专利名称：一种具有标尺结构的彩色滤光基板及其制造方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示面板领域，尤其涉及液晶显示面板中彩色滤光基板的结构及其制造方法，具体地说，涉及到在生产过程中遮光图案层(BM层)与彩色滤光层(RGB层) 图案尺寸的监测。
背景技术：
近年来，液晶显示不仅在信息通讯装置，甚至一般的电器中也迅速得到了普及。液晶显示的主要部件是液晶显示面板，其中的彩色滤光基板是对显示质量非常重要的关键部件之一，其结构一般包括透明玻璃基板、遮光图案层、彩色滤光层、公用电极层以及间隔柱等。其结构请参见图1所示，图1示出了一个像素结构。如图所示，遮光图案层101具有一开口区域102，彩色滤光层103 (该彩色滤光层为红色滤光层、蓝色滤光层或绿色滤光层之一)覆盖在该开口区域102上，并且其四周与遮光图案层101有一定的重叠量。在透明玻璃基板上形成遮光图案层与彩色滤光层的方法通常采用光阻涂布的颜料分散法，即首先将液态光阻涂布在玻璃基板表面，然后通过带有指定图案的曝光掩膜板， 使用近接式曝光机进行曝光，再经过显影及烘烤过程形成预设的图案。图2示意性地示出了该曝光过程。随着液晶显示器行业的不断发展，彩色滤光基板的尺寸不断增加，因此，相应地在曝光过程中使用的曝光掩膜板尺寸也会随之增大。当彩色滤光基板的尺寸增大至G5(即 1100*1300cm)及以上时，曝光时掩膜板会由于重力而不可避免地产生弯曲(bending)，造成曝光后图形线幅面内分布不均勻，引起曝光后图案的高度及宽度在整个彩色滤光基板面内分布不均勻，造成光学特性分布不均勻，以及遮光图案层与彩色滤光层重叠区域的偏移， 偏移严重时还会产生漏光。为了避免以上问题的产生，提高彩色滤光基板产品的品质，在彩色滤光基板实际生产过程中需要监测遮光图案层与彩色滤光层的图案高度和宽度，并根据其偏移情况及时作出调整。已有技术中通常使用显微侧长仪来测量上述高度和宽度。这种传统的方式需要花费较长时间，而且需要购买专用的大型在线显微测长仪，不利于在线控制同时也增加了成本。
发明内容
基于背景技术中存在的上述问题，本发明的目的在于提供一种彩色滤光基板，在基板上形成有确认遮光图案和/或彩色滤光图案的宽度的标尺结构，通过这种标尺结构可以使制造者通过目视直接和简便地确认遮光图案或彩色滤光图案的高度和宽度变化，从而快速、方便且经济地控制和调整遮光图案层与彩色滤光层的图案的高度和宽度，提高彩滤光基板的品质。本发明还同时提供一种制造上述具有标尺结构的彩色滤光基板的制造方法。根据上述目的，本发明提供彩色滤光基板，包括
透明玻璃基板；遮光图案层，位于所述透明玻璃基板的显示区域上，所述遮光图案层具有开口区域；彩色滤光层，位于所述遮光图案层的开口区域上，并与所述遮光图案层重叠；基准高度遮光图案组，包含多个高度相同的基准高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度遮光图案之间的间距相等；参照高度遮光图案组，包含多个高度不同的参照高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度遮光图案组与所述基准高度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照高度遮光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度遮光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；基准宽度遮光图案组，包含多个宽度相同的基准宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度遮光图案之间的间距相等；参照宽度遮光图案组，包含多个宽度不同的参照宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度遮光图案组与所述基准宽度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照宽度遮光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度遮光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上。在所述的彩色滤光基板中，所述参照高度遮光图案组中至少一个参照高度遮光图案的高度与所述基准高度遮光图案组中相邻基准高度遮光图案之间的间距相等；所述参照宽度遮光图案组中至少一个参照宽度遮光图案组的宽度与所述基准宽度遮光图案组中相邻基准宽度遮光图案之间的间距相等。在所述的彩色滤光基板中，所述参照高度遮光图案组中各参照高度遮光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度遮光图案的高度值H(m) 符合下形式H(m) = H0+(m-l)A ；其中，HO为最小高度；m为所述参照高度遮光图案的编号；A为高度增加量。在所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照宽度遮光图案组中各参照宽度遮光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照宽度遮光图案的宽度值W(n)符合以下形式W (n) = W0+(n-l)B ；其中，WO为最小宽度；η为所述参照宽度遮光图案的编号；B为宽度增加量。在所述的彩色滤光基板中，所述参照高度遮光图案组中参照高度遮光图案的个数在20至40个之间；所述参照宽度遮光图案组中参照宽度遮光图案的个数在20至40个之间。在所述的彩色滤光基板中，A的值为0. 3-2 μπι, B的值为0. 3-2 μ m。在所述的彩色滤光基板中，A的值为1 μ m，B的值为1 μ m。本发明还提供一种彩色滤光基板，包括透明玻璃基板；遮光图案层，位于所述透明玻璃基板的显示区域上，所述遮光图案层具有开口区域；
