专利名称：显影液倾倒设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示器(Liquid Crystal Display;以下简称LCD) 制造领域，尤其涉及一种显影液倾倒设备。
背景技术：
在液晶显示面板的制作过程中，需要经过涂布光刻胶，曝光，显影步骤。 其中，在曝光步骤中在玻璃基板上所涂布的光刻胶会发生化学反应，需要在 曝光后先在玻璃基板上喷涂显影液，显影液可以与曝光后的光刻胶发生化学 反应，以去除在曝光过程中发生了化学反应的光刻胶，而未被曝光的光刻胶 留在玻璃基板上，从而在玻璃基板上形成与曝光掩膜板对应的光刻胶图形。 在显影后，玻璃基板上覆盖有光刻胶的位置，由于在刻蚀的过程中有光刻胶 的保护，相应位置的金属或非金属膜不会受到损害，从而最后达到在玻璃基 板上形成薄膜晶体管(Thin Film Transistor;以下简称TFT)电路的目的。
现有的显影技术中基本都是曝光后先在玻璃基板上喷覆显影液，之后倾 倒显影液，让部份显影液流走，最后洗净玻璃基板上被显影的光刻胶和残留 的显影液。图1为现有显影装置的显影液倾倒设备结构示意图，显影液倾倒 设备主要包括 一设备平台11;现有设备气缸201与传送部固定装置203分 别垂直安装在显影液倾倒设备的两端，现有设备气缸201的下端部与第二旋: 转杠206连接，传送部固定装置203的下端部与第一旋转杠204连接，现有 设备气缸201通过所接第二旋转杠206枢接在设备平台11 一端，传送部固定 装置203通过第一旋转杠204枢接在设备平台11另一端，并且现有设备气缸 201可以第二旋转杠206为支点进4亍旋转，传送部固定装置203可以第一旋 转杠204为支点进行旋转； 一用于承接涂覆有显影液的玻璃基板的传送平台14,传送平台14固接在现有设备气缸201与传送部固定装置203之间，这样 在现有设备气缸201升降时就可以带动传送平台14倾斜，以倾倒玻璃基板上 的显影液。
图2为现有显影装置的显影过程示意图，如图2所示，首先，通过显影 液涂覆设备301在玻璃基板4上涂覆显影液302,使显影液302在玻璃基板4 上均匀分布。传送导轮303保持玻璃基板4的稳定传送，以保持显影液302 的均匀度。在玻璃基板4传送至显影液倾倒设备后，为了去除并回收玻璃基 板4上的显影液302，控制拉伸现有设备气缸伸缩杆205，提升安装在显影液 倾倒设备一端的现有设备气缸201，传送平台14以第一旋转杠204为轴顺时 针旋转，以带动玻璃基板4的相邻现有设备气缸201的那一端上升，并使玻 璃基板4倾斜向传送部固定装置203 —端倾斜。此时，现有设备整列导轮202 可以保证玻璃基板4不会发生偏移。玻璃基板4倾斜到倾斜角度为30度，显 影液302从传送部固定装置203那一端流下，在倾倒完显影液203后，控制 现有设备气缸伸缩杆205,使现有设备气缸201下降，玻璃基板4以第二旋 转杠206为轴逆时针旋转到水平位置，之后将玻璃基板4传送至下一单元。 在玻璃基板4上的光刻胶不管是否曝光，显影液302都可以与其发生化学反 应，曝光后的光刻力交发生了光化学反应后性质改变，因此其与显影液302的 化学反应速度比没有曝光的光刻胶快很多，在显影时曝光了的光刻胶很快就 被显影掉了，而在显影的一些姿势变化或者传送过程中， 一些没曝光的光刻 胶也会被显掉。为了保持玻璃基板4的平稳，玻璃基板4倾斜的过程是一个 比较緩慢的过程，这个过程中显影液302同样在反应那些没有曝光的光刻胶。 因为这种倾倒方式会导致玻璃基板4靠近第一旋转杠204 —端显影液302的 数量较玻璃基板4与现有设备气缸201相邻一端要多，从而致使玻璃基板4 的相邻第一旋转杠204的那一端与显影液302发生化学反应而被显掉的未曝 光的光刻胶要多一些，这会使得玻璃基板4上两端的光刻胶厚度在显影后相 差几十微米。