一种阵列基板、液晶面板及显示装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及液晶显示【技术领域】，公开了一种阵列基板、液晶面板及显示装置。所述阵列基板包括支撑液晶面板盒厚的主隔垫物和辅助隔垫物，通过设置阵列基板上主隔垫物设置区域的顶面高于辅助隔垫物设置区域的顶面，并通过这个高度差来实现主隔垫物和辅助隔垫物之间的段差，从而可以设计主隔垫物和辅助隔垫物的长度相同，能够通过一次构图工艺同时形成，简化制作工艺，降低产品的生产成本。
【专利说明】一种阵列基板、液晶面板及显示装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示【技术领域】，特别是涉及一种阵列基板、液晶面板及显示装置。【背景技术】
[0002]薄膜晶体管液晶显不器(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,简称TFT-LCD)具有体积小，功耗低，无辐射等特点，近年来得到迅速发展，在当前的平板显示器市场中占据主导地位。液晶显示器的主体结构为液晶面板，在在液晶面板的制造过程中，盒厚的设计与控制是液晶显示器的关键技术之一，其直接影响液晶显示器的品质。
[0003]液晶面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，以及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。其中，阵列基板上形成有数据线和栅线，以及由数据线和栅线限定的多个像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称TFT)和像素电极，在阵列基板上覆盖有液晶取向层(PI)。彩膜基板上形成有彩色滤光片、黑矩阵和隔垫物(PS)，黑矩阵与数据线和栅线的位置对应，限定亚像素单元。液晶层厚度(即盒厚)主要通过PS的长度来进行控制。PS根据其所起到的作用，分为主PS和辅助PS，其中，主PS的长度大于辅助PS的长度，需要通过不同工艺形成。主PS在无外压力时已有压缩，并支撑盒厚，起主要支撑作用。当液晶面板受到过大外力的时候，辅助PS才起到支撑作用。
[0004]其中，PS的材料为具有弹性的聚合物，形成在黑矩阵所在的区域，顶部顶住阵列基板上的TFT，在液晶面板受到碰撞或压力时，由于PS顶部与TFT上的PI摩擦产生静电，很容易使TFT打开状态，产生蓝点。
[0005]为了解决上述技术问题，现有技术中，将PS制作在阵列基板上，但是，由于主PS的长度大于辅助PS的长度，需要通过不同工艺形成，会增加阵列基板的制作工艺。
【发明内容】
[0006]本发明提供一种阵列基板，用以解决在阵列基板上形成PS，克服在彩膜基板上形成PS带来的蓝点等技术问题时，主PS和辅助PS的长度不同，需要通过不同工艺形成，增加了制作工艺，提高了生产成本的问题。
[0007]本发明还提供一种液晶面板及显示装置，通过采用上述的阵列基板，来降低产品的生产成本。
[0008]为解决上述技术问题，本发明提供一种阵列基板，包括数据线和栅线，以及由数据线和栅线限定的多个像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极，所述阵列基板还包括隔垫物和隔垫物设置区域，所述隔垫物包括主隔垫物和辅助隔垫物；所述隔垫物设置区域包括主隔垫物设置区域和辅助隔垫物设置区域，所述主隔垫物设置在所述主隔垫物设置区域内；所述辅助隔垫物设置在所述辅助隔垫物设置区域，其中，
[0009]所述主隔垫物设置区域的顶面高于所述辅助隔垫物设置区域的顶面；
[0010]所述主隔垫物和辅助隔垫物的长度相同。
[0011]本发明还提供一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板包括黑矩阵，其中，所述阵列基板采用如上所述的阵列基板，所述阵列基板上的隔垫物设置区域与彩膜基板上的黑矩阵位置对应。
[0012]本发明还提供一种显示装置，采用如上所述的液晶面板。
[0013]本发明的上述技术方案的有益效果如下:
[0014]上述技术方案中，支撑液晶面板盒厚的主隔垫物和辅助隔垫物形成在阵列基板上，通过设置阵列基板上主隔垫物设置区域的顶面高于辅助隔垫物设置区域的顶面，并通过这个高度差来实现主隔垫物和辅助隔垫物之间的段差，从而可以设计主隔垫物和辅助隔垫物的长度相同，能够通过一次构图工艺同时形成，简化制作工艺，降低产品的生产成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1表示本发明实施例中阵列基板的结构示意图；