彩色滤光层，位于所述遮光图案层的开口区域上，并与所述遮光图案层重叠；基准高度滤光图案组，包含多个高度相同的基准高度滤光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度滤光图案之间的间距相等；参照高度滤光图案组，包含多个高度不同的参照高度滤光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度滤光图案组与所述基准高度滤光图案组并列排列，并且，每个所述参照高度滤光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度滤光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；基准宽度滤光图案组，包含多个宽度相同的基准宽度滤光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度滤光图案之间的间距相等；参照宽度滤光图案组，包含多个宽度不同的参照宽度滤光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度滤光图案组与所述基准宽度滤光图案组并列排列，并且，每个所述参照宽度滤光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度滤光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上。在所述的彩色滤光基板中，所述参照高度滤光图案组中至少一个参照高度滤光图案的高度与所述基准高度滤光图案组中相邻基准高度滤光图案之间的间距相等；所述参照宽度滤光图案组中至少一个参照宽度滤光图案组的宽度与所述基准宽度滤光图案组中相邻基准宽度滤光图案之间的间距相等。在所述的彩色滤光基板中，在所述基准高度滤光图案组、所述参照高度滤光图案组、所述基准宽滤光图案组和所述参照宽度滤光图案组与所述透明玻璃基板之间还设置有遮光图案底层。在所述的彩色滤光基板中，所述参照高度滤光图案组中各参照高度滤光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度滤光图案的高度值 H' (m)符合以下形式H' (m' ) = H' 0+(m' _1)A'；其中，H' 0为最小高度；m'为所述参照高度滤光图案的编号；A'为高度增加量。在所述的彩色滤光基板中，所述参照宽度滤光图案组中各参照宽度滤光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照宽度滤光图案的宽度值 W' (η)符合以下形式W' (n' ) = W' 0+(n' _1)B'；其中，W' 0为最小宽度；η'为所述参照宽度滤光图案的编号；B'为宽度增加量。在所述的彩色滤光基板中，所述参照高度滤光图案组中参照高度滤光图案的个数在20至40个之间；所述参照宽度滤光图案组中参照宽度滤光图案的个数在20至40个之间。在所述的彩色滤光基板中，A'的值为0.3-2 μ m，B'的值为0. 3_2 μ m。在所述的彩色滤光基板中，A'的值为1 μ m，B'的值为1 μ m。根据上述目的，本发明还提供一种彩色滤光基板的制造方法，包括提供一透明玻璃基板；在所述透明玻璃基板的显示区域上形成遮光图案层；同时地在所述透明玻璃基板的非显示区域上形成基准高度遮光图案组和基准宽度遮光图案组；所述基准高度遮光图案组包含多个高度相同的基准高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度遮光图案之间的间距相等；所述基准宽度遮光图案组包含多个宽度相同的基准宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度遮光图案之间的间距相等；在所述透明玻璃基板的非显示区域上形成参照高度遮光图案组和参照宽度遮光图案组；所述参照高度遮光图案组包含多个高度不同的参照高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度遮光图案组与所述基准高度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照高度遮光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度遮光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；所述参照宽度遮光图案组包含多个宽度不同的参照宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度遮光图案组与所述基准宽度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照宽度遮光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度遮光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上；以及在所述遮光图案层的开口区域形成彩色滤光层。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，所述参照高度遮光图案组中至少一个参照高度遮光图案的高度与所述基准高度遮光图案组中相邻基准高度遮光图案之间的间距相等；所述参照宽度遮光图案组中至少一个参照宽度遮光图案组的宽度与所述基准宽度遮光图案组中相邻基准宽度遮光图案之间的间距相等。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，其特征在于，所述参照高度遮光图案组中各参照高度遮光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度遮光图案的高度值H(m)符合以下形式H(m) = H0+(m-l)A ；其中，HO为最小高度；m为所述参照高度遮光图案的编号；A为高度增加量。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，所述参照宽度遮光图案组中各参照宽度遮光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照宽度遮光图案的宽度值W(n)符合以下形式W (n) = W0+(n-l)B ；其中，WO为最小宽度；η为所述参照宽度遮光图案的编号；B为宽度增加量。