真空磁控溅射镀铝玻璃镜的制作方法
【专利摘要】本实用新型是一种玻璃镜，特别涉及一种真空磁控溅射镀铝玻璃镜。包括玻璃基片层，所述的玻璃基片层的背面设有与之相贴合的铝层，所述的铝层的背面设有与之相贴合的镜背漆层。真空磁控溅射镀铝玻璃镜结构紧凑，具有环保性能，质量稳定性高，适合连续生产。
【专利说明】真空磁控溅射镀铝玻璃镜
【技术领域】
[0001]本实用新型是一种玻璃镜，特别涉及一种真空磁控溅射镀铝玻璃镜。
【背景技术】
[0002]根据镜子加工过程中的生产工艺不同可分为银镜和铝镜，银镜生产工艺中采用的主要原料为硝酸银与铜，银与铜都是重金属元素，生产过程及报废时都对环境造成极其恶劣的影响。
[0003]目前，市场上所生产的镀铝玻璃镜，基本都是采用真空蒸发镀铝，即在真空状态下，通过对固体铝条加上足够大的电压和电流，使其蒸发升华，气化的铝分子沉积在玻璃表面，表层铝在成膜过程中迅速氧化，从而在表面形成一层坚硬的保护膜，隔绝空气，再淋两遍漆，从而形成铝镜。采用此种工艺生产的铝镜反射率较银镜低、成像失真，形成的铝层附着力差，工业生产中产量较低等缺点。
【发明内容】
[0004]本实用新型主要是解决现有技术中存在的不足，结构紧凑，且具有良好附着力的铝层，使成像逼真，并能批量连续生产的真空磁控溅射镀铝玻璃镜。
[0005]本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的:
[0006]一种真空磁控溅射镀铝玻璃镜，包括玻璃基片层，所述的玻璃基片层的背面设有与之相贴合的铝层，所述的铝层的背面设有与之相贴合的镜背漆层。
[0007]铝层:采用磁控溅射法，在真空状态下，通入氩气，氩气在电场和磁场的共同作用下，电离成Ar+和e_，Ar+在磁场洛伦兹力作用下发生螺旋轨迹运动，从而使其对铝靶进行轰击，招祀上的原子(target atoms)在Ar+的轰击下脱离祀材并派射到玻璃基板上,原子层层堆积从而形成所需的纳米级厚度膜层。
[0008]镜背漆层是有机材料漆，具有更低的细度、背漆硬度及耐水性更好。
[0009]作为优选，所述的玻璃基片层的厚度为3_19mm，所述的镜背漆层的厚度为30-50 μ mD
[0010]作为优选，所述的玻璃基片层、铝层、镜背漆层自上而下依次相贴合。
[0011]因此，本实用新型提供的真空磁控溅射镀铝玻璃镜，结构紧凑，具有环保性能，质量稳定性高，适合连续生产。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]图1是本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0013]下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。
[0014]实施例:如图1所示，一种真空磁控溅射镀铝玻璃镜，包括玻璃基片层1，所述的玻璃基片层I的背面设有与之相贴合的铝层2，所述的铝层2的背面设有与之相贴合的镜背漆层3。所述的玻璃基片层I的厚度为3-19mm，所述的镜背漆层3的厚度为30-50 μ m。所述的玻璃基片层1、铝层2、镜背漆层3自上而下依次相贴合。
【权利要求】
1.一种真空磁控溅射镀铝玻璃镜，其特征在于:包括玻璃基片层(I)，所述的玻璃基片层(I)的背面设有与之相贴合的铝层(2)，所述的铝层(2)的背面设有与之相贴合的镜背漆层(3 )。
2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射镀铝玻璃镜，其特征在于:所述的玻璃基片层(O的厚度为3-19mm，所述的镜背漆层(3)的厚度为30-50 μ m。
3.根据权利要求1或2所述的真空磁控溅射镀铝玻璃镜，其特征在于:所述的玻璃基片层(I)、铝层(2)、镜背漆层(3)自上而下依次相贴合。
【文档编号】G02B1/10GK203396971SQ201320439616
【公开日】2014年1月15日 申请日期:2013年7月23日 优先权日:2013年7月23日
【发明者】夏卫文, 王德标, 赵建杨 申请人:浙江格拉威宝玻璃技术有限公司