专利名称：一种长波通滤光片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种滤光片，特别涉及一种长波通滤光片。
背景技术：
目前，长波通滤光片，特别是800-1100nm长波通红外滤光片在红外夜视仪，自然灾害、资源普查等遥感系统红外相机，以及多光谱成像仪中有着广泛而重要的应用，主要用于对夜晚环境、气象、地质成像和光谱分析观测。在我国自然灾害遥感卫星技术规划中，也对长波通红外光学薄膜器件提出了研发需求。在现有技术中，长波通滤光片往往在透射波段内平均透射率难以达到90%，而截止波段透射率则高于1%，易出现次峰通带，易产生光干扰问题，因而难以满足高精密红外仪器设备对长波通滤光片要求以及市场发展的需要。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种800_1100nm透射波段的平均透射率高，截止波段的透射率低，能有效截除次峰，不易产生光干扰问题的长波通滤光片。为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是:一种长波通滤光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的46层膜，该46层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成，该46层膜从内至外依次为:第I层，TiO2膜层，厚度为40.5-41nm;第2层，SiO2膜层，厚度为57-57.49nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为107-107.4nm;第4层，SiO2膜层，厚度为80-80.4nm;第5层，TiO2膜层，厚度为48-48.4nm ;第6层，SiO2膜层，厚度为137-137.4nm ;第7层，TiO2膜层，厚度为69-69.4nm ;第 8 层，SiO2 膜层，厚度为 89.5_90nm ;第 9 层，TiO2 膜层，厚度为 60-60.4nm ；第10层，SiO2膜层，厚度为144-144.4nm ;第11层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第12层，SiO2膜层，厚度为101-101.4nm ;第13层，TiO2膜层，厚度为81.5_82nm ;第14层，SiO2膜层，厚度为89.8-90.3nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为67-67.4nm ;第16层，SiO2膜层，厚度为129-129.4nm ;第17层，TiO2膜层，厚度为59-59.4nm ;第18层，SiO2膜层，厚度为87.5-88nm ;第 19 层，TiO2 膜层，厚度为 85-85.49nm ;第 20 层，SiO2 膜层，厚度为 85.6_86nm ；第21层，TiO2膜层，厚度为48.5-49nm ;第22层，SiO2膜层，厚度为71.5_72nm ;第23层，TiO2膜层，厚度为44.5-45nm ;第24层，SiO2膜层，厚度为81-81.4nm ;第25层，TiO2膜层，厚度为46.5-47nm ;第26层，SiO2膜层，厚度为144.5_145nm ;第27层，TiO2膜层，厚度为47.5-48nm ;第 28 层，SiO2 膜层，厚度为 92.5_93nm ;第 29 层，TiO2 膜层，厚度为 55-55.4nm ；第30层，SiO2膜层，厚度为77-77.49nm ;第31层，TiO2膜层，厚度为33.5_34nm ;第32层，SiO2膜层，厚度为86-86.4nm ;第33层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第34层，SiO2膜层，厚度为87.5-88nm ;第35层，TiO2膜层，厚度为49-49.4nm ;第36层，SiO2膜层，厚度为84-84.4nm ;第 37 层，TiO2 膜层，厚度为 41-41.4nm ;第 38 层，SiO2 膜层，厚度为 66-66.4nm ；第39层，TiO2膜层，厚度为55.5-56nm ;第40层，SiO2膜层，厚度为90.5-9Inm ;第41层，TiO2膜层，厚度为29.5-30nm ;第42层，SiO2膜层，厚度为67-67.5nm ;第43层，TiO2膜层，厚度为34-34.4nm ;第 44 层，SiO2 膜层，厚度为 64-64.5nm ;第 45 层，TiO2 膜层，厚度为 67.5_68nm ；第46层，SiO2膜层，厚度为176-176.49nm。本实用新型长波通滤光片的制造工艺包括:将透明玻璃基板置于精密真空镀膜机中，然后设定好膜层厚度参数，最后通过真空镀膜(例如蒸镀)方式形成所述的46层膜。镀膜之后的长波通滤光片在800 -1lOOnm的红外光波段，其红外光透过率在96%以上，而在720nm以下的波段，其整体透过率小于0.5%。本实用新型的有益效果是:本实用新型的膜层为46层，在800 -1lOOnm的红外光波段，其红外光透过率在96%以上，而在720nm以下的波段，其整体透过率小于0.5%，能有效截除次峰，不易产生光干扰问题；本实用新型能广泛应用于红外夜视仪，自然灾害、资源普查等遥感系统红外相机，以及多光谱成像仪，且能满足高精密红外仪器设备的要求。