[0017]图2表示图1沿A-A方向的剖视图。
【具体实施方式】
[0018]需要说明的是，本发明中隔垫物的长度是指隔垫物支撑液晶面板盒厚的长度。
[0019]现有技术中为了克服在彩膜基板上形成隔垫物造成的蓝点等技术问题，在阵列基板上形成隔垫物时，由于主隔垫物起主要支撑作用，其顶面(顶住彩膜基板黑矩阵的表面)要高于辅助隔垫物的顶面(顶住彩膜基板黑矩阵的表面)，从而才能保证液晶面板在无外压力时主隔垫物已有压缩，并支撑盒厚，起主要支撑作用。只有当液晶面板受到过大外力的时候，辅助隔垫物才起到支撑作用。
[0020]在阵列基板上，为了实现主隔垫物的顶面高于辅助隔垫物的顶面，通常设计主隔垫物支撑液晶面板盒厚的长度大于辅助隔垫物支撑液晶面板盒厚的长度，这样就需要通过不同的构图工艺分别形成主隔垫物和辅助隔垫物，增加了阵列基板的制作工艺，提高了生产成本。
[0021]为了解决上述技术问题，本发明中的阵列基板包括主隔垫物设置区域和设置在所述主隔垫物设置区域内的主隔垫物，以及辅助隔垫物设置区域和设置在所述辅助隔垫物设置区域的辅助隔垫物。其中，所述主隔垫物设置区域的顶面高于所述辅助隔垫物设置区域的顶面，通过这个高度差来实现主隔垫物和辅助隔垫物之间的段差，从而可以设计主隔垫物和辅助隔垫物长度相同，并使得所述主隔垫物的顶面高于所述辅助隔垫物的顶面，起到主要支撑液晶面板盒厚的作用。从而可以通过一次构图工艺同时形成主隔垫物和辅助隔垫物，简化制作工艺，降低生产成本。
[0022]需要说明的是，隔垫物设置区域的顶面是指:液晶面板中，隔垫物设置区域最靠近彩膜基板的表面，且隔垫物形成在该表面上。
[0023]本发明的技术方案中，通过设置阵列基板上主隔垫物设置区域的顶面高于辅助隔垫物设置区域的顶面，并通过这个高度差来实现主隔垫物和辅助隔垫物之间的段差，从而可以设计主隔垫物和辅助隔垫物的长度相同，能够通过一次构图工艺同时形成，简化制作工艺，降低产品的生产成本。
[0024]下面将结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
[0025]实施例一
[0026]结合图1和图2所示，本发明实施例中提供一种阵列基板，其包括数据线20和栅线10，以及由数据线20和栅线10限定的多个像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管I和像素电极6。所述阵列基板还包括隔垫物和隔垫物设置区域，所述隔垫物包括主隔垫物11和辅助隔垫物12，所述隔垫物设置区域包括主隔垫物设置区域和辅助隔垫物设置区域，主隔垫物11设置在所述主隔垫物设置区域内，辅助隔垫物12设置在所述辅助隔垫物设置区域。
[0027]其中，所述主隔垫物设置区域的顶面高于所述辅助隔垫物设置区域的顶面，形成一定的高度差。主隔垫物11形成在所述主隔垫物设置区域的顶面上，辅助隔垫物12形成在所述辅助垫物设置区域的顶面上，从而可以利用所述高度差来实现主隔垫物11和辅助隔垫物12的段差，即，主隔垫物11的顶面高于辅助隔垫物12的顶面，起到主要支撑液晶面板盒厚的作用。
[0028]因此，本发明中可以设计主隔垫物11和辅助隔垫物12的长度相同，能够通过一次构图工艺同时形成，简化制作工艺，降低生产成本。
[0029]优选的，所述主隔垫物设置区域包括增高层图案7，以保证主隔垫物11和辅助隔垫物12的段差。
[0030]进一步地，所述主隔垫物设置区域和辅助隔垫物设置区域均位于栅线10上，由于栅线10的顶面平整，不会出现隔垫物的底面高度不一致影响液晶面板均一性的问题。而主隔垫物11和辅助隔垫物12的段差可以通过增高层图案7的厚度来实现。
[0031]进一步地，由于在阵列基板上增加了增高层图案7，为了不增加制作工艺，增高层图案7可以与薄膜晶体管I的源电极3和漏电极4通过一次构图工艺形成，即，增高层图案7与源电极3和漏电极4为由同一源漏金属膜层形成的同层结构。
[0032]当然，增高层图案7也可以与像素电极6为通过一次构图工艺形成，S卩，增高层图案7与像素电极6为由同一透明导电膜层形成的同层结构。
[0033]结合图1和图2所示，下面以底栅线型薄膜晶体管I为例，来具体说明本发明中阵列基板的结构，具体包括:
[0034]衬底基板100，如透明的玻璃基板和石英基板；
[0035]形成在衬底基板100上的栅电极2和栅线10 ；
[0036]形成在栅电极2和栅线10上的栅绝缘层101，可以为二氧化硅层、氮化硅层或氮氧化硅层，或任意两者的复合层，或三者的复合层。
