然后，緩慢降低加湿室中的湿度，将涂膜 完全干燥。由此所得的层叠体在波长550nm下的二色比为28。
将与实施例1同样获得的、形成涂膜的玻璃板基材放入湿度 55。/qRH的加湿室中。涂膜中的水分在3分钟内挥发95重量％ , 获得层叠体。该层叠体在波长550nm下的二色比为10。此时， 涂膜位于液晶相浓度区域中的时间带(tD1)为57秒。
实施例、比4交例中的测定方法
二色性
使用日本分光公司制造产品名"V-7100"，分别入射波 长550nm的直线偏振光(平行方向的入射光和垂直方向的入射 光)的测定光，使得相对于试样菲类液晶化合物的取向方向，测定光的电场矢量平行和垂直，分别对其测定光的透射率，通
过计算式二色比=(Log ( 1/垂直方向的入射光的透射率))/ (Log ( 1/平行方向的入射光的透射率))计算出。 湿度
使用温度计(ANEMOMASTER6011 ),在距离涂布层的表 面起10mm上方的位置测定。
权利要求
1.一种层叠体的制造方法，其包括准备含有水溶性液晶化合物和水的水溶液以及基材的工序，在上述基材的面上涂布上述水溶液，形成涂膜的涂布工序，干燥上述涂膜的干燥工序，其中，上述干燥工序的至少一部分包括将干燥前的上述涂膜置于70％RH以上且不足100％RH的氛围中以进行干燥，从而将该涂膜中的10重量％以上的溶剂除去的高湿下干燥工序，在上述高湿下干燥工序中，使该水溶性液晶化合物取向，在上述基材面上形成光学各向异性层。
2. 根据权利要求l所述的层叠体的制造方法，其中，调整 所述氛围的湿度，以使上述高湿下干燥工序的全部干燥时间为 300秒以上。
3. 根据权利要求1或2所述的层叠体的制造方法，其中，上 述水溶液是在上述涂布工序中不显示液晶性，在上述高湿下干 燥工序中显示出液晶性的溶液。
4. 根据权利要求l ~ 3任一项所述的层叠体的制造方法，其 中，上述水溶液中的上述水溶性液晶化合物的浓度为O.l ~ 50 重量％ 。
5. 根据权利要求l ~ 4任一项所述的层叠体的制造方法，其 中，上述光学各向异性层在波长550nm下显示出吸收二色性。
6. 根据权利要求l ~ 5任一项所述的层叠体的制造方法，其 中，上述基材的表面具有使上述水溶性液晶化合物取向的各向 异性。
全文摘要
本发明提供一种能以简单的操作稳定制造没有取向不良(多畴)、具有二色比高的光学各向异性的层叠体的方法。一种具备包含溶致液晶性化合物的光学各向异性层和基材的层叠体的制造方法，其包含如下工序准备包含至少一种溶致液晶性化合物和溶剂的溶液的工序(1)；将工序(1)中获得的溶液涂布在表面温度为20℃以下的基材上，形成溶液的涂布层的工序(2)；使工序(2)中获得的涂布层的溶剂挥发，在该挥发过程中使溶致液晶性化合物取向，在基材上形成光学各向异性层的工序(3)。
文档编号G02B5/30GK101542338SQ20088000052
公开日2009年9月23日 申请日期2008年7月1日 优先权日2007年7月19日
发明者井上彻雄, 梅本彻, 西森才将 申请人:日东电工株式会社