专利名称：曝光机迈拉膜涨紧框架的制作方法
技术领域：
本实用新型属于一种PCB曝光机的部件，具体地是PCB曝光机上迈拉膜的涨紧框
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背景技术：
目前，PCB曝光机上装设的迈拉膜涨紧框架是用于固定迈拉膜的，其下方活动联接有托玻璃的下框架，中间放置电路板，二者合并后抽真空，再上下打紫外线光，实现曝光目的。现有的迈拉膜涨紧框架包括有外框架、内框架，外框架上开设有内凹槽，内框架镶嵌在内凹槽中。使用时，将迈拉膜的外边沿置于内凹槽中，通过内框架与外框架的镶嵌结合来固定并涨紧迈拉膜。其存在的不足是迈拉膜固定后不能再调整，因此涨紧力不能根据需要来调节。时间一长，造成迈拉膜松弛，需要更换迈拉膜，因此，更换迈拉膜频率较高，带来了使用上的不便和使用成本的提高。
发明内容本实用新型之目的，在于克服现有技术上述之不足，提供一种改进的曝光机迈拉膜涨紧框架，其能够调节框架和迈拉膜的涨紧力，减少了迈拉膜的更换频率，延长了迈拉膜的使用寿命，曝光效果好。为达到上述之目的，本实用新型采取以下的技术方案本实用新型包括有外框架、内框架，外框架上开设有内凹槽，其特征在于内凹槽中镶嵌有封条，内框架位于外框架内侧，内框架上活动联接有若干顶丝。顶丝的外端通过顶簧触联外框架的内沿。本实用新型采取上述技术方案，具有以下的有益效果本实用新型使用时，将迈拉膜的外边沿置于外框架的内凹槽中，通过封条与外框架的镶嵌结合来固定迈拉膜。当需要调节迈拉膜的涨紧力时，旋转顶丝，顶丝将外框架向外顶开外移，使迈拉膜涨紧。顶丝的外端通过顶簧触联外框架的内沿，是便于当抽真空时，迈拉膜会回收一点，有弹簧的缓冲，迈拉膜在保证有一定的涨紧力的同时，不会涨破。本实用新型操作方便，能够调节迈拉膜的涨紧力，无曝光不良品出现，提高了曝光质量，延长了迈拉膜的使用寿命。
以下结合附图和实施例对本实用新型进行详细说明
图1为本实用新型结构简图。图中标记1-外框架、2-内框架、3-内凹槽、4-封条、5-顶丝、6-顶簧、7-导柱、 8-凹洞、9-导孔。
具体实施方式
由
图1所示，本实用新型包括有外框架1、内框架2，外框架1上开设有内凹槽3， 内凹槽3中镶嵌有封条4，内框架2位于外框架1内侧，内框架2上活动联接有若干顶丝5。顶丝5的外端通过顶簧6触联外框架1的内沿。本实用新型外框架1的内沿上开设有若干与顶丝5对应的凹洞8，顶丝5的外端通过顶簧6触联凹洞8。 为便于调节和导向，在外框架1的内沿上还联接有若干导柱7，导柱7活动穿插于内框架2上相对应开设的导孔9中。
权利要求1.一种曝光机迈拉膜涨紧框架，其包括有外框架(1)、内框架0)，外框架(1)上开设有内凹槽(3)，其特征在于内凹槽(3)中镶嵌有封条G)，内框架(2)位于外框架⑴内侧，内框架( 上活动联接有若干顶丝(5)。
2.根据权利要求1所述的一种曝光机迈拉膜涨紧框架，其特征在于外框架(1)的内沿上开设有若干与顶丝(5)对应的凹洞(8)，顶丝(5)的外端通过顶簧(6)触联凹洞(8)。
3.根据权利要求1所述的一种曝光机迈拉膜涨紧框架，其特征在于在外框架(1)的内沿上还联接有若干导柱(7)，导柱(7)活动穿插于内框架(2)上相对应开设的导孔(9) 中。
专利摘要本实用新型公开了一种曝光机迈拉膜涨紧框架，其包括有外框架(1)、内框架(2)，外框架(1)上开设有内凹槽(3)，其特征在于内凹槽(3)中镶嵌有封条(4)，内框架(2)位于外框架(1)内侧，内框架(2)上活动联接有若干顶丝(5)。本实用新型使用时，将迈拉膜的外边沿置于外框架的内凹槽中，通过封条与外框架的镶嵌结合来固定迈拉膜。当需要调节迈拉膜的涨紧力时，旋转顶丝，顶丝将外框架向外顶开外移，使迈拉膜涨紧。本实用新型操作方便，能够调节迈拉膜的涨紧力，提高了曝光质量，延长了迈拉膜的使用寿命。
文档编号G03F7/20GK201984283SQ20102058841
公开日2011年9月21日 申请日期2010年11月3日 优先权日2010年11月3日
发明者白景文 申请人:北京邮电大学