偏光膜、偏光膜的制造方法和使用该偏光膜的图像显示装置制造方法

偏光膜、偏光膜的制造方法和使用该偏光膜的图像显示装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及偏光膜、偏光膜的制造方法和使用该偏光膜的图像显示装置。提供的是一种偏光膜，其外观优异并且可以有助于图像显示装置的显示特性的改善。根据本发明的实施方案的偏光膜包括含有碘的聚乙烯醇系树脂膜。所述偏光膜具有在一表面上的碘浓度I1和在另一表面上的碘浓度I2之间的比I2/I1为3.0以上。
【专利说明】偏光膜、偏光膜的制造方法和使用该偏光膜的图像显示装 置
[0001] 本申请要求2013年9月6日申请的日本专利申请No. 2013-184792在35U. S. C. Sectionll9下的优先权，将其引入此处W作参考。

【技术领域】
[0002] 本发明涉及一种偏光膜、所述偏光膜的制造方法和使用所述偏光膜的图像显示装 置。

【背景技术】
[0003] 将偏光膜放置在作为典型的图像显示装置的液晶显示装置的液晶单元的两侧，该 放置归因于该装置的图像形成模式。例如，已经将W下表明的方法作为偏光膜的制造方法 提出（例如，日本专利申请特开No. 2000-338329)。将具有树脂基材和聚己帰醇（PVA)系树 脂层的层压体拉伸，并且然后进行染色处理从而可W在树脂基材上形成偏光膜。根据该样 的方法，获得了具有小厚度的偏光膜。因此，该方法已经引起了关注，该是因为其有助于近 年来图像显示装置的薄型化的潜能。然而，由该样的方法获得的偏光膜外观差，并且在将偏 光膜用于图像显示装置的情况下，不可W获得充分的显示特性。


【发明内容】

[0004] 根据本发明的实施方案，提供的是一种偏光膜，其外观优异并且可W有助于图像 显示装置的显示特性的改善。
[0005] 根据本发明的实施方案的偏光膜包括含有楓的聚己帰醇系树脂膜。该偏光膜具有 在一表面上的楓浓度Ii和在另一表面上的楓浓度12之间的比I2/I1为3. 0 W上。
[0006] 在本发明的一个实施方案中，具有楓浓度Ii的表面具有在波长680nm下的各向异 性反射巧c/Rp)为1. 50 W下。
[0007] 在本发明的一个实施方案中，使用偏光膜W致具有楓浓度Ii的表面在观察侧。
[0008] 根据本发明的另一个方面，提供的是如上所述的偏光膜的制造方法。该制造方法 包括；在树脂基材的一侧上形成聚己帰醇系树脂层；和将树脂基材和聚己帰醇系树脂层的 层压体拉伸和染色从而将聚己帰醇系树脂层作为偏光膜。该偏光膜在树脂基材侧的表面上 的楓浓度Ii和与树脂基材相反侧的表面上的楓浓度12之间的比12八1为3. 0 W上。
[0009] 在本发明的一个实施方案中，拉伸只使用空中拉伸进行。
[0010] 在本发明的一个实施方案中，空中拉伸时的拉伸温度是12(TCW上。
[0011] 根据本发明的另一个方面，提供的是图像显示装置。该图像显示装置包括如上所 述的偏光膜。配置该偏光膜W致具有楓浓度Ii的表面在观察侧。

【专利附图】

【附图说明】
[0012] 图1是示出在实施例1和比较例1中获得的各个偏光膜的厚度方向上的楓浓度分 布的图。
[0013] 图2是示出在实施例2和比较例2中获得的各个偏光膜的厚度方向上的楓浓度分 布的图。
[0014] 图3是示出在实施例3和比较例3中获得的各个偏光膜的厚度方向上的楓浓度分 布的图。
[0015] 图4是示出在比较例4中获得的偏光膜的厚度方向上的楓浓度分布的图。
[0016] 图5A和图5B是表明测量楓浓度分布的拉曼光谱测量的程序的示意图。
[0017] 图6是表明确定拉曼光谱测量中的积分强度分布的过程的光谱。

【具体实施方式】
[0018] 下文中，描述本发明的实施方案。然而，不将本发明限制于该些实施方案。
[001引 A.偏光膜
