专利名称：涂布装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶面板制造领域，尤其涉及一种光刻胶用涂布装置。
背景技术：
在TFT-IXD (薄膜场效应管液晶显示器)面板加工过程当中，主要包括镀膜、涂胶、 显影及刻蚀等几道工艺，从而得到相应的TFT图案。其中，在MASK工艺当中，需在镀膜完成之后的基板之上先涂布感光材料，之后进行曝光，再将曝光后的基板进行显影。这其中，涂布感光材料部分又包括预涂胶、高速甩胶、低压干燥和端面清洁四个单元。对于涂胶过程而言，设备使用率和生产节拍是影响涂胶设备产能的重要指标。其中，设备使用率受生产管理，设备维护，备件库存等因素影响，存在上限。涂胶过程是将感光材料线性涂布在基板上。传统的涂胶方式是以一张基板为周期，喷涂模块从基板一端运动到另一端，同时将感光材料涂布在基板上，然后返回到初始位置的清洗模块中进行化学品处理，从而保证其下次涂布均勻性。其中，喷涂模块在完成一张基板的感光材料涂布之后，从基板一端返回到另一端初始位置的清洗模块中的动作严格意义上属于无效动作。因此，现有技术增加了涂胶单元的生产节拍，降低了生产效率。
实用新型内容本实用新型的实施例提供一种涂布装置，以解决涂布过程生产节拍大，生产效率低的问题。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案—种涂布装置，包括喷涂模块和清洗模块，所述清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块，其中，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。所述第一清洗子模块、第二清洗子模块平行设置。所述喷涂模块具有喷嘴，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别包括基座； 清洁槽，位于所述基座上，其上开设有沟槽，该沟槽对应所述喷涂模块的喷嘴。所述喷涂模块为V字型结构并于V字型结构下端形成有狭缝形的所述喷嘴。所述清洁槽为V字型结构。本实用新型实施例提供的涂布装置，包括喷涂模块和清洗模块，其中，该清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块，分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。这样，喷涂模块从第一清洗子模块中出来进行涂布后可以直接进入位于基板另一端的第二清洗子模块中进行清洗。在保证涂布品质的同时，节省了喷涂模块涂布后返回初始位置所需的时间，因此，减小了涂布过程的生产节拍，提高了生产效率。
3[0015]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本实用新型实施例提供的涂布装置的结构示意图；图2为本实用新型实施例提供的清洗模块的结构示意图；图3为本实用新型实施例提供的涂布装置的剖视图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型实施例提供的涂布装置如图1所示，图1是该涂布装置的结构示意图。 包括喷涂模块11和清洗模块12，喷涂模块11具有喷嘴，清洗模块包括第一清洗子模块121 和第二清洗子模块122，其中，该第一清洗子模块121、第二清洗子模块122分别位于待喷涂基板13相对应的两端之外。进一步地，如图1所示，该第一清洗子模块121、第二清洗子模块122可以平行设置在待喷涂基板13的相对边的旁边。这样一来，喷涂模块11从第一清洗子模块121中出来进行涂布作业后可以直接进入位于基板13另一端的第二清洗子模块122中进行清洗。在保证涂布品质的同时，节省了喷涂模块涂布后返回初始位置所需的时间，因此，减小了涂布过程的生产节拍，提高了生产效率。其中，喷涂模块11的可以是多种形状，同样的，清洗模块12的形状也可以有多种， 以能对应清洗喷涂模块11的喷嘴即可。进一步地，如图2所示，图2是清洗模块的结构示意图。前述第一清洗子模块121、 第二清洗子模块122可以分别包括基座21和清洁槽22。清洁槽22位于基座21上，其上开设有沟槽，该沟槽对应该喷涂模块11的喷嘴。装有基座21的清洗模块121、122可以稳定地固定住清洁槽22，提高清洗的稳定性。清洁槽22内可盛放对喷嘴进行清洗用的清洗液。进一步地，如图3所示，喷涂模块11为V字型结构并于V字型结构下端形成有狭缝形的所述喷嘴，该喷嘴可以保证工艺要求的涂布薄厚与均勻程度。相应的，清洁槽22也可以为V字型结构。这样，清洁槽的V字型结构能够贴合V字型结构的狭缝形的喷嘴，使得狭缝形的喷嘴可以更加容易地进出清洁槽，在提高生产效率的同时，还能够保证喷嘴的有效清洗。实际应用过程可以参照图1。首先，喷涂模块11可以直接从基板13左侧的第一清洗子模块121移出并降到待喷涂基板13的上方合适位置，自左至右勻速移动，在此移动过程当中完成感光材料的均勻涂布。[0028]当喷涂模块11到达待喷涂基板13右侧，即该基板13的涂布工作已经完成时，喷涂模块11可以直接进入位于基板13右侧的第二清洗子模块122内进行清洁，同时，完成涂布的基板13移出，涂布区域立刻更换另一块待喷涂基板13。喷涂模块11完成清洁后，待另一块待喷涂基板13已经更换完成，喷涂模块11可以从基板右侧第二清洗子模块122移出并降到待喷涂基板13上方的合适位置，自右至左勻速移动，完成感光材料的均勻涂布。喷涂模块11回到基板左侧，进入位于基板左侧的第一清洗子模块121内进行清洁。又一块基板13涂布完成，之后重复以上流程。这样一来，喷涂模块11从第一清洗子模块121中出来进行涂布作业后可以直接进入位于基板另一端的第二清洗子模块122中进行清洗；从第二清洗子模块122中出来进行涂布作业后可以直接进入位于基板另一端的第一清洗子模块121中进行清洗。在保证涂布品质的同时，节省了喷涂模块涂布后返回初始位置所需的时间，因此，减小了涂布过程的生产节拍，提高了生产效率。以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种涂布装置，包括喷涂模块和清洗模块，其特征在于，所述清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块，其中，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。
2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块平行设置。
3.根据权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，所述喷涂模块具有喷嘴，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别包括基座；清洁槽，位于所述基座上，其上开设有沟槽，该沟槽对应所述喷涂模块的喷嘴。
4.根据权利要求3所述的涂布装置，其特征在于，所述喷涂模块为V字型结构并于V字型结构下端形成有狭缝形的所述喷嘴。
5.根据权利要求1或4所述的涂布装置，其特征在于，所述清洁槽为V字型结构。
专利摘要本实用新型提供一种涂布装置，涉及液晶面板制造领域，以解决涂布过程生产节拍大，生产效率低的问题。该涂布装置，包括喷涂模块和清洗模块，所述清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块，其中，所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。本实用新型实施例用于基板涂布。
文档编号G03F7/16GK202057959SQ20112017500
公开日2011年11月30日 申请日期2011年5月27日 优先权日2011年5月27日
发明者张琨鹏, 战戈, 焦宇 申请人:北京京东方光电科技有限公司