减少木纹干涉图案的光热敏成象元件的制作方法

专利名称：减少木纹干涉图案的光热敏成象元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及由一种卤化银细粒、一种可还原银源、一种银离子还原剂和一种粘合剂组成的射线增感的光热敏成象元件；特别是涉及有提供均匀光密度的乳液涂层的光热敏成象元件，它们没有由相干射线成象产生的某些类型的光学图案。
半导体光源，特别是在可见光区、特别是红光区和近红外区电磁光谱发射的激光二极管不断增长的可供性和应用已导致对用于医学诊断和图象技术使用的光热敏成象材料的需求，这些材料能有效地被激光固象器、光发射二极管或激光影象仪曝光，并且能形成高分辨率和高清晰度的清晰图象。此外，半导体光源已用于袖珍自动设备的设计，这种设备使成象过程的生产率提高，特别是在医学诊断和图象技术应用中。光热敏成象元件的目的是要不使用湿加工化学品，并为用户提供一种更简便的环境友好地热法体系。
用热处理而不用液体显影剂的含卤化银的光热敏成象材料(即可热显影的光成象元件)在本专业中已知多年了。这些材料也称为“干银”组合物或乳剂，它们通常有以下组分涂覆在上的支撑体层(a)一种辐照时产生银原子的光敏材料；(b)一种非光敏的可还原的银源；(c)一种银离子的还原剂(即显影剂)，例如非光敏的可还原的银源中的银离子；以及(d)一种粘合剂。
光敏材料通常是必须与非光敏的可还原银源处于催化接近度的光成象卤化银。催化接近度要求这两种材料密切的物理结合，以致通过光成象卤化银被辐射或曝光产生银原子(也称为银微粒、簇团或核)时，这些银核能催化可还原银源的还原。早已认识到，银原子(Ag°)是银离子还原的催化剂，以及认识到，光敏的卤化银可用许多种不同的方法与非光敏的可还原银源处于催化接近度中。例如，催化接近度可用以下方法达到可还原银源与含卤素源的部分复分解(如参见US3457075)；卤化银和可还原银源材料的共沉淀(如参见US3839049)；以及其他能使光敏的光成象卤化银和非光敏的可还原银源紧密结合的方法。
非光敏的可还原银源是一种含有银离子的材料。通常，优选的非光敏的可还原银源是有10-30个碳原子的长链脂族羧酸的银盐。通常使用山萮酸或有类似分子量的混合酸的银盐。其他有机酸或有机材料的银盐，如咪唑羧酸盐已提出。US4260677公开了无机或有机银盐的络合物作为非光敏的可还原银源的应用。
在光成象的和光热敏成象的乳剂中，光成象卤化银暴露到光中可生成小的银原子(Ag°)簇团。这些簇团作为潜影的成影象的分布在本专业中是已知的。这些潜影用普通的方法通常是不可见的。因此，光敏乳剂必须进一步处理才能产生可见图象。这一点通过与带有银原子族团的卤化银细粒(即潜影)处于催化接近度的银离子的还原来实现。
在光热敏成象元件中，有机银盐的还原剂常常称为显影剂，它可为任何一种可将银离子还原成金属银的材料，优选为任何这样的有机材料。在升温下，在潜影存在下，非光敏的可还原银源(如山萮酸银)被银离子的还原剂还原。这样就得到元素银的底片黑白影象。
虽然常规的光成象显影剂如棓酸甲酯、氢醌、取代的氢醌、受阻酚、邻苯二酚、焦棓酚、抗坏血酸和抗坏血酸衍生物是可用的，但它们倾向于得到很高活性的光热敏成象配方，在光热敏成象元件的制备和涂层过程中产生灰雾。因此，受阻双酚还原剂通常是优选的。
