专利名称：电子照像光敏材料的制作方法
技术领域：
本发明涉及电子照像的光敏材料，更准确地说涉及重复使用过程中具有优良耐久性和电学特性极其稳定的电子照像光敏材料。
用于电子照像光敏材料的光电导材料是无机光电导材料，如硒、硫化镉和氧化锌，或有机光电导材料如聚乙烯咔唑。如附图中的
图1所示，单层光敏材料在电导性基体1上有单个光敏层20，它含有这样的光电导材料2。近年来，已研制出双层层压型光敏材料并付诸实施。后一种型式的光敏材料具有光敏层，它具有分成接受光和产生载荷子作用和迁移所产生的载荷子作用的光电导作用。也就是说，如图2所示，它们在电导基体1上有光敏层21，该层是由电荷产生层4和电荷迁移层6组成的层压制件，电荷产生层4含有电荷产生物质3，它能起到接受光而产生载荷子的作用，而电荷迁移层6含有电荷迁移物质5，它能起到迁移所产生的载荷子作用。
有机光电导材料具有许多优点，以致于可以获得种类繁多的材料并可按要求进行选择；成膜对于生产光敏材料来说是容易的；所得到的膜是挠性的；而且是经济的。因为具有这些优点，已经进行了积极地研究和研制，而且已经发现了使用这些材料的有机光敏材料的实际用途。已知实例包括如U.S.P.3,484,237中所述包含电荷转移配合物的单个光敏层的光敏材料，该配合物是由乙烯基咔唑和三硝基芴酮化合形成的；如日本专利申请公开号25658/1973所述具有染料敏化的光敏层的光敏材料；如日本专利申请公开号30328/1972和18545/1972中所述的光敏材料，该材料具有单个光敏层，光敏层包含分散于空穴转移剂或电子转移剂内的颜料；和如日本专利申请公开号105537/1974所述光敏材料，该材料具有双层层压型光敏层，光敏层主要由层压在一起的电荷产生层和电荷迁移层构成。在它们当中，双层的层压型光敏材料靠着优选其相应功能的材料制成相应薄层并结合在一起，很可能获得高的感光性和极好的特性。因此，正在急于研制这种类型的光敏材料。
在电子照像设备中，为获得影像，光敏材料通常要经过多步骤的循环，如电晕充电、影像曝光、显像、转印和清洗。在该过程中，要求光敏材料能显示稳定的特性。然而，至今所获得的有机光敏材料就其特性中的稳定性和重复使用过程中的耐久性来说并不完全令人满意。重复使用会引起表面电位下降(破坏充电性质)，像密度降低，最后会使光敏材料不能使用。
这类损坏的原因尚不清楚，而且牵涉到各种因素。目前，似乎可能的解释如下已知电晕放电可以产生活化气体如臭氧和NOx。在成像过程中，光敏材料持续地暴露于电晕放电的环境中。这样，在这些气体的影响下发生了破坏作用。
为了避免这种影响，电子照像仪采用能消除电晕电荷周围气体的装置。然而，完全除去这些气体是困难的。
图2中示出了上述双层层压型的光敏材料，尤其是常常具有这样一种结构，该结构中电荷迁移层6叠加在薄的电荷产生层4上以保护它。对于目前使用中的有机电荷迁移剂来说，通常空穴作为载荷子迁移，而且所使用的上述结构的光敏材料是带负电荷的。负电晕放电会产生大量的活化气体如离子和NOx，使损坏的问题甚至更严重。
作为预防这一问题的方法，已知把各种抗氧剂加到光敏层中，例如日本专利申请公开号122444/1982提出加入受阻酚，日本专利申请公开号143763/1986推荐加大量受阻酚，而日本专利申请公开号105151/1987提出加特殊结构的受阻酚。作为使用受阻胺的实例，日本专利申请公开27693/1994和27694/1994提出加入受阻胺和专用电子接受体化合物。
使用这类抗氧剂可以一定程度地防止光敏材料由于气体如臭氧和NOx的影响而发生损坏。为了满足当前市场对长寿命光敏材料的需求，必须增强预防效果。
为满足这一需求完成了本发明。本发明的目的是提供一种电性能极好和甚至在长期的重复使用过程中显著改进了特性稳定性的光敏材料，采用的方法是往光敏层中的含空穴电荷迁移剂层中加特定的化合物。
根据本发明，通过把下列混合物掺入到至少提供在导电性基体上的一种含空穴电荷迁移剂的层中解决上述问题一种混合物，含有至少一种选自通式(A1)的氢化苯偶姻化合物或通式(A2)的氢化苯偶姻化合物(下文统称为A组化合物)的物质，和至少一种选自通式(B1)的受阻酚或通式(B2)的一组醌或通式(B3)的氢醌(下文统称B组化合物)的物质
A组化合物中的R和R′彼此可不同也可相同，并且各自代表一个氢原子、卤素原子、氰基、硝基、任选地具有取代基的烷基、任选地具有取代基的烷氧基、任选地具有取代基的芳基、或任选地具有取代基的芳烷基。
