专利名称：激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用浮雕印刷版原版及其制法、以及浮雕印刷版的制版方法
技术领域：
本发明涉及激光雕刻用树脂组合物、激光雕刻用浮雕印刷版原版及其制造方法、 以及浮雕印刷版的制版方法。
背景技术：
作为在层叠于支承体表面的感光性树脂层形成凹凸而形成印刷版的方法，公知有对使用感光性組合物形成的浮雕形成层，介由原画膜利用紫外光加以曝光，选择性地使图像部分固化，用显影液将未固化部除去的方法，即所谓“模拟制版”。浮離印刷版是具有有凹凸的浮雕层的凸版印刷版，这样的具有凹凸的浮雕层，通过将作为主成分含有例如合成橡胶这样的弾性体性聚合物、热塑性树脂等树脂、或含有树脂和增塑剂的混合物的感光性組合物的浮離形成层图案化，形成凹凸而得到。在这样的浮離印刷版中，有时将具有软质的浮雕层的印刷版称为柔性版。在通过模拟制版来制作浮離印刷版的情况下，一般需要使用了银盐材料的原画膜，因此需要原画膜的制造时间和成本。进而，在原画膜的显影中需要化学处理，并且还需要显影废液的处理，因此正在研究更简易的版的制作方法，例如不使用原画膜的方法、不需要显影处理的方法等。近年来研究了不需要原画膜并采用扫描曝光进行浮雕形成层的制版的方法。作为不需要原画膜的手法，提出了在浮雕形成层上设置了能够形成图像掩模的激光感应式的掩模层要素的浮雕印刷版原版(例如，參照专利文献1)。根据这些原版的制版方法，通过基于图像数据的激光照射由掩模层要素形成具有与原画膜同样的功能的图像掩摸，称为“掩模CTP方式”，不需要原画膜，但其后的制版处理是介由图像掩模并用紫外光曝光、将未固化部显影除去的エ序，在需要显影处理这点上仍有改进的余地。作为不需要显影エ序的制版方法，大量地提出了利用激光将浮離形成层直接離刻而制版的所谓“直雕CTP方式”。直離CTP方式是不折不扣地用激光进行雕刻，从而形成成为浮雕的凹凸的方法，与使用了原画膜的浮雕形成不同，具有能够自由地控制浮雕形状的优点。目前为止，以直雕CTP方式使用的版材，作为决定版材的特性的粘结剂，提出了使用疏水性的弾性体(橡胶)的粘结剂(例如參照专利文献1。)。专利文献1 日本特开2004-262077号公报
发明内容
对于将浮雕形成层进行激光雕刻而得到的浮雕版，要求对于紫外线固化性的所谓 UV墨液的耐久性、对于水性墨液的耐久性和对于洗涤液的耐久性。本发明要解决的课题在干，提供对于由激光雕刻产生的雕刻渣的冲洗洗涤液耐性优异、印刷时对于水性墨液的耐久性高、而且对于UV墨液的耐久性也优异的适合激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成层的激光雕刻用树脂组合物。此外，本发明要解决的其他课题在干，提供在激光雕刻用的浮雕印刷版原版中形成的浮雕层对于墨液洗涤液的耐性、对于水性墨液的耐性和对于UV墨液的耐性优异的浮離印刷版原版及其制造方法以及使用了其的浮雕印刷版的制造方法。上述的课题通过以下的解决手段<1>、<9> <11>和<13>来实现。与作为优选的实施方式的<2> <8>、<12>、<14>和<15> 一起列出。<1>激光雕刻用树脂组合物，其特征在干，含有(成分A)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种的聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物，具有选自马来酰亚胺基、琥珀酰亚胺基和邻苯ニ甲酰亚胺基中的残基的低分子化合物，或者含有来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元或具有磺酰胺基的结构单元的高分子化合物；<2>如<1>所述的激光雕刻用树脂组合物，其中上述高分子化合物含有烯键式不饱和基或水解性甲硅烷基；<3>如<1>或<2>所述的激光雕刻用树脂组合物，其还含有(成分B)粘结剂聚合物；<4>如<1> <3>中任意一项所述的激光雕刻用树脂组合物，其还含有(成分C) 聚合性化合物；<5>如く 1> <4>中任意一项所述的激光雕刻用树脂组合物，其还含有(成分D) 聚合引发剂；<6>如<1> <5>中任意一项所述的激光雕刻用树脂组合物，其还含有(成分幻增塑剂；<7>如<1> <6>中任意一项所述的激光雕刻用树脂组合物，其还含有(成分F) 