这种现有的显影液倾倒设备导致了玻璃基板上光刻胶的均匀度不良，两 端的光刻胶厚度相差几十微米。因为刻蚀工艺要求的光刻胶厚度是均匀的， 玻璃基板两端的光刻胶厚度相差几十微米很容易导致在刻蚀后玻璃基板的一 端产生不良效果，并降低生产的液晶显示面板的良品率。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术的不足，提供一种显影液倾倒设备，
包括
一设备平台；
垂直设置在所述设备平台上的两个升降装置，所述升降装置的下端部 与所述设备平台通过旋转装置枢接，所述升降装置以所述旋转装置为支点 进行旋转；
一用于承接涂覆有显影液的玻璃基板的传送平台，固接在所述两个升 降装置之间，所述显影液倾倒设备可通过控制任一个所述升降装置的升降 来带动所述传送平台倾斜以倾倒所述玻璃基板上的显影液。
本实用新型提供的显影液倾倒设备，在显影液倾倒设备两端各安装一升 降装置，通过操作升降装置，带动玻璃基板分别向其两端各倾斜一次，两次 倾倒显影液，从而使得玻璃基板两端光刻胶的显影量一致，提高生产的液晶 显示面板的良品率。
图1为现有的显影装置的显影液倾倒设备结构示意图2为现有显影装置的显影过程示意图3为本实用新型显影液倾倒设备实施例一的结构示意图4为本实用新型显影液倾倒设备实施例二的结构示意图5为本实用新型显影液倾倒设备实施例二在显影液倾倒设备在第一次倾倒显影液时的状态示意图6为本实用新型显影液倾倒设备实施例二在显影液倾倒设备在第二次
倾倒显影液时的状态示意图。
主要元件符号说明
l-第一气缸；2-第二气缸；
3-第一整列导^~;4-玻璃基板；
5-第二整列导轮；6-传送平台导轮；
7-第一气缸伸缩杆；8-第一旋转装置；
9-第二旋转装置；10-第二气缸伸缩杆；
ll-i殳备平台；12-第一气缸壁；
13-第二气缸壁；14-传送平台；
15-电磁阀；101-第一升降装置；
102-第二升降装置；201-现有设备气缸；
202-整列导论；203-传送部固定装置；
204-第一旋转杠；205-现有设备气缸伸缩杆;
206-第二旋转杠；301-显影液涂覆设备；
302-显影液；303-传送导轮。
具体实施方式
下面通过附图和实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
图3为本实用新型显影液倾倒设备实施例一的结构示意图。具体实施例 一中的显影液倾倒设备主要包括 一设备平台11;第一升降装置101与第二 升降装置102分别垂直安装在显影液倾倒设备的两端，第一升降装置101的 下端部与第一旋转装置8连接，第二升降装置102的下端部与第二旋转装置 9连接，第一升降装置101通过所接旋转装置8枢接在设备平台11 一端，第 二升降装置102通过所接旋转装置9枢接在设备平台11的另一端，并且第一升降装置101可以旋转装置8为支点进行旋转，第二升降装置102可以旋转 装置9为支点进行旋转； 一用于承接涂覆有显影液的玻璃基板4的传送平台 14,传送平台14固接在第一升降装置101与第二升降装置102之间，这样在 升降装置升降时就可以带动传送平台14倾斜，以倾倒玻璃基板4上的显影液。 首先，升降装置保持在初始状态，将涂覆有显影液的玻璃基板4传送至 显影液倾倒设备的传送平台14上。随后，第一升降装置101上升，由于彼此 之间的连接关系使得第一升降装置101在上升的过程中以第一旋转装置8为 轴旋转，并带动传送平台14临近第一升降装置101的一端上升；此时第二升 降装置102以第二旋转装置9为轴逆时针旋转。此时，由于发生倾斜，玻璃 基板4开始向第二升降装置102 —端倾倒显影液。当第一升降装置101上升 到预定高度后停止，第二升降装置102开始上升，第二升降装置102以第二 旋转装置9为轴旋转，带动传送平台14临近第二升降装置102的一端上升， 使玻璃基板4逐渐达到水平并开始向第一升降装置101方向倾斜，此时，玻 璃基板4开始向第一升降装置101 —端倾倒显影液，完成了显影液的两次相 反方向的倾倒。