B组化合物中的R1—R29彼此可以不同也可相同，且各自代表一个氢原子、卤素原子、取代的或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基、取代的或未取代的环烷基、取代的或未取代的烷氧基、或取代的或未取的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、酰基、烷基酰氨基、芳基酰氨基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基磺酰、芳基磺酰、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基酰氧基、芳基酰氧基、甲硅烷基或杂环基团。
含空穴电荷迁移剂的层指的是图1所示的单层型光敏材料中的光敏层20，或图2所示层压型光敏材料的电荷迁移层6。
详细地说，上述问题是通过在含空穴电荷迁移剂层中掺入一种混合物解决的，该混合物含有至少一种选自通式(A1)的氢化苯偶姻化合物和至少一种选自通式(B1)的受阻酚。
上述问题还可通过在含空穴电荷迁移剂的层中掺入一种混合物解决，该混合物含有至少一种选自通式(A1)的氢化苯偶姻化合物和至少一种选自通式(B2)的一组醌的物质。
上述问题还可通过在含空穴电荷迁移剂的层中掺入一种含有至少一种选自通式(A1)的氢化苯偶姻化合物和至少一种选自通式(B3)的氢醌的混合物解决。
上述问题还可通过在含空穴电荷迁移剂的层中掺入一种混合物解决，该混合物含有至少一种选自通式(A2)的氢化苯偶姻化合物和至少一种选自通式(B1)的受阻酚。
上述问题也可通过在含空穴电荷迁移剂的层中掺入一种混合物解决，该混合物含有至少一种选自通式(A2)的氢化苯偶姻化合物和至少一种选自通式(B2)的一组醌的物质。
上述问题还可通过在含空穴电荷迁移剂的层中掺入一种混合物解决，该混合物含有至少一种选自通式(A2)的氢化苯偶姻化合物和至少一种选自通式(B3)的氢醌。
按照本发明电导性基体的实例包括金属筒或薄片，所述金属如铝、铜、锌、镍和铁，或这些金属的合金；以及纸、塑料或玻璃筒或薄片，为了获得电导性在它们的表面上层压电导性薄片、或沉积金属、或涂上电导性涂料。必要时，可将基体表面进行氧化处理或用化学品、臭氧、紫外线或等离子体处理。
需要时，还可在基体表面涂上一层可溶性聚酰胺、酪蛋白、聚乙烯醇或尿烷的内涂层。
在电导性基体上形成含颜料和空穴电荷迁移剂的单层型光敏层(图1)，或双层层压型光敏层(图2)，它主要由电荷产生层和电荷迁移层构成，电荷产生层主要含颜料，而电荷迁移层主要含空穴电荷迁移剂，电荷产生层和电荷迁移层被层压在一起，由此构成光敏材料。双层层压型的光敏材料是优选的，因为它结合了对于相应功能最佳材料形成的相应层。因此，该光敏材料非常有可能具有极好的特性。
电荷产生层是通过把下列颜料分散在具有粘合剂树脂的有机溶剂中，然后在电导性基体上涂层分散体制成的，所述颜料是酞菁颜料，偶氮颜料，二苯并〔cd，jk)芘-5，10-二酮颜料、苝颜料、perinone颜料、squalyium颜料、噻喃鎓顔料，或喹吖啶酮颜料，所述粘合剂树脂是聚乙烯醇缩丁醛、聚氯乙烯共聚物、丙烯酸系树脂、聚酯或聚碳酸酯。电荷产生层的厚度优选为0.1—2μm。
电荷迁移层是通过使空穴电荷迁移剂如烯胺化合物、苯乙烯基化合物、腙化合物或胺化合物与树脂一起转变成溶液，该树脂可与如聚酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯、或聚苯乙烯任何一种化合物相容，再加入与本发明有关的特定化合物以制备涂料溶液，然后将其涂在电荷产生层上。电荷迁移层的厚度定为10—40μm。
层压电荷产生层和电荷迁移层的顺序可以颠倒。使用带负电荷的具有层压在电荷产生层上的电荷迁移层的光敏材料，而使用带正电荷的具有层压在电荷迁移层上的电荷产生层的光敏材料。
在本发明所用的A组化合物中，通式(A1)的氢化苯偶姻化合物包括例如下列化合物
通式(A2)的氢化苯偶姻化合物包括例如下列化合物
在B组化合物中，用通式(B1)表示的受阻酚包括例如具有酚结构单元的化合物，该化合物的酚羟基邻位上存在着庞大的原子团，正如日本专利申请公开号118137/1989所详细描述的。该庞大原子团是支链的烷基。上述化合物的实例如下
用通式(B2)表示的醌、二苯醌和茋醌的实例如下
由通式(B3)表示的氢醌实例如下
通过把一种含有至少一种选自上述特定A组化合物和上述特定B组化合物的混合物掺入含空穴电荷迁移剂的层中，可阻止该光敏层的损坏，并且可显著地改善该光敏材料的稳定性。
掺入光敏层的A组化合物和B组化合物的混合物量优选范围按各种化合物重量计为0.1％—20％。
本发明上述和其它目的、效果、特征和优点根据下面对实施方案连同附图的描述将会变得更明显。