因为在黑白光热敏成象元件中的可见图象通常完全由元素银(Ag°)产生，所以人们不容易减少乳剂中银的数量，而又不降低最大的图象密度。但是，为了降低用于乳剂的原料费用和/或为了提高性能，减少银的数量常常是希望的。例如，可加入调色剂来改善光热敏成象元件的银图象的颜色。提高光成象的和光热敏成象的乳剂中的最大图象密度而又不增乳剂层中银的数量的另一方法是将染料形成或染料释放材料加到乳剂中。成象时，染料形成材料或染料释放材料被氧化，在曝光区域同时生成染料和还原银的图象。用这一方法可得到染料增强的黑白银的图象。
成象技术早已认识到光热敏成象和热敏成象的领域与光成象明显不同。光热敏成象元件和热敏成象元件与常规的需要湿加工的卤化银光成象元件有很大区别。
在光热敏成象元件和热敏成象元件中，通过加热，由于加在元件内的显影剂的反应，产生可见的图象。加热对于显影是必要的，通常需要100℃以上的温度。相反，常规的湿加工光成象元件需要在含水的加工溶液中加工，以得到可见的图象(如显影和定影浴液)；显影通常在更加缓和的条件(如30-50℃)下进行。
在光热敏成象元件中，仅有少量卤化银用来吸收光，而不同形式的银(如山萮酸银)用于用热产生图象。因此，卤化银用作非光敏的可还原银源显影的催化剂。相反，常规的湿加工黑白光成象元件只使用一种形式的银(如卤化银)，这种形式的银在显影时本身被转化成银图象。另外，光热敏成象元件每单位面积需要一定数量的卤化银，其量为用于常规湿加工卤化银用量的1/100。
光热敏成象体系使用一种光不敏感的银盐，如山萮酸银，它与显影剂一起参与潜影显影。相反，光成象体系在图象形成过程中不直接使用光不敏感的银盐。因此，光热敏成象元件中的图象主要通过光不敏感的银源(山萮酸银)的还原来形成，而光成象黑白元件中的图象主要通过卤化银来形成。
在光热敏成象元件和热敏成象元件中，体系的所有“化学”都包括在元件本身内。例如，光热敏成象元件和热敏成象元件在其元件内加有显影剂(即非光敏的可还原银源的还原剂)，而常规的光成象元件不加显影剂。与光成象乳剂相比，显影剂加到光热敏成象元件中可使光热敏成象乳剂的涂层时“灰雾”的生成量增加。甚至在所谓的一步摄影中，显影剂化学与卤化银物理分离，一直到希望显影为止。正进行许多努力来制造这样的光热敏成象元件和热敏成象元件，以减少涂层时、贮存中和后加工老化中灰雾的生成量。
同样，在光热敏成象元件中，未曝光的卤化银在显影后固有地被保留，而且该元件必需对进一步的显影是稳定的。相反，在显影后卤化银从光成象元件中除去，以防止进一步成象(即定影步骤)。
在光热敏成象元件和热敏成象元件中，粘合剂能有很宽的变化，各种粘合剂都可用于制造这些元件。相反，光成象元件差不多仅限于亲水性胶体粘合剂，如明胶。
因为光热敏成象元件和热敏成象元件需要热加工，所以它们在制造和使用中有不同的考虑因素并有明显不同的问题。此外，用来直接影响成象过程的添加剂(如稳定剂、防灰雾剂、增速剂、增感剂、超增感剂等)的影响可随它们是否加到光热敏成象元件或热敏成象元件中或者加到光成象元件中而变化。
光热敏成象元件和光成象元件之间的区别在以下文献中描述成象过程和材料(Neblette’s Eighth Edition)；J.Sturge等编辑，VanNostrand ReinholdNew York，1989；第9章和非常规成象过程；E.Brinckman等编辑；The Focal Press.London和New York1978；第74-75页。