[0020] 本发明的偏光膜包括含有楓的聚己帰醇系树脂（下文中称为"PVA系树脂"）膜。
[0021] 任何适当的树脂可W作为形成PVA系树脂膜的PVA系树脂采用。树脂的实例包括 聚己帰醇和己帰-己帰醇共聚物。聚己帰醇通过将聚己酸己帰醋皂化而获得。己帰-己帰 醇共聚物通过将己帰-己酸己帰醋共聚物皂化而获得。PVA系树脂的皂化度典型是85mol% 至 lOOmol %，优选地 95. Omol %至 99. 95mol %，更优选地 99. Omol %至 99. 93mol %。皂化度 可W遵照JIS K 6726-1994确定。具有该样的皂化度的PVA系树脂的使用可W提供耐久性 优异的偏光膜。当皂化度过度地高时，树脂会凝胶化。
[0022] PVA系树脂的平均聚合度可W依赖目的而适当地选择。平均聚合度典型是1，000 至10, 000,优选地1, 200至5, 000,更优选地1, 500至4, 500。应该注意的是平均聚合度可 W遵照 JIS K 6726-1994 确定。
[0023] 偏光膜实质上是其中W取向（aligned)的状态吸附楓的PVA系树脂膜。进一步， PVA系树脂膜具有在一表面上的楓浓度Ii和在另一表面上的楓浓度12之间的比I2/I1为3. 0 W上，优选地3. 5 W上，更优选地4. 0 W上。当将在各个表面上的楓浓度之间的比控制在该 样的范围内时，可W获得抑制了表面的干涉不均匀并且外观优异的偏光膜。该样的效果通 过在将偏光膜应用于图像显示装置时，将具有较低楓浓度的表面（也就是，具有楓浓度Ii 的表面）配置在观察侧而变得非常显著。应该注意的是此处使用的术语"楓浓度"不是指 绝对量而是定性的概念，并且楓浓度比12八1可W例如基于由截面拉曼分析获得的强度比 而确定。另外，在偏光膜的观察侧表面上的楓浓度可W与后述的各向异性反射相关联。
[0024] 典型地，将PVA系树脂膜的具有较低楓浓度的表面（具有楓浓度Ii的表面）W在 B部分中的后述的制造方法在树脂基材侧上形成，并且具有较高楓浓度的表面（具有楓浓 度12的表面）在与树脂基材相反侧上形成。进一步，如上所述，在将偏光膜应用于图像显 示装置时，具有楓浓度Ii的表面典型地在观察侧上配置，并且具有楓浓度12的表面典型地 在与观察侧相反侧上配置。
[0025] 在一个实施方案中，在PVA系树脂膜的厚度方向上的楓浓度实质上从具有楓浓度 Ii的表面向具有楓浓度12的表面单调增加。此处使用的短语"楓浓度实质上单调增加"是 指在厚度方向上的平均楓浓度的分布曲线既不具有最大值也不具有最小值的事实。关于该 点，平均楓浓度是指对于通过将PVA系树脂膜在其厚度方向上W 1 y m的间隔分割获得的 各个区域通过拉曼分析测量的强度的中值。因此，即使在"楓浓度实质上单调增加"的情况 下，楓浓度具有最大值和/或最小值的区域可W局部地（也就是，在各个分割的区域中）存 在。该样的楓浓度分布可W通过在B部分中的后述的制造方法而不用染色时的任何复杂操 作实现。进一步，用该样的楓浓度分布，可W确保充分的光学特性（例如，后述的单片透过 率和偏光度）。
[002引 PVA系树脂膜（偏光膜）的厚度优选是12 y m W下，更优选8 y m W下，再更优选 6 y m W下。具有该样的厚度的PVA系树脂膜趋于具有高的楓浓度，并且可W显著地获得基 于在各个表面上的楓浓度之间的差的规定的外观改善效果。另一方面，PVA系树脂膜的厚 度优选是1. 0 y m W上，更优选地2. 0 y m W上。