图1是单层型光敏材料的截面结构图。图2是双层层压型光敏材料的截面结构图。
下面将描述本发明的实施方案，但这些实施方案不是对本发明的限制。实例1—1将外径为60mm、长348mm和厚1mm的铝圆柱外表面用涂料溶液浸渍涂覆，该溶液是通过把10重量份的溶剂可溶性聚酰胺(CM—8000，Toray工业公司)溶于60重量份甲醇和40重量份的丁醇溶剂混合物中制备的。这样可制成厚度为1μm的内涂层。
然后，把5重量份的聚乙烯醇缩丁醛(SLEK BM—2，Sekisui化学有限公司)，400重量份环己酮和5重量份下文指出的结构式(I)偶氮颜料与600重量份直径1mm的玻璃珠一起在砂磨机中分散3小时，制备形成电荷产生层的涂料溶液。 将这种涂料溶液浸渍涂覆在内涂层上，形成干基厚度为0.2μm的电荷产生层。
然后，再把10重量份下文指出的结构式(II)的电荷迁移剂、10重量份聚碳酸酯Z(Z—500，Teijin Kasei Kabushiki Kaisha)、0.5重量份通式(A1—1)的化合物和0.5重量份通式(B1—1)的化合物溶解于100重量份的二氯甲烷中，制备形成电荷迁移层的涂料溶液。 使这种涂料溶液浸渍涂覆在电荷产生层上，制成干基厚度为20μm的电荷迁移层，于是，生产出图2所示的层压结构的光敏材料。对比例1—1按与例1—1相同方式生产光敏材料，只是在供形成电荷迁移层用的涂料溶液中既不加通式(A1—1)化合物也不加通式(B1—1)的化合物。实例1—2到1—10和对比例1—2到1—10按与例1—1相同方式生产实例1—2到1—10和对比例1—2到1—10的光敏材料，只是用表1所列各种混合物替换加到形成电荷迁移层用涂料溶液的A1组化合物和B1组化合物的混合物。
通过光敏材料评价仪来评价各种光敏材料的特性。在光敏材料旋转的条件下，其表面用电晕管充电至-800V。然后使光敏材料在黑暗处静置5秒钟，再测量5秒钟内黑暗衰减保留速率Vk5(％)。随后，把能产生2勒照度但得不到波长650nm或更长的卤素灯光线投射到光敏材料上，测量充电电位衰减至-400V所需要的时间。根据达到该衰减值所需暴露时间，测量感光性，E1/2(勒·秒)。开始进行这种测量并使光敏材料在100ppm臭氧的气氛中静置12小时后，由此研究由于暴露于臭氧中特性方面的变化。结果列于表1中。
表1<
p><p>如表1所示，各实例的光敏材料(其中将A1组化合物的氢化苯偶姻化合物和B1组化合物的受阻酚混合并掺入电荷迁移层中)由于暴露于臭氧中，其特征变化比对比例的光敏材料小。因此，很清楚，通过将这些化合物混合并掺入到电荷迁移层中可抑制光敏层的损坏。
实例2—1到2—6和对比例2—1到2—9按与实例1—1相同方式生产实例2—1到2—6和对比例2—1到2—9的光敏材料，只是按表2指示改变加入到电荷迁移层中的化合物。
按实例1—1等的光敏材料的相同方法评价各种光敏材料的特性。结果列于表2中。
表2
<p>如表2所示，上述各实例的光敏材料(其中将A1组化合物的氢化苯偶姻化合物和B2组化合物的醌混合并掺入电荷迁移层中)由于暴露于臭氧中，如实例1的情况，其特征变化比对比例的光敏材料小。因此，通过将这些化合物混合并掺入到电荷迁移层中可抑制光敏层的损坏。实例3—1到3—10和对比例3—1到3—10按与实例1—1相同方式生产实例3—1到3—10和对比例3—1到3—10的光敏材料，只是按表3指示改变加入到电荷迁移层中的化合物。
按与实施例1—1等光敏材料同样的方式评价各光敏材料的特性。结果列于表3。
表3<<
<p>如表3所示，上述各实例的光敏材料(其中将A1组化合物的氢化苯偶姻化合物和B3组化合物的氢醌混合并掺入电荷迁移层中)由于暴露于臭氧中，如实例1的情况，其特性变化比对比例的光敏材料小。因此，很清楚，通过将这些化合物混合并将混合物掺入到电荷迁移层中可抑制光敏层的损坏。实例4—1到4—6和对比例4—1到4—9按与实例1—1相同方式生产实例4—1到4—6和对比例4—1到4—9的光敏材料，只是按表4所示改变加入到电荷迁移层中的化合物。
通过按与实例1—1等的光敏材料情况相同方式评价各种光敏材料的特性。结果列于表4中。
表4
<p>如表4所示，上述各实例的光敏材料(其中将A2组化合物的氢化苯偶姻化合物和B1组化合物的受阻酚混合并掺入电荷迁移层中)由于暴露于臭氧中，如实例1的情况，其特性变化比对比例的光敏材料小。因此，很清楚，通过将这些化合物混合并将混合物掺入到电荷迁移层中可抑制光敏层的损坏。实例5—1到5—6和对比例5—1到5—9按与实例1—1相同方式生产实例5—1到5—6和对比例5—1到5—9的光敏材料，只是按表5所示改变加入到电荷迁移层中的化合物。