[0037]形成在栅绝缘层101上的有源层图案5，有源层图案5与栅电极2的位置对应，材料可以为非晶硅或氧化物半导体；
[0038]形成在有源层图案5上的源电极3和漏电极4，以及数据线20，有源层图案5位于源电极3和漏电极4之间的部分形成薄膜晶体管I的沟道；
[0039]形成在源电极3、漏电极4和数据线20上的钝化层102，用于保护薄膜晶体管I的沟道。钝化层102上还形成有过孔，所述过孔位于漏电极4的上方，露出漏电极4 ；
[0040]形成在钝化层102上的像素电极6和增高层图案7，其中，增高层图案7与像素电极6为由同一透明导电膜层形成的同层结构，增高层图案7形成在位于栅线10上的主隔垫物设置区域，像素电极6通过钝化层102的过孔与漏电极4电性连接；
[0041]形成在增高层图案7顶面上的主隔垫物11，以及形成钝化层102上位于栅线10上方的辅助隔垫物12，其中，主隔垫物11与辅助隔垫物12的长度相同，且增高层图案7的设置使得主隔垫物11的顶面高于辅助隔垫物12的顶面。
[0042]实施例二
[0043]本发明实施例中还提供一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板包括黑矩阵，其中，所述阵列基板采用实施例一中的阵列基板，所述阵列基板上的隔垫物设置区域与彩膜基板上的黑矩阵位置对应。
[0044]由于隔垫物形成在阵列基板上，克服了隔垫物形成在彩膜基板上造成的蓝点等技术问题，提高了液晶面板的显示品质。同时，由于主隔垫物和辅助隔垫物的长度相同，可以通过一次构图工艺同时形成，简化了制作工艺，降低了生产成本。
[0045]实施例三
[0046]本发明实施例中还提供一种显示装置，采用实施例二中的液晶面板，提高了显示装置的显示品质，降低了产品的生产成本。
[0047]本发明的技术方案中，支撑液晶面板盒厚的主隔垫物和辅助隔垫物形成在阵列基板上，通过设置阵列基板上主隔垫物设置区域的顶面高于辅助隔垫物设置区域的顶面，并通过这个高度差来实现主隔垫物和辅助隔垫物之间的段差，从而可以设计主隔垫物和辅助隔垫物的长度相同，能够通过一次构图工艺同时形成，简化制作工艺，降低产品的生产成本。
[0048]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本【技术领域】的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。
【权利要求】
1.一种阵列基板，包括数据线和栅线，以及由数据线和栅线限定的多个像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管和像素电极，所述阵列基板还包括隔垫物和隔垫物设置区域，所述隔垫物包括主隔垫物和辅助隔垫物；所述隔垫物设置区域包括主隔垫物设置区域和辅助隔垫物设置区域，所述主隔垫物设置在所述主隔垫物设置区域内；所述辅助隔垫物设置在所述辅助隔垫物设置区域，其特征在于， 所述主隔垫物设置区域的顶面高于所述辅助隔垫物设置区域的顶面； 所述主隔垫物和辅助隔垫物的长度相同。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述主隔垫物设置区域包括增高层图案。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述主隔垫物设置区域和辅助隔垫物设置区域均位于栅线上。
4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述增高层图案与薄膜晶体管的源电极和漏电极为由同一源漏金属膜层形成的同层结构。
5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述增高层图案与像素电极为由同一透明导电膜层形成的同层结构。
6.一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板包括黑矩阵，其特征在于，所述阵列基板采用权利要求1-5任一项所述的阵列基板，所述阵列基板上的隔垫物设置区域与彩膜基板上的黑矩阵位置对应。
7.—种显示装置，采用权利要求6所述的液晶面板。
【文档编号】G02F1/1339GK103901672SQ201410108905
【公开日】2014年7月2日 申请日期:2014年3月21日 优先权日:2014年3月21日
【发明者】王永灿, 占红明, 林丽锋 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司