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，所述参照高度遮光图案组中参照高度遮光图案的个数在20至40个之间；所述参照宽度遮光图案组中参照宽度遮光图案的个数在20 至40个之间。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，A的值为0. 3-2 μ m，B的值为0. 3-2 μ m。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，A的值为1 μ m，B的值为1 μ m。本发明还提供一种彩色滤光基板的制造方法中，包括提供一透明玻璃基板；在所述透明玻璃基板的显示区域上形成遮光图案层；同时地在所述透明玻璃基板的非显示区域上形成基准高度滤光图案组和参照高度滤光图案组，所述基准高度滤光图案组包含多个高度相同的基准高度滤光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度滤光图案之间的间距相等；所述参照高度滤光图案组包含多个高度不同的参照高度滤光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度滤光图案组与所述基准高度滤光图案组并列排列，并且，每个所述参照高度滤光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度滤光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；在所述透明玻璃基板的非显示区域上形成基准宽度滤光图案组和参照宽度滤光图案组，所述基准宽度滤光图案组包含多个宽度相同的基准宽度滤光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度滤光图案之间的间距相等；所述参照宽度滤光图案组包含多个宽度不同的参照宽度滤光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度滤光图案组与所述基准宽度滤光图案组并列排列，并且，每个所述参照宽度滤光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度滤光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上；以及在所述遮光图案层的开口区域形成彩色滤光层。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，所述参照高度滤光图案组中至少一个参照高度滤光图案的高度与所述基准高度滤光图案组中相邻基准高度滤光图案之间的间距相等；所述参照宽度滤光图案组中至少一个参照宽度滤光图案组的宽度与所述基准宽度滤光图案组中相邻基准宽度滤光图案之间的间距相等。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，在所述基准高度滤光图案组、所述参照高度滤光图案组、所述基准宽滤光图案组和所述参照宽度滤光图案组与所述透明玻璃基板之间还设置有遮光图案底层。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，所述参照高度滤光图案组中各参照高度滤光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度滤光图案的高度值H' (m)符合以下形式H' (m' ) = H' 0 十(m' _1)A'；其中，H' 0为最小高度；m'为所述参照高度滤光图案的编号；A'为高度增加量。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，所述参照宽度滤光图案组中各参照宽度滤光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照宽度滤光图案的宽度值W' (η)符合以下形式W' (n' ) = W' 0+(n' _1)B'；其中，W' 0为最小宽度；η'为所述参照宽度滤光图案的编号；B'为宽度增加量。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，所述参照高度滤光图案组中参照高度滤光图案的个数在20至40个之间；所述参照宽度滤光图案组中参照宽度滤光图案的个数在20 至40个之间。在所述的彩色滤光基板的制造方法中，A'的值为0.3_2μπι，Β'的值为 0. 3-2 μ m0在所述的彩色滤光基板的制造方法中，A'的值为1 μ m，B'的值为1 μ m。
图1示意性的示出了传统的彩色滤光基板中遮光图案层与彩色滤光层的结构；图2是采用光阻涂布颜料分散法形成遮光图案层与彩色滤光层的示意图3是本发明的彩色滤光基板的示意图；图4A是本发明的彩色滤光基板中非显示区域上的一种尺结构的示意图；图4B是本发明的在形成遮光图案层的过程中发生图案高度变化的效果图；图5A是本发明的彩色滤光基板中非显示区域上的另一种尺结构的示意图；图5B是本发明的在形成遮光图案层的过程中发生图案宽度变化的效果图；图6A是本发明的彩色滤光基板中非显示区域上的又一种尺结构的示意图；图6B是本发明的在形成滤光图案层的过程中发生图案高度变化的效果图；图7A是本发明的彩色滤光基板中非显示区域上的又一种尺结构的示意图；图7B是本发明的在形成滤光图案层的过程中发生图案宽度变化的效果图。
具体实施例方式以下将结合附图，详细描述本发明的实施例。但是，应当理解，以下所示的实施例是为使本发明的技术思路具体化而进行的举例说明，并非特指本发明。没有脱离本发明专利申请的范围所示的技术思路，均可同等地应用在各种变形例子上。图3从整体上示意性的示出了彩色滤光基板的示意图。如图3所示，根据最终切割成的显示面板的大小，整块彩色滤光基板包含有多个显示区域301，在显示区域301之外， 都为非显示区域。在本发明中，在显示区域301内形成遮光图案层和彩色滤光层的结构仍与传统技术相同，但在非显示区域302中，本发明作了改进，即在彩色滤光基板的非显示区域302内形成本发明的标尺结构。下面将结合附图描述本发明在非显示区域302内形成的标尺结构以及形成方法。请参见图4A，图4A局部地示出了本发明的彩色滤光基板中非显示区域上的一种标尺结构。