图1为本实用新型长波通滤光片的整体结构示意图。图2为本实用新型长波通滤光片的另一整体结构示意图。图3为本实用新型长波通滤光片进行光线透射测试的透射率特性图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作进一步详细说明。如图1所示，在该具体实施方式
中，该长波通滤光片100，包括透明玻璃基板I及透明玻璃基板上的46层膜2，该46层膜2由高折射率的二氧化钛TiO2膜层21和低折射率的二氧化硅SiO2膜层22多次交替堆叠组成，该46层膜2从内至外依次为 第I层，TiO2膜层，厚度为40.5-41nm;第2层，SiO2膜层，厚度为57-57.49nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为107-107.4nm;第4层，SiO2膜层，厚度为80-80.4nm;第5层，TiO2膜层，厚度为48-48.4nm ;第6层，SiO2膜层，厚度为137-137.4nm ;第7层，TiO2膜层，厚度为69-69.4nm ;第 8 层，SiO2 膜层，厚度为 89.5_90nm ;第 9 层，TiO2 膜层，厚度为 60-60.4nm ；第10层，SiO2膜层，厚度为144-144.4nm ;第11层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第12层，SiO2膜层，厚度为101-101.4nm ;第13层，TiO2膜层，厚度为81.5_82nm ;第14层，SiO2膜层，厚度为89.8-90.3nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为67-67.4nm ;第16层，SiO2膜层，厚度为129-129.4nm ;第17层，TiO2膜层，厚度为59-59.4nm ;第18层，SiO2膜层，厚度为87.5-88nm ;第 19 层，TiO2 膜层，厚度为 85-85.49nm ;第 20 层，SiO2 膜层，厚度为 85.6_86nm ；第21层，TiO2膜层，厚度为48.5-49nm ;第22层，SiO2膜层，厚度为71.5_72nm ;第23层，TiO2膜层，厚度为44.5-45nm ;第24层，SiO2膜层，厚度为81-81.4nm ;第25层，TiO2膜层，厚度为46.5-47nm ;第26层，SiO2膜层，厚度为144.5_145nm ;第27层，TiO2膜层，厚度为47.5-48nm ;第 28 层，SiO2 膜层，厚度为 92.5_93nm ;第 29 层，TiO2 膜层，厚度为 55-55.4nm ；第30层，SiO2膜层，厚度为77-77.49nm ;第31层，TiO2膜层，厚度为33.5_34nm ;第32层，SiO2膜层，厚度为86-86.4nm ;第33 层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第34层，SiO2膜层，厚度为87.5-88nm ;第35层，TiO2膜层，厚度为49-49.4nm ;第36层，SiO2膜层，厚度为84-84.4nm ;第 37 层，TiO2 膜层，厚度为 41-41.4nm ;第 38 层，SiO2 膜层，厚度为 66-66.4nm ；第39层，TiO2膜层，厚度为55.5-56nm ;第40层，SiO2膜层，厚度为90.5-9Inm ;第41层，TiO2膜层，厚度为29.5-30nm ;第42层，SiO2膜层，厚度为67-67.5nm ;第43层，TiO2膜层，厚度为34-34.4nm ;第 44 层，SiO2 膜层，厚度为 64-64.5nm ;第 45 层，TiO2 膜层，厚度为 67.5_68nm ；第46层，SiO2膜层，厚度为176-176.49nm。在上述技术方案中，二氧化钛膜层21和二氧化硅膜层22通过真空镀膜(如真空蒸镀)方式形成于透明玻璃基板之上，氧化钛膜层21和二氧化硅膜层22的层数和厚度是根据二氧化钛及二氧化硅的折射率，经大量计算而得出的，二氧化钛具有较高折射率，其在部分光线波段中的折射率参见表一；二氧化硅具有较低折射率，其在部分光线波段中的折射率参见表二。表一、二氧化钛在部分光线波段中的折射率:
权利要求1.一种长波通滤光片，其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的46层膜，该46层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成，该46层膜从内至外依次为:第I层，TiO2膜层，厚度为40.5-41nm;第2层，SiO2膜层，厚度为57-57.49nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为107-107.4nm ;第4层，SiO2膜层，厚度为80-80.4nm ;第5层，TiO2膜层，厚度为48-48.4nm ;第6层，SiO2膜层，厚度为137-137.4nm ;第 7 层，TiO2 膜层，厚度为 69-69.4nm ;第 8 层，SiO2 膜层，厚度为 89.5_90nm ；第9层，TiO2膜层，厚度为60-60.4nm;第10层，SiO2膜层，厚度为144-144.4nm;第11层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第12层，SiO2膜层，厚度为101-101.4nm ;第13层，TiO2膜层，厚度为81.5-82nm ;第14层，SiO2膜层，厚度为89.8-90.3nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为67-67.4nm ;第16层，SiO2膜层，厚度为129-129.4nm ;第17层，TiO2膜层，厚度为59-59.4nm ;第 18 层，SiO2 膜层，厚度为 87.5_88nm ;第 19 层，TiO2 膜层，厚度为 85-85.49nm ；第20层，SiO2膜层，厚度为85.6-86nm ;第21层，TiO2膜层，厚度为48.5_49nm ;第22层，SiO2膜层，厚度为71.5-72nm ;第23层，TiO2膜层，厚度为44.5_45nm ;第24层，SiO2膜层，厚度为81-81.4nm;第25层，TiO2膜层，厚度为46.5_47nm;第26层，SiO2膜层，厚度为144.5-145nm ;第27层，TiO2膜层，厚度为47.5_48nm ;第28层，SiO2膜层，厚度为92.5-93nm ;第 29 层，TiO2 膜层，厚度为 55-55.4nm ;第 30 层，SiO2 膜层，厚度为 77-77.49nm ；第31层，TiO2膜层，厚度为33.5-34nm ;第32层，SiO2膜层，厚度为86-86.4nm ;第33层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第34层，SiO2膜层，厚度为87.5_88nm ;第35层，TiO2膜层，厚度为49-49.4nm ;第 36 层，SiO2 膜层，厚度为 84-84.4nm ;第 37 层，TiO2 膜层，厚度为 41-41.4nm ；第38层，SiO2膜层，厚度为66-66.4nm ;第39层，TiO2膜层，厚度为55.5_56nm ;第40层，SiO2膜层，厚度为90.5-9Inm ;第41层，TiO2膜层，厚度为29.5_30nm ;第42层，SiO2膜层，厚度为67-67.5nm ;第 43 层，TiO2 膜层，厚度为 34-34.4nm ;第 44 层，SiO2 膜层，厚度为 64-64.5nm ；第45层，TiO2膜层，厚度为67.5-68nm ;第46层，SiO2膜层，厚度为176-176.49nm。
2.根据权利要求1所述的长波通滤光片，其特征在于:所述46层膜的厚度依次为:第I 层，40.84nm ;第 2 层，57.43nm ’第 3 层，107.09nm ;第 4 层，80.0lnm ’第 5 层，48.02nm ;第 6层，137.16nm ’第 I 层，69.3nm ;第 8 层，89.88nm ;第 9 层，60.36nm ;第 10 层，144.07nm ’第 11层，55.26nm ;第 12 层 ，101.28nm ’第 13 层，81.68nm ;第 14 层，90nm ;第 15 层，67.22nm ;第 16层，129.32nm ;第 17 层，59.12nm ’第 18 层，87.53nm ;第 19层，85.4Inm ;第 20 层，85.93nm ;第21层，48.69nm ’第 22 层，71.9nm ;第 23 层，44.55nm ;第 24 层，81.04nm ’第 25 层，46.93nm ；第 26 层，144.93nm ；第 27 层，47.83nm ；第 28 层，92.89nm ；第 29 层，55.38nm ;第 30 层，77.43nm ;第 31 层，33.93nm ;第 32 层，86.03nm ;第 33 层，55.13nm ;第 34 层，87.55nm ;第 35层，49.28nm ;第 36 层，84.14nm ;第 37 层，41.25nm ;第 38 层,66.05nm ;第 39 层，55.94nm ;第40 层，90.8Inm ;第 41 层，29.88nm ;第 42 层，67.2Inm ;第 43 层，34.06nm ;第 44 层，64.16nm ；第 45 层，67.52nm ;第 46 层，176.43nm。
3.根据权利要求1或2所述的长波通滤光片，其特征在于:所述透明玻璃基板为光学玻璃基板D263T。
4.根据权利要求3所述的长波通滤光片，其特征在于:所述光学玻璃基板D263T的厚度为 0.145mm 或 0.21mm 或 0.3mm 或 0.4mm 或 0.55mm。
5.根据权利要求1或2所述的长波通滤光片，其特征在于:还包括一层磨损层，该磨损层叠加于所述的46层膜之外，该 磨损层为SiO2膜层，厚度为3-5nm。
专利摘要本实用新型公开了一种长波通滤光片，涉及滤光片技术领域。本实用新型包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的46层膜，该46层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成。本实用新型在800－1100nm的红外光波段，其红外光透过率在96%以上，而在720nm以下的波段，其整体透过率小于0.5%，能有效截除次峰，不易产生光干扰问题；本实用新型能广泛应用于红外夜视仪，自然灾害、资源普查等遥感系统红外相机，以及多光谱成像仪，且能满足高精密红外仪器设备的要求。
文档编号G02B5/20GK203164463SQ20132007600
公开日2013年8月28日 申请日期2013年2月19日 优先权日2013年2月19日
发明者奂微微, 黄兴桥 申请人:东莞五方光电科技有限公司