按与实例1—1等光敏材料情况相同方式评价各光敏材料的特性。结果列于表5中。
表5
如表5所示，上述各实例的光敏材料(其中将A2组化合物的氢化苯偶姻化合物和B2组化合物的醌混合并掺入电荷迁移层中)由于暴露于臭氧中，如实例1的情况，其特性变化比对比例的光敏材料小。因此，很清楚，通过将这些化合物混合并掺入到电荷层中可抑制光敏层的损坏。实例6—1到6—6和对比例6—1到6—9按与例1—1相同方式生产实例6—1到6—6和对比例6—1到6—9的光敏材料，只是按表6所示改变加入到电荷迁移层中的化合物。
按与实例1—1等的光敏材料情况相同方式评价各光敏材料的特性。结果列于表6中。
表6
如表6所示，上述各实例的光敏材料(其中将A2组化合物氢化苯偶姻化合物和B3组化合物的氢醌混合并掺入电荷迁移层中)由于暴露于臭氧中，如实例1的情况，其特性变化比对比例的光敏材料小。因此，很清楚，通过将这些化合物混合并掺入到电荷迁移层中可抑制光敏层的损坏。
上述实施方案描述的光敏材料具有在电导性基体上按此顺序层压的电荷产生层和电荷迁移层。然而，层压的顺序可以颠倒。既然是这样，通过往电荷迁移层中加入上述化合物可获得相同的效果。本发明的实施方案中也包括单层光敏材料。既然如此，只要把上述化合物掺入整个单层光敏层中就可以了。
按照本发明，通过向光敏材料中含空穴电荷迁移剂的层(在导电基体上至少有该层)中掺入一种混合物，能获得具有优良电学特性和甚至在长期的重复使用中显著改善稳定特性的光敏材料，所述混合物含有至少一种选自上述A组化合物的物质和至少一种选自上述B组化合物的物质。
根据优选的实施方案详细地描述了本发明，现在将会清楚在不偏离本发明的情况下可在更宽范围内进行各种变更和改进，因此，在附加的权利要求中覆盖落入本文发明真实精神范围内的所有这些变更和改进方案都是我们的目的。
权利要求
1.一种电子照像光敏材料，它在电导性基体上至少有一含空穴电荷迁移剂的层，所述层含有至少一种选自通式(A1)的氢化苯偶姻化合物 和至少一种选自通式(B1)的受阻酚， 所述通式(A1)化合物中的R和R′彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、氰基、硝基、任选地具有取代基的烷基、任选地具有取代基的烷氧基、任选地具有取代基的芳基、或任选地具有取代基的芳烷基，所述通式(B1)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烷氧基、或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷氨基、芳氨基、酰基、烷基酰氨基、芳基酰氨基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基磺酰、芳基磺酰、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基酰氧基、芳基酰氧基、甲硅烷基、或杂环基团。
2.一种电子照像光敏材料，它在电导性基体上至少有一含空穴电荷迁移剂的层，所述层含有至少一种选自通式(A1)的氢化苯偶姻化合物 和至少一种选自通式(B2)的一组醌的物质， 所述通式(A1)化合物中的R和R′彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、氰基、硝基、任选地具有取代基的烷基、任选地具有取代基的烷氧基、任选地具有取代基的芳基、或任选地具有取代基的芳烷基，所述通式(B2)化合物中R1—R29彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烷氧基、或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、酰基、烷基酰氨基、芳基酰氨基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基磺酰、芳基磺酰、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基酰氧基、芳基酰氧基、甲硅烷基、或杂环基团。