这样，玻璃基板4上的显影液完成了向不同方向各倾倒一次的目的，倾 倒完显影液后的玻璃基4反4传送到下一处理线上，显影液倾倒i殳备恢复到初 始状态，接收下一张玻璃基板。
本实施例提供的显影液倾倒设备，在显影液倾倒设备两端各安装一升降 装置，通过搮:作升降装置，带动玻璃基板分别向其两端各倾斜一次，两次倾 倒显影液，从而使得玻璃基板两端光刻胶的显影量一致，提高生产的液晶显 示面板的良品率。
图4为本实用新型显影液倾倒i殳备实施例二的结 示意图。具体实施例 二中的显影液倾倒设备主要包括 一设备平台11;实施例一中所述的升降装 置，在实施例二中具体采用气缸的形式，分别为第一气缸1与第二气缸2， 第一气缸1包括第一气缸壁12和第一气缸伸缩杆7,第二气缸2包括第二气缸壁13和第二气缸伸缩杆10,第一气缸伸缩杆7的下端部与第一旋转装置8 相连，第二气缸伸缩杆10与第二旋转装置9相连，第一气缸l通过第一旋转 装置8枢接在设备平台11上的显影液倾倒设备一端，第二气缸2通过第二旋 转装置9枢接在设备平台11上的显影液倾倒i殳备另一端，第一气缸1以第一 旋转装置8为支点进行旋转，第二气缸2以第二旋转装置9为支点进行旋转， 并且第一气缸1的第一气缸伸缩杆7的可伸缩行程大于第二气缸2的第二气 缸伸缩杆10的可伸缩行程，根据具体情况两气缸选用固定双向气缸； 一控制 装置(未在图中示出)，控制装置通过控制安装在气缸壁上的电磁阀15来控 制气流完成气缸的升降操作；还包括第一整列导轮3与第二整列导轮5，分 别设置在传送平台14的两端，用于在传送平台14倾斜时夹紧固定玻璃基板 4;还包括用于承接涂覆有显影液的玻璃基板4的传送平台14,传送平台14 两端分别固接在气缸壁12与气缸壁13上，这样在第一气缸1或第二气缸2 升降时就可以带动传送平台14倾斜，以倾倒玻璃基板4上的显影液。
首先，两个气缸处于在初始状态。将涂覆有显影液的玻璃基板4传送至 显影液倾倒设备的传送平台14上，并将玻璃基板4固定传送平台14上。随 后，第二气缸2开始运行，第二气釭伸缩杆10发生伸缩，使得第二气缸壁 13上升；第二气缸2以第二旋转装置9为轴旋转，并带动传送平台l4相邻 第二气缸2的一端上升；此时第一气缸1以第一旋转装置8为轴逆时针旋转。 玻璃基板4旋转到与水平面的形成夹角^ (e<30°)，此时的显影液倾倒设备 状态如图5所示。在此过程中，显影液从玻璃基板4的临近第一气缸1的一 端流下，而第二整列导轮5可以保证玻璃基板4在倾斜过程中不会发生位置 偏移。
当第二气缸2上升到传送平台14上的玻璃基板4与水平面成e角时，第 二气缸2停止上升，此后第一气缸1开始上升，第一气缸1以第一旋转装置 8为轴旋转，带动传送平台14临近第一气缸1的一端上升，玻璃基板4逐渐 达到水平并开始向第二气缸2方向倾斜。当第一气缸1提升到使玻璃基板4与水平面所成角度^ (^<0),此时显影液倾倒设备状态如图6所示。在此 过程中显影液从玻璃基板4的靠近第二气缸2的一端流下，完成了显影液的 两次相反方向的倾倒。而第一整列导轮3同样可以保证玻璃基板4在倾斜过 程中不会产生位置偏移。
倾倒完显影液后的玻璃基板4传送到下一处理线，显影液倾倒设备恢复 到初始状态，准备接收下一张玻璃M。