如图4A所示，在图3所示的彩色滤光基板的非显示区域302上，沿垂直方向先形成基准高度遮光图案组401，基准高度遮光图案组401包含了多个高度相同的基准高度遮光图案401A、40IB、40IC和40ID。在本实施例中，仅示出了四个基准高度遮光图案，但应当理解，这仅是一个用于说明本发明的一个实施例，并非对本发明基准高度遮光图案个数的限制，该个数可以根据实际需要而定。在本发明的另一个实施例中，该个数可以设置在20 至40之间。基准高度遮光图案组401中各个基准高度遮光图案401A、401B...沿垂直方向分布于透明玻璃基板的非显示区域上，并且，相邻基准高度遮光图案之间的间距相等。即如图 4A所示，它们之间的间距均为I。同样，在图3所示的彩色滤光基板的非显示区域302上，沿垂直方向形成参照高度遮光图案组402，对照高度遮光图案组402也包含了多个高度不同的参照高度遮光图案 402A、402B、402C和402D。在本实施例中，仅示出了四个参照高度遮光图案，但应当理解，这仅是一个用于说明本发明的一个实施例，并非对本发明参照高度遮光图案个数的限制，该个数可以根据实际需要而定。在本发明的另一个实施例中，该个数可以设置在20至40之间。参照高度遮光图案组402中各个参照高度遮光图案402A、402B...沿垂直方向分布于透明玻璃基板的非显示区域上。在排列方式上，各参照高度遮光图案402A、402B...在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列(当然，也可以在垂直方向上以高度值从大到小的顺序排列)。每个参照高度遮光图案402A、402B...的高度值符合以下公式H(m) = H0+(m-l)A ；其中，H(m)为第m个参照高度遮光图案的高度值；HO为最小高度；m为所述参照高度遮光图案的编号；A为高度增加量。本技术领域的普通技术人员可以理解，在本发明中， HO和A数值可以根据实际情况而定，通常其数量级为μ m。基准高度遮光图案组401与参照高度遮光图案组402之间并列排列，并且，每个参照高度遮光图案401A、401B...的垂直方向中心线分别与基准高度遮光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线(如图4A中X-X')上。请参见图4B，图4B示出了在形成遮光图案层的过程中发生的图案高度变化的效果图。如图4A所示，原设计中，可以把参照高度遮光图案组402中至少一个参照高度遮光图案的高度设计与与基准高度遮光图案组401中相邻基准高度遮光图案之间的间距I相等； 例如图4A中的参照高度遮光图案402B的高度与间距I相等。如果由于各种情况使遮光图案的高度发生的变化，则参照高度遮光图案组402中各参照高度遮光图案402A、402B...的高度也会相应地发生变化。由于各参照高度遮光图案402A、402B高度不一致，因此，它们的高度发生变化的量也不一致。如果产生了如图4B所示的结果，即实际得到参照高度遮光图案组中的参照高度遮光图案402C的高度变得与间距I相等，则可以推测出遮光图案在高度方向上发生的一个单位的变化。可以以此为基准及时调整曝光掩膜板和曝光机的位置，消除这一高度变化。如果实际得到的参照高度遮光图案组中参照高度遮光图案402D的高度变得与间距I相等，则可以推测出遮光图案在高度方向上发生的二个单位的变化，以此类推。在图4A和图4B的实施例中，解决了测量遮光图案在高度方向上的变化的问题，类似地，遮光图案在宽度方向上也存在同样的问题。请参见图5A，图5A局部地示出了本发明的彩色滤光基板中非显示区域上的另一种标尺结构。如图5A所示，在图3所示的彩色滤光基板的非显示区域302上，沿水平方向先形成基准宽度遮光图案组501，基准宽度遮光图案组501包含了多个宽度相同的基准宽度遮光图案501A、501B、501C和501D。在本实施例中，仅示出了四个基准宽度遮光图案，但应当理解，这仅是一个用于说明本发明的一个实施例，并非对本发明基准宽度遮光图案个数的限制，该个数可以根据实际需要而定。在本发明的另一个实施例中，该个数可以设置在 20至40之间。基准宽度遮光图案组501中各个基准宽度遮光图案501A、501B...沿水平方向分布于透明玻璃基板的非显示区域上，并且，相邻基准宽度遮光图案之间的间距相等。即如图 5A所示，它们之间的间距均为I’。同样，在图3所示的彩色滤光基板的非显示区域302上，沿水平方向形成参照宽度遮光图案组502，对照宽度遮光图案组502也包含了多个宽度不同的参照宽度遮光图案 502A、502B、502C和502D。在本实施例中，仅示出了四个参照宽度遮光图案，但应当理解，这仅是一个用于说明本发明的一个实施例，并非对本发明参照宽度遮光图案个数的限制，该个数可以根据实际需要而定。在本发明的另一个实施例中，该个数可以设置在20至40之间。参照宽度遮光图案组502中各个参照宽度遮光图案502A、502B...沿水平方向分布于透明玻璃基板的非显示区域上。
在排列方式上，各参照宽度遮光图案502A、502B...在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列(当然，也可以在水平方向上以宽度值从大到小的顺序排列)。每个参照宽度遮光图案502A、502B...的宽度值符合以下公式W (n) = W0+(n-l)B ；其中，W(n)为第η个参照宽度遮光图案的宽度值;WO为最小宽度；η为所述参照宽度遮光图案的编号；B为宽度增加量。本技术领域的普通技术人员可以理解，在本发明中， WO和B数值可以根据实际情况而定，通常其数量级为μ m。基准宽度遮光图案组501与参照宽度遮光图案组502之间并列排列，并且，每个参照宽度遮光图案501A、501B...的水平方向中心线分别与基准宽度遮光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线(如图5A中Y-Y')上。请参见图5B，图5B示出了在形成遮光图案层的过程中发生的图案宽度变化的效果图。如图5A所示，原设计中，可以把参照宽度遮光图案组502中至少一个参照宽度遮光图案的宽度设计与与基准宽度遮光图案组501中相邻基准宽度遮光图案之间的间距Γ 相等；例如图5Α中的参照宽度遮光图案502Β的宽度与间距Γ相等。如果由于各种情况使遮光图案的宽度发生的变化，则参照宽度遮光图案组502中各参照宽度遮光图案502Α、 502Β...的宽度也会相应地发生变化。