光敏纪录材料可因称为光晕的现象而受到损失，光晕现象可使纪录的图象的质量降低。当射到光敏层的一部分成象光线未被吸收，而通过涂有光敏层的软片底层时，这样的质量降低可能出现。达到底层的一部分光线可能反射回来，从下面射到光敏层上。在有些情况下，如此反射的光线可能明显影响光敏层的总曝光度。在光敏元件中的任何颗粒物都可能使通过元件的光线散射。从软片底反射来的散射光当第二次通过光敏层时可使想要曝光的点相邻的区域曝光。这就是引起图象质量降低的至少一种形式。因为光敏层含有光散射的颗粒物，所以光热敏成象材料易于产生这种形式的图象质量降低。光散射对图象质量的影响如在T.H.James“光成象法的理论”，第4版，第20章，Macmillan1977中很好地证明和描述。
通常的做法是将光吸收层加到光热敏成象元件内。该层的目的是吸收在各涂层内散射的光线，否则这些光线会使图象清晰度下降。为了有效，该层吸收的光必需与光敏层敏感性有相同波长的光。
在成象材料涂在透明基片的情况下，光吸收层经常涂在离光敏层的基片的背面一侧上。这样的涂层称为背面涂覆的“防光晕层”，它有效地减少通过光敏层的任何光线的反射。通常将光吸收层夹在光敏层和基片之间可达到同样的效果。
这样的结构称为“防光晕底层”，它可用于在透明底层或不透明基片上的光敏涂层上。可将光吸收材料加到光敏层中，以吸收散射光。用于这一目的物质称为“阻光染料”。通过将光吸收层涂在光成象元件的光敏层上也可改进图象的质量。在US4581323和4312941中描述的这类涂层可防止散射光在光成象元件的各内表面之间的多次反射。
欧洲专利申请书0377961和US4581325描述了用于光成象元件和光热敏成象元件，分别加入多次甲染料和全极性菁染料的红外防光晕体系。虽然这些染料有良好的红外吸收率，但是它们也有可见光吸收率，该吸收率对用于随后的曝光或取景来说是太高。
能满足红外/可见光吸收率比为30∶1的所需技术要求的防光晕体系包括在欧洲专利申请书0403157和美国专利申请书08/072153(1993年11月23日提交)描述的热-染料-漂白结构。
除了适合的防光晕外，得到适合的感光性能的一个重要步骤是加入光敏卤化银。在本专业中卤化银细粒加到光热敏成象元件中可按许多种方式来实现是大家熟悉的，但基本上是从外部将卤化银加到有机银盐中，或者是将卤化物盐原位加到有机银盐中。卤化银细粒加到光热敏成象材料中在研究公开，1978年6月，No.17029中描述。在本专业中也要求，当卤化银外加入时，有可能更加准确地控制组成和细粒的大小，以致可使光热敏成象元件有更特定的性质，并且可比原位技术有更加一致的结果。
对于得到高质量的医学和照相技术应用的光热敏成象材料所需的，受卤化银组分影响的其他性能特性是高显影效率、高感光度、高的最大密度(Dmax)和低的最小密度(Dmin)以及低烟雾。US4435499指出，这些特性未被用于外加配方的常规制备的立方细粒卤化银明胶光成象乳剂充分强调。事实上，他们指出片状细状的一些优点得到高的感光度，同时又保持高的表面积，以致银的效率仍是高的。但是，大家都知道，片状细粒有相当宽的粒度分布，它通常使这种光敏材料比单峰分布的光敏材料有更低的反差。
虽然US4435499证明了高的感光度和高的显影效率，但是它未指出，得到高的Dmax或者Dmin和烟雾仍比使用很细的常规立方细粒时更低。事实上，已知更大的细粒常常得到高的烟雾程度。
光成象材料和光热敏成象材料的红外超感化得到高的感光度在美国专利申请书No.USSN07/846919(1992年4月13日提交)中有详细描述。
在光热敏成象元件中有许多种不同的添加剂和改性剂，以优化介质的图象质量。例如，通常希望使成象组分尽可能均匀地在整个乳剂层分布，以及使各层的厚度均匀，并尽可能光滑。