[0027] 通过设置在PVA系树脂膜的各个表面上的楓浓度之间的差，可W降低要获得的偏 光膜在其沿吸收轴方向的可见光长波长区域（例如，580nm至780nm)的反射率。该效果在 具有较低楓浓度的表面（也就是，具有楓浓度Ii的表面）上特别地显著。PVA系树脂膜的 具有楓浓度Ii的表面具有在波长680nm下的各向异性反射巧c/化）优选为1. 50 W下，更优 选地1. 30 W下，再更优选1. 20 W下。具有该样的各向异性反射，抑制了表面上的干涉不均 匀。并且可W获得优异的外观。具有较高楓浓度的表面（也就是，具有楓浓度12的表面） 具有例如大约1. 55至1. 85的Rc/化。应该注意的是化表示沿偏光膜的透过轴方向的反射 率，并且Rc表示沿偏光膜的吸收轴方向的反射率。
[0028] 偏光膜优选地展示出在波长380皿至780皿的任何一个下的吸收二色性。偏光 膜的单片透过率优选是40. 0% W上，更优选地41. 0% W上，再更优选42. 0% W上，特别优 选地43. 0% W上。偏光膜的偏光度优选是99. 8% W上，更优选地99. 9% W上，再更优选 99. 95% W上。
[0029] B.偏光膜的制造方法
[0030] 根据本发明的一个实施方案的偏光膜的制造方法典型地包括；在树脂基材的一侧 上形成PVA系树脂层；和将树脂基材和PVA系树脂层的层压体拉伸和染色从而将聚己帰醇 系树脂层作为偏光膜。
[003。 B-1.PVA系树脂层的形成
[0032] 任何适当的方法可W作为形成PVA系树脂层的方法而采用。PVA系树脂层优选地 通过将含有PVA系树脂的涂布液涂布至树脂基材，随后通过干燥而形成。
[0033] 任何适当的热塑性树脂可W作为树脂基材形成材料而采用。热塑性树脂的实例包 括；醋系树脂例如聚对苯二甲酸己二醇醋系树脂；环帰姪系树脂例如降冰片帰系树脂；帰 姪系树脂例如聚丙帰；聚醜胺系树脂；聚碳酸醋系树脂；和其共聚物树脂。该些中，优选降 冰片帰系树脂和无定形聚对苯二甲酸己二醇醋系树脂。
[0034] 在一个实施方案中，各自优选地使用无定形（非结晶的）聚对苯二甲酸己二醇醋 系树脂。该些中，特别优选地使用非结晶（难结晶）聚对苯二甲酸己二醇醋系树脂。非结 晶聚对苯二甲酸己二醇醋系树脂的具体实例包括进一步含有作为二駿酸的间苯二甲酸的 共聚物和进一步含有作为二醇的环己焼二甲醇的共聚物。
[00巧]在一个实施方案中，树脂基材的玻璃化转变温度（Tg)是6(TCW上。该样的树脂基 材的使用防止了不便例如在含有PVA系树脂的涂布液的涂布和干燥期间的树脂基材的变 形（也就是，凹凸、堆叠（slack)或起皱的发生），因此确保层压体的良好生产。另外，该使 用确保了在合适的温度（也就是，大约6(TC)下的PVA系树脂层的良好拉伸。在另一个实 施方案中，允许低于6(TC的玻璃化转变温度，只要树脂基材在含有PVA系树脂的涂布液的 涂布和干燥期间不变形即可。应该注意的是树脂基材的玻璃化转变温度可W通过例如将改 性基团导入构成材料或加热由结晶化材料构成的基材来调节。玻璃化转变温度（Tg)是遵 照JIS K 7121测定的值。
[0036] 树脂基材的厚度（拉伸前）优选是20 y m至300 y m，更优选地50 y m至200 y m。 当厚度小于20 y m时，可能难W形成PVA系树脂层。当厚度超过300 y m时，拉伸时可能需 要过度大的负荷。
[0037] 涂布液典型是通过将PVA系树脂在溶剂中溶解制备的溶液。溶剂的实例包括水、 二甲基亚讽、二甲基甲醜胺、二甲基己醜胺、N-甲基化咯焼丽、例如各种二醇类和H轻甲基 丙焼等的多元醇类、和例如己二胺和二亚己基H胺等的胺类。溶剂可W单独地或W组合使 用。该些中，优选水。相对于100重量份的溶剂，溶液的PVA系树脂的浓度优选是3重量份 至20重量份。在该样的树脂浓度下，可W形成与树脂基材紧密接触的均一的涂膜。
[0038] 涂布液可W配混有添加剂。添加剂的实例包括增塑剂和表面活性剂。增塑剂的实 例包括多元醇类例如己二醇和甘油。表面活性剂的实例包括非离子表面活性剂。该样的添 加剂可W用于另外改善要获得的PVA系树脂层的均一性、染色性或拉伸性的目的。另外，添 加剂的实例包括易粘接成分。易粘接成分的使用可W改善树脂基材和PVA系树脂层之间的 粘附性。结果，抑制了例如PVA系树脂层从基材上剥落等的不便，并且可W良好地进行后述 的染色和水中拉伸。将例如己醜己醜基改性PVA的改性PVA作为易粘接成分使用。