由于各参照宽度遮光图案502Α、502Β宽度不一致， 因此，它们的宽度发生变化的量也不一致。如果产生了如图5Β所示的结果，即实际得到参照宽度遮光图案组中的参照宽度遮光图案502C的宽度变得与间距I相等，则可以推测出遮光图案在宽度方向上发生的一个单位的变化。可以以此为基准及时调整曝光掩膜板和曝光机的位置，消除这一宽度变化。如果实际得到的参照宽度遮光图案组中参照宽度遮光图案 502D的宽度变得与间距I相等，则可以推测出遮光图案在宽度方向上发生的二个单位的变化，以此类推。在图4Α和图5Α的实施例中，解决了测量遮光图案在高度和宽度方向上的变化的问题。同样，在制造彩色滤光基板的过程中，还包括了彩色滤光图案的形成，其在形成过程中同样存在滤光图案宽度和高度的变化。因此，本发明还提供了解决测量滤光图案在高度和宽度方向上的变化的问题的技术方案。请参见图6Α，图6Α局部地示出了本发明的彩色滤光基板中非显示区域上的又一种标尺结构。如图6Α所示，在图3所示的彩色滤光基板的非显示区域302上，沿垂直方向先形成基准高度滤光图案组601，基准高度滤光图案组601包含了多个高度相同的基准高度滤光图案601A、601B、601C和601D。在本实施例中，仅示出了四个基准高度滤光图案，但应当理解，这仅是一个用于说明本发明的一个实施例，并非对本发明基准高度滤光图案个数的限制，该个数可以根据实际需要而定。在本发明的另一个实施例中，该个数可以设置在 20至60之间。基准高度滤光图案组601中各个基准高度滤光图案601A、601B...沿垂直方向分布于透明玻璃基板的非显示区域上，并且，相邻基准高度滤光图案之间的间距相等。即如图 6A所示，它们之间的间距均为J。同样，在图3所示的彩色滤光基板的非显示区域302上，沿垂直方向形成参照高度滤光图案组602，对照高度滤光图案组602也包含了多个高度不同的参照高度滤光图案 602A、602B、602C和602D。在本实施例中，仅示出了四个参照高度滤光图案，但应当理解，这仅是一个用于说明本发明的一个实施例，并非对本发明参照高度滤光图案个数的限制，该个数可以根据实际需要而定。在本发明的另一个实施例中，该个数可以设置在20至60之间。参照高度滤光图案组602中各个参照高度滤光图案602A、602B...沿垂直方向分布于透明玻璃基板的非显示区域上。在排列方式上，各参照高度滤光图案602A、602B...在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列(当然，也可以在垂直方向上以高度值从大到小的顺序排列)。每个参照高度滤光图案602A、602B...的高度值符合以下公式H' (m' ) = H' 0+(m' _1)A'；其中，H' (m')为第m'个参照高度滤光图案的高度值；H' 0为最小高度；m'为所述参照高度滤光图案的编号；A'为高度增加量。本技术领域的普通技术人员可以理解， 在本发明中，H' 0和A'数值可以根据实际情况而定，通常其数量级为μ m。基准高度滤光图案组601与参照高度滤光图案组602之间并列排列，并且，每个参照高度滤光图案601A、601B...的垂直方向中心线分别与基准高度滤光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线(如图6A中0-0')上。请参见图6B，图6B示出了在形成滤光图案层的过程中发生的图案高度变化的效果图。如图6A所示，原设计中，可以把参照高度滤光图案组602中至少一个参照高度滤光图案的高度设计与与基准高度滤光图案组601中相邻基准高度滤光图案之间的间距J相等； 例如图6A中的参照高度滤光图案602B的高度与间距J相等。如果由于各种情况使滤光图案的高度发生的变化，则参照高度滤光图案组602中各参照高度滤光图案602A、602B...的高度也会相应地发生变化。由于各参照高度滤光图案602A、602B高度不一致，因此，它们的高度发生变化的量也不一致。如果产生了如图6B所示的结果，即实际得到参照高度滤光图案组中的参照高度滤光图案602C的高度变得与间距J相等，则可以推测出滤光图案在高度方向上发生的一个单位的变化。可以以此为基准及时调整曝光掩膜板和曝光机的位置，消除这一高度变化。如果实际得到的参照高度滤光图案组中参照高度滤光图案602D的高度变得与间距J相等，则可以推测出滤光图案在高度方向上发生的二个单位的变化，以此类推。在图6A和图6B的实施例中，解决了测量滤滤光图案在高度方向上的变化的问题， 类似地，滤光图案在宽度方向上也存在同样的问题。请参见图7A，图7A局部地示出了本发明的彩色滤光基板中非显示区域上的另一种标尺结构。如图7A所示，在图3所示的彩色滤光基板的非显示区域302上，沿水平方向先形成基准宽度滤光图案组701，基准宽度滤光图案组701包含了多个宽度相同的基准宽度滤光图案701A、701B、701C和701D。在本实施例中，仅示出了四个基准宽度滤光图案，但应当理解，这仅是一个用于说明本发明的一个实施例，并非对本发明基准宽度滤光图案个数的限制，该个数可以根据实际需要而定。在本发明的另一个实施例中，该个数可以设置在 20至40之间。基准宽度滤光图案组701中各个基准宽度滤光图案701A、701B...沿水平方向分布于透明玻璃基板的非显示区域上，并且，相邻基准宽度滤光图案之间的间距相等。即如图 7A所示，它们之间的间距均为J’。同样，在图3所示的彩色滤光基板的非显示区域302上，沿水平方向形成参照宽度滤光图案组702，对照宽度滤光图案组702也包含了多个宽度不同的参照宽度滤光图案 702A、702B、702C和702D。在本实施例中，仅示出了四个参照宽度滤光图案，但应当理解，这仅是一个用于说明本发明的一个实施例，并非对本发明参照宽度滤光图案个数的限制，该个数可以根据实际需要而定。在本发明的另一个实施例中，该个数可以设置在20至40之间。参照宽度滤光图案组702中各个参照宽度滤光图案702A、702B...沿水平方向分布于透明玻璃基板的非显示区域上。在排列方式上，各参照宽度滤光图案702A、702B...在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列(当然，也可以在水平方向上以宽度值从大到小的顺序排列)。每个参照宽度滤光图案702A、702B...