用于改变多个辐射束的性质的组件、光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法以及器件制 ...的制作方法
【专利摘要】一种改变多个辐射束的性质的组件，该组件包括多个波导，其被配置为引导多个辐射束更靠近在一起；和倍频器件，其被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束。还描述了相应的光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法和器件制造方法。
【专利说明】用于改变多个辐射束的性质的组件、光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法以及器件制造方法
[0001]相关串请的交叉引用
[0002]本申请要求2012年6月I日提交的美国临时申请61/654，575以及2012年7月6日提交的美国临时申请61/668，924的权益，其每个全部内容通过参考合并于此。
【技术领域】
[0003]本发明涉及改变多个辐射束的一个或多个性质的组件、光刻仪器、改变多个辐射束的一个或多个性质的方法和器件制造方法。
【背景技术】
[0004]光刻或曝光仪器是将所需要的图形施加到衬底上或部分衬底上的机器。例如，该仪器可以用于制造集成电路(1C)、平板显示器及其他器件或具有精细特征的结构。在常规光刻或曝光仪器中，可以被称作掩模或掩模版(reticle)的图案形成器件可以用于生成电路图案，其相应于1C、平板显示器、或其他器件的个体层。这个图案可以被转移在(部分)衬底(例如硅片或玻璃板)上，例如经由成像到在衬底上提供的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。
[0005]图案形成器件代替电路图案可以被用于生成其他图案，例如滤色器图案、或点的矩阵。该图案形成器件代替常规掩膜可以包括图案形成阵列，其包括生成电路或其他适用图案的单独可控元件的阵列。与常规的基于掩模系统相比，这种“无掩模”系统的优点是该图案能够更快且更少成本地提供和/或变化。
[0006]因此，无掩模系统包括可编程图案形成器件(例如，空间光调制器、对比度器件等)。可编程图案形成器件被(例如，电子或光学编程)为使用单独可控元件的阵列形成所期望的图案化光束。可编程图案形成器件的类型包括微镜阵列、液晶显示(IXD)阵列、光栅光阀阵列、自发射对比度器件的阵列等。可编程图案形成器件也能够由电光偏转器形成，例如其被配置为移动被投影到目标(例如，衬底)上的辐射的斑点，或者间断地将辐射束引导远离目标(例如，衬底)，例如引导到辐射束吸收体。在任意一个这种布置中，该辐射束可以连续的。
【发明内容】
[0007]405nm单模激光二极管可以用作可编程图案形成器件的自发射对比度器件。在这种布置中，一个或多个单模光纤(一种波导)可以用于传输和/或引导福射。高功率405nm单模激光二极管能够是昂贵的，并且可能具有有限的寿命。此外，可能存在光纤寿命的问题。例如，光纤的入口和/或出射表面可能快速恶化(例如，在无特别保护的数日之内)。具有保护，寿命可以根据带尾纤的激光器寿命而延长到大约3000小时。
[0008]对于可能使用高频辐射的未来应用，纤维或波导寿命和/或激光二极管成本/可用性的问题可能增加。
[0009]激光二极管在激光阈值以上连续运行时出现另一个问题。例如，这可能需要实现迅速且精确的切换。保持该激光二极管在阈值以上可能增加背景辐射水平，这可能甚至不均匀。这个效果可能导致对比度损耗。
[0010]进一步问题是激光二极管的光束指向稳定性，尤其是对于多个激光二极管并且当激光二极管之间的间距显著缩微，以至达到目标上斑点的所要求的间距。这是由于光束指向误差以与激光二极管间距的缩小成反比的方式转化为在目标水平的远心度误差所导致的情况。
[0011]期望例如解决如上所述的问题或本领域中的其他问题中的至少一个问题。
[0012]根据一个实施例，提供了一种改变多个辐射束的性质的组件，该组件包括多个波导，其被配置为将多个辐射束引导更靠近在一起；和倍频器件，其被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束。
[0013]根据一个实施例，提供了一种曝光仪器，包括:辐射源，其提供多个单独可控辐射束，该辐射源包括多个波导和倍频器件，波导被配置为将多个辐射束引导更靠近在一起，倍频器件被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束；和投影系统，其用于将每个辐射束投影到目标上的各自位置上。
[0014]根据一个实施例，提供了一种曝光仪器，包括:辐射源，其提供多个单独可控的辐射束，该辐射源包括多个竖直外腔表面发射激光器(VECSEL);和投影系统，其被配置为将每个辐射束投影到目标上的各自位置上。
[0015]根据一个实施例，提供了一种改变多个辐射束的性质的方法，该方法包括使用多个波导将多个辐射束引导更靠近在一起；和使用倍频器件接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束。
[0016]根据一个实施例，提供了器件制造方法，包括:使用多个波导将多个单独可控辐射束引导更靠近在一起；使用倍频器件接收由多个波导引导的多个辐射束并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束；和将每个辐射束投影到目标上的各自位置上。
[0017]根据一个实施例，提供了一种器件制造方法，包括:使用多个竖直外腔表面发射激光器(VECSEL)提供多个单独可控的辐射束；和将每个辐射束投影到目标上的各自位置上。
【专利附图】
【附图说明】
[0018]现在将仅仅通过示例参考附图描述本发明的实施例,其中相应的参考标记指示相应部件，并且其中:
[0019]图1描绘了根据本发明的一个实施例的光刻或曝光仪器的部件；
[0020]图2描绘了根据本发明的一个实施例的图1的仪器的部件的顶视图；
[0021]图3描绘了根据本发明的一个实施例的光刻或曝光仪器的部件的高度示意的透视图；
[0022]图4描绘了根据本发明的一个实施例的由根据图3的仪器投影到衬底上的示意顶视图；
[0023]图5以横截面描绘了本发明的一个实施例的部件；
[0024]图6描绘了多个波导和倍频器件；
[0025]图7描绘了包括VECSEL阵列的辐射源；
[0026]图8描绘了包括VECSEL和倍频器件的辐射源的组合；和
[0027]图9描绘了示例VECSEL配置。
【具体实施方式】
[0028]本发明的一个实施例涉及一种仪器，其可以包括可编程图案形成器件，该器件例如可以由自发射对比度器件的(多个)阵列组成。关于这种仪器的进一步信息可以在PCT专利申请
【发明者】H·玛尔德, P·德加格 申请人:Asml荷兰有限公司