[0039] 任何适当的方法可W作为涂布液的涂布方法而采用。方法的实例包括親涂法、 旋涂法、线棒涂法、浸涂法、模涂法、帘式涂布法、喷涂法和刮涂法（逗点涂布法（comma coating method)等）。
[0040] 将涂布液优选地在5(TC W上的温度下涂布和干燥。
[0041] 树脂基材可W在PVA系树脂层形成前进行表面处理（例如电晕处理）。可选择地， 易粘接层可W在树脂基材上形成。该样的处理可W改善树脂基材和PVA系树脂层之间的粘 附性。
[004引 PVA系树脂层的厚度（拉伸前）优选是3 y m至20 y m。
[0043] B_2.拉伸
[0044] 下一步，将在B-1部分中获得的树脂基材和PVA系树脂层的层压体拉伸和染色从 而将PVA系树脂层作为偏光膜。拉伸和染色的顺序可W依赖目的和拉伸模式等适当地设 置。具体地，可W首先进行拉伸，可W首先进行染色，或在多阶段进行拉伸的情况下，染色可 W在拉伸和拉伸之间进行。在该实施方案中，典型地首先进行拉伸。
[0045] 任何适当的方法可W作为层压体的拉伸方法而采用。具体地，可W采用固定端拉 伸，或可W采用自由端拉伸（例如，涉及将PVA系树脂层在具有不同圆周速度的親之间穿过 从而单轴拉伸该层的方法）。该些中，优选自由端拉伸。该是因为促进了 PVA系树脂层的结 晶化并且楓浓度分布可W容易地如下所述生产。
[0046] 可W适当地设置拉伸方向。在一个实施方案中，将具有长形状的PVA系树脂层沿 其长度方向拉伸。在该情况下，典型地采用涉及将PVA系树脂层（层压体）在具有不同圆周 速度的親之间穿过从而拉伸该层的方法。在另一个实施方案中，将具有长形状的PVA系树 脂层（层压体）沿其宽度方向拉伸。在该情况下，典型地采用涉及将该层使用拉幅（tenter) 拉伸装置来拉伸的方法。
[0047] 拉伸模式优选是空中拉伸模式。通过采用空中拉伸模式，可W设置在后述染色中 要获得的PVA系树脂膜（偏光膜）的各个表面上的楓浓度之间的期望的差。更具体的说， 可W使PVA系树脂膜的树脂基材侧的表面上的楓浓度较低，并且可W使与树脂基材相反侧 的表面上的楓浓度较高。在一个实施方案中，可W控制楓浓度从而从树脂基材侧的表面至 与树脂基材相反侧的表面实质上单调增加。进一步，该样的楓浓度分布可W在染色时不用 任何复杂操作而实现。该样的楓浓度控制可W通过在染色前促进PVA系树脂层的结晶化而 容易地实现。特别地，空中拉伸模式和自由端拉伸的组合使用允许PVA系树脂层的结晶度 控制在高范围内。拉伸温度优选是l〇(TC至18(TC，更优选地lOCrC至16(TC。当温度过度 高时，PVA系树脂层的结晶化过度地进行，并且会产生问题例如拉伸性降低和染色性降低。 当温度过度低时，拉伸性降低或PVA系树脂层的结晶化在一些情况下不充分地进行，因此 不可W获得期望的楓浓度分布。当采用该样的拉伸方法时，楓浓度可W通过调节染色浴的 楓浓度和在染色浴中的浸溃时间而容易地控制。仅在拉伸和染色的特定组合的大量尝试和 错误W及它们与要获得的PVA系树脂膜（偏光膜）楓浓度的关系的研究后，已经获得该样 的发现，并且是意料不到的优异效果。
[0048] 拉伸可W在一个阶段进行，或可W在多个阶段进行。当拉伸在多个阶段进行时，例 女口，自由端拉伸和固定端拉伸可组合进行。另外，当拉伸在多个阶段进行时，后述的PVA 系树脂层的拉伸倍率（最大拉伸倍率）是各个阶段的拉伸倍率的乘积。
[0049] 相对于PVA系树脂层（层压体）的原始长度，拉伸倍率（最大拉伸倍率）优选是 4.0倍W上。应该注意的是此处使用的术语"最大拉伸倍率"是指PVA系树脂层（层压体） 的断裂前即刻的拉伸倍率。单独地确认在PVA系树脂层（层压体）断裂时的拉伸倍率，并 且低于该值0. 2的值是最大拉伸倍率。