的宽度值符合以下公式W' (n' ) = W' 0+(n' _1)B'；其中，W' (n')为第η'个参照宽度滤光图案的宽度值;W' 0为最小宽度；η'为所述参照宽度滤光图案的编号；B'为宽度增加量。本技术领域的普通技术人员可以理解， 在本发明中，W' 0和B'数值可以根据实际情况而定，通常其数量级为μ m。基准宽度滤光图案组701与参照宽度滤光图案组702之间并列排列，并且，每个参照宽度滤光图案701A、701B...的水平方向中心线分别与基准宽度滤光图案组间距的水平方向中心线在一水平线(如图7A中P-P')上。请参见图7B，图7B示出了在形成滤光图案层的过程中发生的图案宽度变化的效果图。如图7A所示，原设计中，可以把参照宽度滤光图案组702中至少一个参照宽度滤光图案的宽度设计与与基准宽度滤光图案组701中相邻基准宽度滤光图案之间的间距J相等； 例如图7A中的参照宽度滤光图案702B的宽度与间距J相等。如果由于各种情况使滤光图案的宽度发生的变化，则参照宽度滤光图案组702中各参照宽度滤光图案702A、702B...的宽度也会相应地发生变化。由于各参照宽度滤光图案702A、702B宽度不一致，因此，它们的宽度发生变化的量也不一致。如果产生了如图7B所示的结果，即实际得到参照宽度滤光图案组中的参照宽度滤光图案702C的宽度变得与间距J'相等，则可以推测出滤光图案在宽度方向上发生的一个单位的变化。可以以此为基准及时调整曝光掩膜板和曝光机的位置， 消除这一宽度变化。如果实际得到的参照宽度滤光图案组中参照宽度滤光图案702D的宽度变得与间距J'相等，则可以推测出滤光图案在宽度方向上发生的二个单位的变化，以此类推。在图6A和图7A的实施例中，滤光基准高度滤光图案组601、参照高度滤光图案组 602、滤光基准宽度滤光图案组701和参照宽度滤光图案组702直接形成在非显示区域的玻璃基板上，在另一个实施例中，在基准高度滤光图案组601、参照高度滤光图案组602、基准宽度滤光图案组710和参照宽度滤光图案组702与透明玻璃基板之间还可以设置一遮光图案底层(图中未示出)。该实施例的效果在于，测试环境更接近实际情况，可以更准确地测试滤光图案的宽度变化。如上所述，在上述的实施例中分析描述了测量遮光图案在高度和宽度方向上的变化的实施例和测量滤光图案在高度和宽度方向上的变化的实施例，可以理解，这些实施例都可以单独地实施，以解决各自的问题，也可以组合在一个实施例中实施。
权利要求
1.一种彩色滤光基板，包括 透明玻璃基板；遮光图案层，位于所述透明玻璃基板的显示区域上，所述遮光图案层具有开口区域； 彩色滤光层，位于所述遮光图案层的开口区域上，并与所述遮光图案层重叠； 基准高度遮光图案组，包含多个高度相同的基准高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度遮光图案之间的间距相等；参照高度遮光图案组，包含多个高度不同的参照高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度遮光图案组与所述基准高度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照高度遮光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度遮光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；基准宽度遮光图案组，包含多个宽度相同的基准宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度遮光图案之间的间距相等；参照宽度遮光图案组，包含多个宽度不同的参照宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度遮光图案组与所述基准宽度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照宽度遮光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度遮光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上。
2.如权利要求1所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照高度遮光图案组中至少一个参照高度遮光图案的高度与所述基准高度遮光图案组中相邻基准高度遮光图案之间的间距相等；所述参照宽度遮光图案组中至少一个参照宽度遮光图案组的宽度与所述基准宽度遮光图案组中相邻基准宽度遮光图案之间的间距相等。
3.如权利要求2所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照高度遮光图案组中各参照高度遮光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度遮光图案的高度值H(m)符合下形式H(m) = H0+(m-l)A ；其中，HO为最小高度；m为所述参照高度遮光图案的编号；A为高度增加量。
4.如权利要求2所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照宽度遮光图案组中各参照宽度遮光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照宽度遮光图案的宽度值W(n)符合以下形式W (n) = W0+(n-l)B ；其中，WO为最小宽度；η为所述参照宽度遮光图案的编号；B为宽度增加量。
5.如权利要求2、3或4所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照高度遮光图案组中参照高度遮光图案的个数在20至40个之间；所述参照宽度遮光图案组中参照宽度遮光图案的个数在20至40个之间。
6.如权利要求3或4所述的彩色滤光基板，其特征在于，A的值为0.3-2 μ m，B的值为 0. 3-2 μ Hio
7.如权利要求3或4所述的彩色滤光基板，其特征在于，A的值为1μ m，B的值为1 μ m。