3.一种电子照像光敏材料，它在电导性基体上至少有一含空穴电荷迁移剂的层，所述层含有至少一种选自通式(A1)的氢化苯偶姻化合物， 和至少一种选自通式(B3)的氢醌， 所述通式(A1)化合物中的R和R′彼此不同或相同，而且各表示一个氢原子、卤素原子、氰基、硝基、任选地具有取代基的烷基、任选地具有取代基的烷氧基、任选地具有取代基的芳基、或任选地具有取代基的芳烷基，所述通式(B3)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烷氧基，或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、酰基、烷基酰氨基、芳基酰氨基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基磺酰、芳基磺酰、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基酰氧基、芳基酰氧基、甲硅烷基、或杂环基团。
4.一种电子照像光敏材料，它在电导性基体上至少有一含空穴电荷迁移剂的层，所述层含有至少一种选自通式(A2)的氢化苯偶姻化合物， 和至少一种选自通式(B1)的受阻酚， 所述通式(A2)化合物中的R和R′彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、氰基、硝基、任选地具有取代基的烷基、任选地具有取代基的烷氧基、任选地具有取代基的芳基、或任选地具有取代基的芳烷基，所述通式(B1)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烷氧基，或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、酰基、烷基酰氨基、芳基酰氨基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基磺酰、芳基磺酰、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基酰氧基、芳基酰氧基、甲硅烷基、或杂环基团。
5.一种电子照像光敏材料，它在电导性基体上至少有一含空穴电荷迁移剂的层，所述层含有至少一种选自通式(A2)的氢化苯偶姻化合物， 和至少一种选自通式(B2)的一组醌的物质， 所述通式(A2)化合物中的R和R′彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、氰基、硝基、任选地具有取代基的烷基、任选地具有取代基的烷氧基、任选地具有取代基的芳基、或任选地具有取代基的芳烷基，所述通式(B2)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烷氧基，或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、酰基、烷基酰氨基、芳基酰氨基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基磺酰、芳基磺酰、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基酰氧基、芳基酰氧基、甲硅烷基、或杂环基团。
6.一种电子照像光敏材料，它在电导性基体上至少有一含空穴电荷迁移剂的层，该层含有至少一种选自通式(A2)的氢化苯偶姻化合物 和至少一种选自通式(B3)的氢醌， 所述通式(A2)化合物中的R和R′彼此不同或相同，并且各代表一个氢原子、卤素原子、氰基、硝基、任选地具有取代基的烷基、任选地具有取代基的烷氧基、任选地具有取代基的芳基、或任选地具有取代基的芳烷基，所述通式(B3)化合物中的R1—R29彼此不同或相同，并且各表示一个氢原子、卤素原子、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的环烷基、取代或未取代的烷氧基，或取代或未取代的芳氧基、烷硫基、芳硫基、烷基氨基、芳基氨基、酰基、烷基酰氨基、芳基酰氨基、烷基氨基甲酰基、芳基氨基甲酰基、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基氨磺酰、芳基氨磺酰、烷基磺酰、芳基磺酰、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基酰氧基、芳基酰氧基、甲硅烷基、或杂环基团。
全文摘要
一种混合物被掺到至少提供在电导性基体上的含空穴电荷迁移剂的层中，所述混合物含有至少一种选自特定氢化苯偶姻化合物的物质，和至少另一种选自特定的受阻酚或特定醌或特定氢醌的物质。由此获得了优良电特性和甚至在长期使用中显著改进稳定特性的有机电子照像光敏材料。
文档编号G03G5/06GK1132863SQ9511714
公开日1996年10月9日 申请日期1995年8月31日 优先权日1994年9月1日
发明者野上纯孝, 北泽通宏 申请人:富士电机株式会社