[0050] B-3.染色
[0051] PVA系树脂层的染色典型地通过使PVA系树脂层吸附楓而进行。吸附的方法是例 如涉及将PVA系树脂层（层压体）在含有楓的染色液中浸溃的方法、涉及将染色液涂布至 PVA系树脂层的方法，或涉及将染色液在PVA系树脂层上喷涂的方法。该些中，优选涉及将 PVA系树脂层（层压体）在染色液中浸溃的方法。该是因为楓可W良好地吸附至该层。
[0052] 染色液优选是楓的水溶液。相对于100重量份的水，楓的配混量优选是0. 1重量 份至0. 5重量份。楓的水溶液优选地配混有楓化物，该是为了可W增加楓在水中的溶解度。 楓化物的实例包括楓化钟、楓化裡、楓化轴、楓化锋、楓化铅、楓化铅、楓化铜、楓化顿、楓化 巧、楓化锡和楓化铁。该些中，优选楓化钟。相对于100重量份的水，楓化物的配混量优选 是0. 02重量份至20重量份，更优选地0. 1重量份至10重量份。染色时的染色液的液温优 选是2(TC至5(TC，W抑制PVA系树脂的溶解。在将PVA系树脂层在染色液中浸溃的情况 下，浸溃时间优选是5砂至5分钟，W确保PVA系树脂层的透过率。另外，可W设置染色条 件（浓度、液温和浸溃时间）W致最后要获得的偏光膜的偏光度、单片透过率和/或楓浓度 分布可W落在预期的范围内。在一个实施方案中，设置浸溃时间W致要获得的偏光膜的偏 光度可W变为99.98% W上。在另一个实施方案中，设置浸溃时间W致要获得的偏光膜的单 片透过率可W变为40%至44%。进一步，如上所述，根据一个实施方案，通过拉伸的空中拉 伸模式的使用，楓浓度分布可w不用任何复杂操作而仅通过调节染色条件（浓度、液温和 浸溃时间）来控制。也就是，可W使PVA系树脂膜的树脂基材侧的表面上的楓浓度较低，并 且可W使与树脂基材相反侧的表面上的楓浓度较高。
[0053] B-4.其它处理
[0054] 除了拉伸和染色W外，PVA系树脂层（层压体）可W适当地进行用于将PVA系树脂 层作为偏光膜的处理。用于将PVA系树脂层转变为偏光膜的处理的实例包括不溶化处理、 交联处理、清洗处理和干燥处理。应该注意的是不对那些处理的次数和顺序等特别地限制。 [00巧]不溶化处理典型地通过将PVA系树脂层（层压体）在测酸水溶液中浸溃而进行。 耐水性可W通过将该层进行不溶化处理而赋予至PVA系树脂层。相对于100重量份的水，测 酸水溶液的浓度优选是1重量份至4重量份。不溶化浴（测酸水溶液）的液温优选是2(TC 至 5(TC。
[0056] 交联处理典型地通过将PVA系树脂层（层压体）在测酸水溶液中浸溃而进行。耐 水性可W通过将该层进行交联处理而赋予至PVA系树脂层。相对于100重量份的水，测酸 水溶液的浓度优选是1重量份至5重量份。另外，当交联处理在染色处理后进行时，溶液优 选地进一步配混有楓化物。配混有楓化物的溶液可W抑制作为使PVA系树脂层已经吸附的 楓的洗脱。相对于100重量份的水，楓化物的配混量优选是1重量份至5重量份。楓化物 的具体实例如上所述。交联浴（测酸水溶液）的液温优选是2(TC至6(TC。在优选的实施 方案中，空中拉伸、染色处理和交联处理顺次进行。
[0057] 清洗处理典型地通过将PVA系树脂层（层压体）在楓化钟水溶液中浸溃而进行。 干燥处理的干燥温度优选是3(TC至locrc。
[0058] 因此，偏光膜在树脂基材上形成。
[0059] 偏光膜典型地在其中将保护膜层压在其一侧或两侧的每侧上（也就是，作为偏光 板）的状态下使用。将任何适当的粘接剂或压敏粘合剂用于保护膜的层压。当使用树脂基 材时，树脂基材可W直接地作为保护膜使用而不剥离。
[0060] C.图像显示装置