8.一种彩色滤光基板，包括 透明玻璃基板；遮光图案层，位于所述透明玻璃基板的显示区域上，所述遮光图案层具有开口区域；彩色滤光层，位于所述遮光图案层的开口区域上，并与所述遮光图案层重叠；基准高度滤光图案组，包含多个高度相同的基准高度滤光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度滤光图案之间的间距相等；参照高度滤光图案组，包含多个高度不同的参照高度滤光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度滤光图案组与所述基准高度滤光图案组并列排列，并且，每个所述参照高度滤光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度滤光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；基准宽度滤光图案组，包含多个宽度相同的基准宽度滤光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度滤光图案之间的间距相等；参照宽度滤光图案组，包含多个宽度不同的参照宽度滤光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度滤光图案组与所述基准宽度滤光图案组并列排列，并且，每个所述参照宽度滤光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度滤光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上。
9.如权利要求8所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照高度滤光图案组中至少一个参照高度滤光图案的高度与所述基准高度滤光图案组中相邻基准高度滤光图案之间的间距相等；所述参照宽度滤光图案组中至少一个参照宽度滤光图案组的宽度与所述基准宽度滤光图案组中相邻基准宽度滤光图案之间的间距相等。
10.如权利要求8所述的彩色滤光基板，其特征在于，在所述基准高度滤光图案组、所述参照高度滤光图案组、所述基准宽滤光图案组和所述参照宽度滤光图案组与所述透明玻璃基板之间还设置有遮光图案底层。
11.如权利要求9所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照高度滤光图案组中各参照高度滤光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度滤光图案的高度值H' (m)符合以下形式H' (m' ) = H' 0+(m' -1)A'；其中，H' 0为最小高度；m'为所述参照高度滤光图案的编号；A'为高度增加量。
12.如权利要求9所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照宽度滤光图案组中各参照宽度滤光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照宽度滤光图案的宽度值W' (η)符合以下形式W' (n' ) = W' 0+(n' -1)B'；其中，W' 0为最小宽度；η'为所述参照宽度滤光图案的编号；B'为宽度增加量。
13.如权利要求9所述的彩色滤光基板，其特征在于，所述参照高度滤光图案组中参照高度滤光图案的个数在20至40个之间；所述参照宽度滤光图案组中参照宽度滤光图案的个数在20至40个之间。
14.如权利要求11或12所述的彩色滤光基板，其特征在于，A'的值为0.3-2μπι，Β' 的值为0. 3-2 μ m。
15.如权利要求11或12所述的彩色滤光基板，其特征在于，A'的值为lym，B'的值为 1 μ m。
16.一种彩色滤光基板的制造方法，包括提供一透明玻璃基板；在所述透明玻璃基板的显示区域上形成遮光图案层；同时地在所述透明玻璃基板的非显示区域上形成基准高度遮光图案组和基准宽度遮光图案组；所述基准高度遮光图案组包含多个高度相同的基准高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度遮光图案之间的间距相等；所述基准宽度遮光图案组包含多个宽度相同的基准宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度遮光图案之间的间距相等；在所述透明玻璃基板的非显示区域上形成参照高度遮光图案组和参照宽度遮光图案组；所述参照高度遮光图案组包含多个高度不同的参照高度遮光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度遮光图案组与所述基准高度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照高度遮光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度遮光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；所述参照宽度遮光图案组包含多个宽度不同的参照宽度遮光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度遮光图案组与所述基准宽度遮光图案组并列排列，并且，每个所述参照宽度遮光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度遮光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上；以及在所述遮光图案层的开口区域形成彩色滤光层。
17.如权利要求16所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，所述参照高度遮光图案组中至少一个参照高度遮光图案的高度与所述基准高度遮光图案组中相邻基准高度遮光图案之间的间距相等；所述参照宽度遮光图案组中至少一个参照宽度遮光图案组的宽度与所述基准宽度遮光图案组中相邻基准宽度遮光图案之间的间距相等。
18.如权利要求17所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，所述参照高度遮光图案组中各参照高度遮光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度遮光图案的高度值H(m)符合以下形式H(m) = H0+(m-l)A ；其中，HO为最小高度；m为所述参照高度遮光图案的编号；A为高度增加量。