本实施例可以具体应用在4次构图(4MASK)工艺中的刻蚀工艺中。4MASK 工艺对光刻胶在玻璃基板上的最后成型有严格要求。4MASK工艺的玻璃基板 上像素中数据线沟道内的光刻胶的厚度是需要控制在一定范围内并且均匀 的。现有的显影液倾倒设备一般在玻璃基板完成显影液倾倒后，玻璃基板 上像素中数据线沟道内的光刻胶的厚度相差几十微米，对4MASK工艺影响 就会很大，并直接影响4MASK工艺产品的合格率。
而采用本实施例中所述的显影液倾倒设备后，在玻璃基板完成显影液 倾倒后，玻璃基板上各处光刻胶厚度均匀，不会产生数据线沟道内的光刻 胶的厚度相差几十微米的问题，提高了 4MASK工艺产品合格率。本实施例 提供的显影液倾倒设备中，在显影液倾倒设备两端各安装一气缸，通过控制 气缸的升降，带动玻璃基板分别向其两个相反方向各倾斜一次显影液，从而 使得玻璃基板两端光刻胶的显影量一致，提高生产的液晶显示面板的良品 率。
最后应说明的是以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对 其进行限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域 的普通技术人员应当理解其依然可以对本实用新型的技术方案进行修改或 者等同替换，而这些^^改或者等同替换亦不能4吏修改后的技术方案脱离本实 用新型技术方案的精神和范围。
权利要求1、一种显影液倾倒设备，其特征在于，包括一设备平台；垂直设置在所述设备平台上的两个升降装置，所述升降装置的下端部与所述设备平台通过旋转装置枢接，所述升降装置可以所述旋转装置为支点进行旋转；一用于承接涂覆有显影液的玻璃基板的传送平台，固接在所述两个升降装置之间，所述显影液倾倒设备可通过控制任一个所述升降装置的升降来带动所述传送平台倾斜以倾倒所述玻璃基板上的显影液。
2、 根据权利要求1所述的显影液倾倒设备，其特征在于，所述升降 装置为气缸，所述气缸包括气缸壁和气缸伸缩杆，所述气缸伸缩杆与所述 设备平台通过旋转装置枢接，所述传送平台固接在所述气缸壁上。
3、 根据权利要求2所述的显影液倾倒设备，其特征在于，所述气缸 为固定型双向气缸。
4、 根据权利要求2或3所述的显影液倾倒设备，其特征在于，所述 气缸还连接有用于通过控制所述气缸上的电磁阀来控制气流完成所述气 缸升降的控制装置。
5、 根据权利要求1或2或3所述的显影液倾倒设备，其特征在于， 还包括设置在所述传送平台两端的、且当所述传送平台倾斜时用于夹紧固定 所述玻璃基板的整列导轮。
6、 根据权利要求2或3所述的显影液倾倒设备，其特征在于，两个 所述气缸的气缸伸缩杆的可伸缩行程不相同。
专利摘要本实用新型公开了一种显影液倾倒设备。该显影液倾倒设备包括一设备平台；垂直设置在所述设备平台上的两个升降装置，升降装置的下端部与设备平台通过旋转装置枢接，以旋转装置为支点进行旋转；一用于承接涂覆有显影液的玻璃基板的传送平台，固接在两个升降装置之间，显影液倾倒设备可通过控制任一个升降装置的升降来带动传送平台倾斜以倾倒玻璃基板上的显影液。本实用新型在显影液倾倒设备两端分别安装升降装置，通过控制升降设备，使玻璃基板向两端各倾倒一次显影液，从而使得玻璃基板两端光刻胶的显影量一致，提高了玻璃基板上光刻胶均匀度，保证刻蚀后玻璃基板上的薄膜厚度的均匀度，提高了良品率。
文档编号G02F1/1368GK201429770SQ200920110210
公开日2010年3月24日 申请日期2009年7月15日 优先权日2009年7月15日
发明者海 余, 杰 刘, 张学智, 李金平, 王丽君, 简月圆, 郑铁元 申请人:北京京东方光电科技有限公司