[0061] 本发明的图像显示装置包括本发明的偏光膜（在很多情况下，偏光板）。将偏光膜 典型地配置在图像显示装置的观察侧，并且配置W致具有较低楓浓度（具有楓浓度Ii)的 表面可W在观察侧。如上所述，本发明的偏光膜的具有较低楓浓度的表面抑制了干涉不均 匀并且具有优异的外观。配置偏光膜W致偏光膜的该表面可W在观察侧，可W有助于图像 显示装置的显示特性的改善（特别地在黑显示时）。
[0062] 图像显示装置的实例包括液晶显示装置和有机化显示装置。当用于液晶显示装 置时，将偏光膜优选地配置在液晶元件的观察侧。
[0063] 下文中，通过实施例具体地描述本发明。然而，本发明不受该些实施例限制。应该 注意的是各个特性的测量方法如W下描述。
[0064] 1.厚度
[0065] 测量用数字测微计（Anritsu Co巧oration制造，商品名；"KC-351C")进行。
[0066] 2.玻璃化转变温度（Tg)
[0067] 测量遵照JIS K 7121进行。
[006引[实施例U
[0069] 用作树脂基材的是含有间苯二甲酸作为共聚成分并且具有75C的Tg的长形状的 无定形聚对苯二甲酸己二醇醋（A-PET)膜（厚度；100ym)。
[0070] 将具有4, 200的聚合度和99. 2mol %的皂化度的PVA水溶液涂布至树脂基材的一 表面并且在6(TC下干燥从而形成具有13 y m的厚度的PVA系树脂层。因此，生产层压体。
[0071] 将所得的层压体在其纵向（长度方向）上在13CTC的烘箱中在具有不同圆周速度 的親之间W 4. 2倍进行自由端单轴拉伸。
[0072] 下一步，将层压体在具有3(TC的液温的染色浴（通过将100重量份的水与0. 2重 量份的楓和1. 0重量份的楓化钟配混获得的楓水溶液）中浸溃60砂（染色处理）。
[0073] 下一步，将层压体在具有6(TC的液温的交联浴（通过将100重量份的水与5重量 份的楓化钟和5重量份的测酸配混获得的测酸水溶液）中浸溃30砂（交联处理）。
[0074] 之后，将层压体在具有3(TC的液温的清洗浴（通过将100重量份的水与4重量份 的楓化钟配混获得的水溶液）中浸溃，并且然后用6(TC的暖风干燥（清洗-干燥处理）。 [007引因此，具有6. 0 y m的厚度的偏光膜（PVA系树脂膜）在树脂基材上形成。
[0076] 将H己醜纤维素膜化0NICA MINOLTA, INC.制造，商品名；"KC4UY"，厚度；40ym) 作为第一保护膜通过借助粘合剂贴合至获得的树脂基材和偏光膜的层压体的偏光膜表 面。进一步，剥离树脂基材，并且将H己醜纤维素膜化0NICA MINOLTA, INC.制造，商品名： "KC4UY"，厚度；40ym)作为第二保护膜通过借助粘合剂贴合至剥离面。用于该情况的粘合 剂是具有己醜己醜基改性基团的PVA(KURARAY C0.，LTD.制造，商品名；"Z200")。因此，获 得了偏光板。将压敏粘合剂涂布至获得的偏光板的第一保护膜侧表面。也就是，采用其中 偏光板的第二保护膜侧的表面（树脂基材侧的表面）在观察侧的构成。
[0077] [实施例引
[0078] 除了将拉伸倍率改变为4. 0倍和形成具有7. 0 y m的厚度的偏光膜W外，将偏光板 W与实施例1中相同的方式获得。进一步，W与实施例1中相同的方式，采用其中偏光板的 第二保护膜侧的表面（树脂基材侧的表面）在观察侧的构成。
[007引[实施例引
[0080] 除了将涂布的PVA水溶液的厚度改变从而形成具有20 y m的厚度的PVA系树脂 层，和因此形成具有11. Oum的厚度的偏光膜W外，将偏光板W与实施例1中相同的方式获 得。进一步，W与实施例1中相同的方式，采用其中偏光板的第二保护膜侧的表面（树脂基 材侧的表面）在观察侧的构成。
[00引][比较例U
[0082] 将偏光板W与实施例1中相同的方式获得。将压敏粘合剂涂布至获得的偏光板的 第二保护膜侧的表面。也就是，采用其中偏光板的第一保护膜侧的表面（与树脂基材相反 侧的表面）在观察侧的构成。