19.如权利要求17所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，所述参照宽度遮光图案组中各参照宽度遮光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照宽度遮光图案的宽度值W(n)符合以下形式W (n) = W0+(n-l)B ；其中，WO为最小宽度；η为所述参照宽度遮光图案的编号；B为宽度增加量。
20.如权利要求17、18或19所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，所述参照高度遮光图案组中参照高度遮光图案的个数在20至40个之间；所述参照宽度遮光图案组中参照宽度遮光图案的个数在20至40个之间。
21.如权利要求18或19所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，A的值为 0. 3-2 μ m，B 的ft为 0. 3-2 μ m。
22.如权利要求21所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，A的值为1μ m，B的值为1 μ m。
23.一种彩色滤光基板的制造方法，包括提供一透明玻璃基板；在所述透明玻璃基板的显示区域上形成遮光图案层；同时地在所述透明玻璃基板的非显示区域上形成基准高度滤光图案组和参照高度滤光图案组，所述基准高度滤光图案组包含多个高度相同的基准高度滤光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准高度滤光图案之间的间距相等；所述参照高度滤光图案组包含多个高度不同的参照高度滤光图案，沿垂直方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照高度滤光图案组与所述基准高度滤光图案组并列排列， 并且，每个所述参照高度滤光图案的垂直方向中心线分别与所述基准高度滤光图案组间距的垂直方向中心线在一水平线上；在所述透明玻璃基板的非显示区域上形成基准宽度滤光图案组和参照宽度滤光图案组，所述基准宽度滤光图案组包含多个宽度相同的基准宽度滤光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上，相邻所述基准宽度滤光图案之间的间距相等；所述参照宽度滤光图案组包含多个宽度不同的参照宽度滤光图案，沿水平方向分布于所述透明玻璃基板的非显示区域上；所述参照宽度滤光图案组与所述基准宽度滤光图案组并列排列， 并且，每个所述参照宽度滤光图案的水平方向中心线分别与所述基准宽度滤光图案组间距的水平方向中心线在一垂直线上；以及在所述遮光图案层的开口区域形成彩色滤光层。
24.如权利要求23所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，所述参照高度滤光图案组中至少一个参照高度滤光图案的高度与所述基准高度滤光图案组中相邻基准高度滤光图案之间的间距相等；所述参照宽度滤光图案组中至少一个参照宽度滤光图案组的宽度与所述基准宽度滤光图案组中相邻基准宽度滤光图案之间的间距相等。
25.如权利要求23所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，在所述基准高度滤光图案组、所述参照高度滤光图案组、所述基准宽滤光图案组和所述参照宽度滤光图案组与所述透明玻璃基板之间还设置有遮光图案底层。
26.如权利要求M所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，所述参照高度滤光图案组中各参照高度滤光图案在垂直方向上以高度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照高度滤光图案的高度值H' (m)符合以下形式H' (m' ) = H' 0+(m' -1)A'；其中，H' 0为最小高度；m'为所述参照高度滤光图案的编号；A'为高度增加量。
27.如权利要求M所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，所述参照宽度滤光图案组中各参照宽度滤光图案在水平方向上以宽度值从小到大的顺序排列，其中每个所述参照宽度滤光图案的宽度值W' (η)符合以下形式W' (n' ) = W' 0+(n' -1)B'；其中，W' 0为最小宽度；η'为所述参照宽度滤光图案的编号；B'为宽度增加量。
28.如权利要求M、25J6或27所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，所述参照高度滤光图案组中参照高度滤光图案的个数在20至40个之间；所述参照宽度滤光图案组中参照宽度滤光图案的个数在20至40个之间。
29.如权利要求沈或27所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，A'的值为 0. 3-2 μπι, B'的ft为 0. 3-2 μ m。
30.如权利要求沈或27所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，A'的值为Ιμπι,Β'的值为 Ιμπ ο
全文摘要
本发明提供一种彩色滤光基板及其制造方法。为避免曝光掩膜板弯曲引起曝光后图案的高度及宽度在整个彩色滤光基板面内分布不均匀，需要监测图案层的高度和宽度，现有技术中需要用到专用的大型在线显微测长仪，不利于在线控制同时也增加了成本。在本发明中在透明玻璃基板的非显示区域上增加了基准高度遮光图案组、参照高度遮光图案组、基准宽度遮光图案组和参照宽度遮光图案组。在实际生产过程中，通过这些起标尺作用的遮光图案和彩色滤光图案，可以使制造者通过目视直接和简便地确认遮光图案层与彩色滤光层的尺寸变化，从而快速、方便且经济地控制和调整遮光图案层与彩色滤光层的图案的高度和宽度，提高彩滤光基板的品质。
文档编号G02F1/1335GK102540554SQ201010622149
公开日2012年7月4日 申请日期2010年12月31日 优先权日2010年12月31日
发明者张莉, 金子若彦 申请人:上海广电富士光电材料有限公司