当高质量的光热敏成象介质用相干射线(如激光成象体系)曝光，并在整个软片表面有均匀的曝光程度时，在整个表面产生类木纹外外观。这一有害的现象(称为“木纹”)是暴露到相干射线中时介质中产生的寄生图象，它明显与木材中的纹理图象相似，因此得名。这些图象常常既不是对称的，也不是重复出现的，象抛光木材中的纹理，表现为在图象表面上光学密度(光亮度和暗度)变化。当然，这样的寄生图象在任何一种图象质量是关键的成象体系中都是不希望的。
但是，本发明人已发现，相干射线处理的涂层质量和光热敏成象元件的总均匀性越好，“木纹”图象越突出。此外，在散光或均匀的白炽光曝光时，显影图象的光密度越均匀，在暴露到相干射线时在相同的介质中产生的木纹图象看来更严重。
现已发现，这类图象是光热敏成象体系特有的，甚至用相干射线多次扫描(如在湿加工卤化银介质的商业设备上进行的，如有关光热敏成象元件的美国专利申请书No.08/198970(1994年2月18日提交)已表明在最终的图象中这一特殊类型的图象改进很少。
本发明公开了一些能进一步得到高质量光热敏成象体系的元件，尤其是那些对红光或红外线特别增感的元件，它们有极好的图象质量，特别是有均匀的光密度特性和很低程度或没有木纹图案。另一方面是在380纳米波长处有低的吸收率，便于图象技术应用，如接触印刷。
根据本发明，提供了一种光谱增感的光热敏成象卤化银元件，该元件有一在至少一个表面上有光热敏成象组合物的支撑体层；该组合物当暴露到散光或均匀的白炽光中且在对元件敏感的射线波长下暴光时，在整个表面上有均匀的图象密度；所述的元件含有至少两层，包括顶层和光热敏成象乳剂层；所述的光热敏成象乳剂层含有一种粘合剂、一种光不敏感的银源、一种银离子的还原剂和红外射线敏感的卤化银细粒，其中相干射线在其通过元件的通道中比它照射到顶层时变得更易扩散。这可至少按以下几部分来实现1)元件的顶层因表面改性，其中有0.05-30％产生的烟雾(haze)；2)在顶层上有随意的折射图案；3)在含卤化银的层中产生烟雾；4)面向光热敏成象组合物的支撑体层表面的反射特性已改变，以减少相干射线反射入所述的组合物中；和/或5)在光热敏成象元件内含有射线吸收材料，以减少支撑体层反射出的光。
当上述元件有所述的适合物理改性，以改变成象射线通入和/或通过光敏层的某些特性时，可得到均匀的光密度，低的木纹作用。换句话说，减少木纹所用的机理包括使相干射线在元件表面扩散，使相干射线在元件表面的折射随意变形，吸收元件内的射线和/或改变来自带有光敏的光热敏成象层的支撑体层的射线的反射特性。
本发明还提供一种紫外射线敏感的可成象介质曝光的方法，该法包括以下步骤a)将光热敏成象元件暴露到对卤化银细粒敏感的相干射线中，以形成潜影；b)加热曝光后的所述元件以使所述的潜影显影成可见图象，它没有任何肉眼可见的木纹图案；c)使其上有可见图象的元件在紫外线能源和紫外射线光敏的可成象介质之间定位，以及d)使所述的可成象介质暴露到通过所述可见图象的紫外射线中，在有可见图象的区域吸收紫外射线，而在没有可见图象的区域透射紫外射线。
本发明还提供一种光谱上增感的光热敏成象的卤化银元件，该元件包括在至少一个表面上有光热敏成象乳剂层的支撑体层，乳剂层当暴露到散光或均匀的白炽光中且在对组合物敏感的射线波长下曝光时，在整个表面有均匀的成象密度；当所述的元件的整个表面均匀地暴露到对它特别敏感的相干射线中时，所述元件的相邻1毫米2区域之间的平均光密度的偏差小于0.05；所述元件包括一顶层和所述的光热敏成象乳剂层，后者含有一种粘合剂、一种光不敏感的银源、一种银离子的还原剂和射线敏感的卤化银细粒。