香料；<8>如<1> <7>中任意一项所述的激光雕刻用树脂组合物，其还含有(成分G) 能够吸收波长700 1300nm的光的光热转换剂；<9>激光雕刻用浮雕印刷版原版，其在支承体上具有由<1> <8>中任意一项所述的激光雕刻用树脂组合物形成的浮雕形成层；<10>激光雕刻用浮雕印刷版原版，其在支承体上具有将由<1> <8>中任意ー项所述的激光雕刻用树脂组合物形成的浮雕形成层通过光和/或热进行交联而成的浮雕形成层；<11>浮離印刷版原版的制造方法，其特征在干，包括形成由<1> <8>中任意一项所述的激光雕刻用浮雕树脂組合物形成的浮雕形成层的层形成エ序、和形成将上述浮離形成层通过光和/或热进行交联而成的交联浮雕形成层的交联エ序；<12>如<11>所述的浮雕印刷版原版的制造方法，其中交联エ序为通过热将上述浮離形成层交联的エ序；<13>浮離印刷版的制版方法，其包括对采用<11>或<12>所述的浮雕印刷版原版的制造方法制造的浮雕印刷版原版的浮雕形成层进行激光雕刻而形成浮雕层的浮雕层形成エ序；<14>如<13>所述的浮雕印刷版的制版方法，其中上述浮離形成层的厚度为0. 05mm以上IOmm以下；<15>如<13>或<14>所述的浮雕印刷版的制版方法，其中上述浮離形成层的肖氏 A硬度为50°以上90°以下。根据本发明，能够提供通过激光雕刻而产生的雕刻渣的冲洗性优异、印刷时能够适合用于水性墨液和/或UV墨液的、适合激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成层的激光雕刻用树脂组合物。此外，根据本发明，通过使用上述本发明的激光雕刻用树脂组合物，能够提供形成的浮雕层的水性墨液耐性和UV墨液耐性均优异的浮雕印刷版原版及其制造方法、以及浮離印刷版的制版方法。
具体实施例方式
以下对本发明详细说明。[激光雕刻用树脂组合物]本发明的激光雕刻用树脂组合物，其特征在干，含有(成分A)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物，具有选自马来酰亚胺基、琥珀酰亚胺基和邻苯ニ甲酰亚胺基中的残基的低分子化合物，或者含有来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元或具有磺酰胺基的结构单元的高分子化合物。以下也将“来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元”简称为“来自马来酰亚胺基的结构单元”。本发明的激光雕刻用树脂组合物，除了被实施激光雕刻的浮雕印刷版原版的浮雕形成层用途以外，还能够广泛地应用于其他用途。例如，不仅用于是采用激光雕刻进行以下详述的凸状的浮雕形成的印刷版原版的浮雕形成层，也能够用于表面形成凹凸和/或开ロ 部的其他的材形例如凹版、孔版、印模等采用激光雕刻形成图像的各种印刷版和/或各种成型体的形成。关于本組合物，特別优选应用于在适当的支承体上具有的浮雕形成层的形成。应予说明，本说明书中，关于浮離印刷版原版的说明，优选将含有粘结剂聚合物且作为供于激光雕刻的图像形成层的、表面平坦的层称为浮雕形成层，将对其进行激光雕刻而在表面形成了凹凸的层称为浮雕层。如上所述，成分A选自以下的ニ种低分子化合物(成分Al)和(成分A2)以及ー 种高分子化合物(成分A3)。以下对于这些化合物进行说明。(成分Al)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物其中，烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基均具有自反应性或加成反应性，通过连锁的加成反应变化为分子量高的化合物，或者在能够与其他活性的交联性基键合方面具有共通的性质。成分Al是含有从上述组中选择的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物。其中，所谓“低分子化合物”，意味着分子量小于1000，优选为分子量100 900。 此外，所谓作为后述的成分A3的“高分子化合物”，意味着分子量为1000以上，从与其他的使用原料的相容性的观点出发，优选重均分子量为1000 1000000，更优选重均分子量为 1000 100000。上述的烯键式不饱和基，限于链状的结构，包括(甲基)丙烯酰基、乙烯基和烯丙基，优选(甲基)丙烯酰基和乙烯基。环氧基可以为链状，也可以为环状，包括缩水甘油基、氧化环己烯基。氧杂环丁基可具有取代基，优选为未取代或者碳数1 5的低级烷基作为取代基。“水解性甲硅烷基和硅烷醇基”中的“水解性甲硅烷基”，是含水解性基团的甲硅烷基，作为水解性基团，可以列举烷氧基、芳氧基、巯基、卤素基、酰胺基、乙酰氧基、氨基、异丙烯氧基等。甲硅烷基发生水解而成为硅烷醇基，硅烷醇基发生脱水缩合而生成硅氧烷键。这样的水解性甲硅烷基或硅烷醇基优选下述式(1)所示的基团。[化1]