[008引[比较例引
[0084] 将偏光板W与实施例2中相同的方式获得。将压敏粘合剂涂布至获得的偏光板的 第二保护膜侧的表面。也就是，采用其中偏光板的第一保护膜侧的表面（与树脂基材相反 侧的表面）在观察侧的构成。
[00财[比较例引
[0086] 将偏光板W与实施例3中相同的方式获得。将压敏粘合剂涂布至获得的偏光板的 第二保护膜侧的表面。也就是，采用其中偏光板的第一保护膜侧的表面（与树脂基材相反 侧的表面）在观察侧的构成。
[0087] [比较例句
[0088] 用作树脂基材的是含有间苯二甲酸作为共聚成分并且具有75C的Tg的长形状的 无定形聚对苯二甲酸己二醇醋（A-PET)膜（厚度；100]im)。
[0089] 将具有4, 200的聚合度和99. 2mol %的皂化度的PVA水溶液涂布至树脂基材的一 表面并且在6(TC下干燥从而形成具有10 y m的厚度的PVA系树脂层。因此，生产层压体。
[0090] 将所得的层压体在其纵向（长度方向）上在12CTC的烘箱中在具有不同圆周速度 的親之间在2. 0倍下进行自由端单轴拉伸（空中辅助拉伸）。
[0091] 下一步，将层压体在具有3(TC的液温的不溶化浴（通过将100重量份的水与4重 量份的测酸配混获得的测酸水溶液）中浸溃30砂（不溶化处理）。
[0092] 下一步，将层压体在具有3(TC的液温的染色浴（通过将100重量份的水与0. 2重 量份的楓和1. 0重量份的楓化钟配混获得的楓水溶液）中浸溃60砂（染色处理）。
[0093] 下一步，将层压体在具有3(TC的液温的交联浴（通过将100重量份的水与3重量 份的楓化钟和3重量份的测酸配混获得的测酸水溶液）中浸溃30砂（交联处理）。
[0094] 之后，在浸溃在具有7(TC的液温的测酸水溶液（通过将100重量份的水与4重量 份的测酸和5重量份的楓化钟配混获得的水溶液）中的同时，将层压体在具有不同圆周速 度的親之间沿纵向（长度方向）单轴拉伸（溶液中拉伸）。在该情况下，总拉伸倍率是原始 长度的5. 5倍。
[0095] 进一步，将层压体在具有3(TC的液温的清洗浴（通过将100重量份的水与4重量 份的楓化钟配混获得的水溶液）中浸溃，并且然后用6(TC的暖风干燥（清洗-干燥处理）。 [009引因此，具有5. 0 y m的厚度的偏光膜（PVA系树脂膜）在树脂基材上形成。
[0097] 接着，将偏光板通过W实施例1相同的过程获得。进一步，W与实施例1中相同的 方式，采用其中偏光板的第二保护膜侧的表面（树脂基材侧的表面）在观察侧的构成。
[0098] 实施例1至3和比较例1至4中获得的各偏光膜的观察侧的表面的反射率如W下 描述测量，并且计算其各向异性反射。进一步，测量在各个获得的偏光膜的厚度方向上的楓 浓度分布。表1示出评价结果。关于楓浓度分布，图1示出实施例1和比较例1的偏光膜 的测量结果，图2示出实施例2和比较例2的偏光膜的测量结果，图3示出实施例3和比较 例3的偏光膜的测量结果，并且图4示出比较例4的偏光膜的测量结果。应该注意的是各 图1至图3中的"基材表面"在各实施例的偏光膜的观察侧，并且在与各比较例的偏光膜的 观察侧的相反侧，并且图4中的"基材表面"在比较例4的偏光膜的观察侧。
[009引（反射率）
[0100] 将沿透过轴方向的反射率（化）和沿吸收轴方向的反射率巧C)用分光光度计 化itachi Hi曲-Technologies Co巧oration制造，U-4100)测量。在测量中，将光源的入射 角设置为5°，并且将测量波长设置为680nm。应该注意的是各向异性反射由Rc/化计算。
[0101] (楓浓度分布）
[0102] (i)拉曼光谱测量
[0103] 如图5A中表明，将在实施例和比较例中获得的各个层压体的中央部分沿偏光膜 的吸收轴方向（拉伸方向）和沿偏光膜的厚度方向使用超薄切片机（LEICA MICROSYSTEMS 制造，商品名；"LEICA ULTRACUT UCT"或"LEICA EM UC7")切断，从而生产在垂直于偏光膜 的吸收轴方向和垂直于偏光膜的厚度方向的方向上尺寸大约100 nm的超薄切片样品。
[0104] 拉曼光谱的装置和条件如下所述。
[010引?装置：显微拉曼光谱仪；UbRAM HR-800, J0BIN YV0N S. A. S.制造化0RIBA J0BIN YV0N S. A. S.制造，HR800)
[0106] ?激发波长；514. 5nm
[0107] ?光栅；1, 800gr/mm
[010引?物镜；X 100 (开口数（numerical aperture) ;0. 9)
[0109] ?测量间距（pitch) ;0. 1 y m
[0110] 如图5B中表明，将超薄切片样品的偏光膜截面，沿偏光膜的厚度方向W 0. 1 y m的 间隔的测量点处进行拉曼光谱测量。使激光进入W致其偏光面平行于偏光膜的吸收轴方向 (拉伸方向）并且垂直于超薄切片样品的偏光膜截面。另外，将分析仪放置在超薄切片样品 后面。将分析仪的偏光面设置为平行于激光的偏光面。
[011。 在实施例和比较例的各拉曼光谱中，在lOScnfi附近观察到对应于V的峰，并且在 158cnTi附近观察到对应于Ig-的峰。
[om] 和I5-的积分强度分布的计算
[011引可见光区域（380皿至780nm)的主要吸收通过由V和与PVA形成的楓/PVA 复合物展示出。因此，V和的拉曼强度的测量使得能够比较影响观察的有效的楓量。具 体的计算过程如W下描述。
[0114] 对于在各测量点处获得的拉曼光谱，SOcnfi至ISOcnfi范围内的波数间隔的积分强 度通过进行基线校正而测定。
[0115] 基线校正如下进行；如图6中表明，在SOcm4至ISOcnfi范围内的波数间隔中，使 用连接在SOcm 4的波数下的拉曼强度和ISOcnfi的波数下的拉曼强度的各个点的直线从而 近似直线形式的拉曼光谱的基线（图6中的直线ab)，并且将测量时的基线的斜率（slope) 用距离定义为拉曼强度的近似直线的距离来校正。将偏光膜的在厚度方向上的积分强度分 布从在各测量点处获得的积分强度确定。将在厚度方向上的积分强度分布定义为楓浓度分 布。
[0116]

【权利要求】
1. 一种偏光膜，其包括含有碘的聚乙烯醇系树脂膜，在一表面上的碘浓度Ii和在另一 表面上的碘浓度12之间的比12/%为3. 0以上。
2. 根据权利要求1所述的偏光膜，其中具有所述碘浓度^的表面的在波长680nm下的 各向异性反射（Rc/Rp)为1. 50以下。
3. 根据权利要求1所述的偏光膜，其中使用所述偏光膜以致具有所述碘浓度^的表面 在观察侧。
4. 一种根据权利要求1所述的偏光膜的制造方法，所述制造方法包括： 在树脂基材的一侧上形成聚乙烯醇系树脂层；和 将所述树脂基材和所述聚乙烯醇系树脂层的层压体拉伸和染色从而将所述聚乙烯醇 系树脂层作为偏光膜， 所述偏光膜在所述树脂基材侧的表面上的碘浓度Ii和与所述树脂基材相反侧的表面 上的碘浓度12之间的比12/%为3. 0以上。
5. 根据权利要求4所述的制造方法，其中所述拉伸只使用空中拉伸进行。
6. 根据权利要求5所述的制造方法，其中所述空中拉伸时的拉伸温度是120°C以上。
7. -种图像显示装置，其包括根据权利要求1所述的偏光膜， 其中配置所述偏光膜以致具有所述碘浓度Ii的表面在观察侧。
【文档编号】G02B5/30GK104422983SQ201410447662
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2014年9月4日 优先权日:2013年9月6日
【发明者】后藤周作, 上条卓史, 宫武稔 申请人:日东电工株式会社