权利要求
1.一种激光雕刻用树脂组合物，其特征在干，含有(成分A)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物，具有选自马来酰亚胺基、琥珀酰亚胺基和邻苯ニ甲酰亚胺基中的残基的低分子化合物，或者含有来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元或具有磺酰胺基的结构单元的高分子化合物。
2.如权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 所述高分子化合物含有烯键式不饱和基或水解性甲硅烷基。
3.如权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 还含有(成分B)粘结剂聚合物。
4.如权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 还含有(成分C)聚合性化合物。
5.如权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 还含有(成分D)聚合引发剂。
6.如权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 还含有(成分幻增塑剂。
7.如权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物，其中， 还含有(成分F)香料。
8.如权利要求1所述的激光雕刻用树脂组合物，其中，还含有(成分G)能够吸收波长700 1300nm的光的光热转换剂。
9.ー种激光雕刻用浮雕印刷版原版，其在支承体上具有由权利要求1 8中任意ー项所述的激光雕刻用树脂组合物形成的浮雕形成层。
10.ー种激光雕刻用浮雕印刷版原版，其在支承体上具有由权利要求1 8中任意ー项所述的激光雕刻用树脂组合物形成的浮雕形成层利用光和/或热而交联的浮雕形成层。
11.ー种激光雕刻用浮雕印刷版原版的制造方法，其特征在干，包括形成由权利要求1 8中任意一项所述的激光雕刻用树脂组合物形成的浮雕形成层的层形成エ序、和形成利用光和/或热将所述浮雕形成层经交联而成的交联浮雕形成层的交联エ序。
12.如权利要求11所述的浮雕印刷版原版的制造方法，其中， 交联エ序是利用热将所述浮雕形成层交联的エ序。
13.一种浮雕印刷版的制版方法，其中，包括对采用权利要求11所述的制造方法制造的激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成层进行激光雕刻而形成浮雕层的浮雕层形成エ序。
14.如权利要求13所述的浮雕印刷版的制版方法，其中， 所述浮雕形成层的厚度为0. 05mm以上IOmm以下。
15.如权利要求13所述的浮雕印刷版的制版方法，其中， 所述浮雕形成层的肖氏A硬度为50°以上90°以下。
全文摘要
本发明的目的在于提供冲洗洗涤液耐性优异、印刷时对水性墨液的耐久性高且对UV墨液的耐久性也优异的适合激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成层的激光雕刻用树脂组合物。本发明的激光雕刻用树脂组合物，其特征在于，含有(成分A)含有选自烯键式不饱和基、环氧基、氧杂环丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1种聚合性基团进而还具有磺酰胺基的低分子化合物，具有选自马来酰亚胺基、琥珀酰亚胺基和邻苯二甲酰亚胺基中的残基的低分子化合物，或者含有来自具有马来酰亚胺基的化合物的结构单元或具有磺酰胺基的结构单元的高分子化合物。
文档编号G03F7/075GK102540713SQ201110410108
公开日2012年7月4日 申请日期2011年12月9日 优先权日2010年12月10日
发明者川岛敬史 申请人:富士胶片株式会社