红外敏感的卤化银细粒可原位形成或预先制成，但优选预先制成。
优选的是，卤化银细粒的数均粒度小于0.10微米，而有红外峰值吸收率(加工前)与可见光吸收率(加工前和/或后)比大于或等于30∶1的防光晕染料或阻光染料。
另一改进是加入超增感剂以增加制品的红外感光性。
这些细粒如上述超增感剂的组合提供了一种高感光度、高Dmax高效率、低Dmin和低烟雾的元件，该元件可用于图象技术和诊断成象应用，作为相干射线(如激光)曝光软片。
可还原银源的还原剂可为可直接氧化或间接氧化形成或释放染料的化合物。
当用于本发明的光热敏成象元件被加热显影时，优选在基本上不含水的条件下，在成象曝光后或成象曝光同时，在约80至约250℃(176-482°F)下加热约1秒至约2分钟，在曝光区域或未曝光区域得到有曝光的光敏卤化银的图象。
如这里使用的，在基本上不含水的条件下加热指在80-250℃下加热。术语“基本上不含水的条件”指反应体系差不多与空气中的水处于平衡，不必特别从外部给元件提供引发或促进反应的水。这样的条件在T.H.James的“光成象法的理论”，第4版，第374页中描述。
正如这里使用的，术语“乳剂层”指含有光敏银盐(如卤化银)和光不敏感的银源材料的光热敏成象元件层。
正如这里使用的，术语“光热敏成象元件”指含有至少一光热敏成象乳剂层和任何一种支撑体层、顶涂层、图象接收层、阻挡层，防光晕层、打底层等的结构物。
对本发明来说，红外光谱区规定为750-1400纳米区，可见光谱区规定为400-750纳米区，红光区规定为640-750纳米区。红光区优选为650-700纳米区。
到目前为止，由于光热敏成象体系低的感光度，低Dmax、平淡反差以及在高Dmax下不够清晰等，它们还未用于医学诊断或图象技术激光纪录用途。待审的美国专利申请书No.08/072153(1993年11月23日提交)和08/239984(1994年5月9日提交)描述了光热敏成象元件的大部分特性和属性，例如有防光晕体系，卤化银细粒的平均粒度小于0.10微米以及红外超增感化使红外光热敏成象制品达到医学或图象技术激光纪录应用的技术要求。
木纹问题的重要原因之一是光敏涂层的高质量和一致性和均匀性。在本发明的实施中，均匀的涂层是在透明支撑体层上的这样的光热敏成象层，当用白炽光在光热敏成象层的最大感光度的波长下曝光进行均匀成象以及进行均匀显影时，该层提供了这样一种图象它在灰晕(greyout)光密度为1.8及均匀的成象介质逆光下从一曝光区到另一曝光区的光密度没有大于5％光密度单位的明显变化。涂层均匀性的这一概念对于鉴赏是重要的。在涂层质量不均匀的情况下，对于医学诊断用途以及其他高图象质量的成象格式来说，材料的成象能力是不够的。不过，正在达到涂层质量的现代极限，事实上它产生了严重的木纹问题。
可用肉眼观测的最容易观测的涂层质量实施方案是基片上的图象，它用白炽光源产生的光均匀散光并用白光通过逆光观测，如在医疗诊断成象屏上使用的。然后均匀地加热光热敏成象元件(这可用美国专利申请书No.08/239709(1994年5月9日提交)和美国专利申请书No.08/289284中公开的热显影体系来做到)。根据介质的感光度来控制强度，以提供这样一“灰晕”，在表面上均匀的光密度为1.0-2.0、优选1.5-1.9、最优选约1.8。当通过透明基片上逆光显影的介质观测的图象显示肉眼可观测的光密度偏差小于0.1、优选小于0.075、更优选小于0.05、更优选小于0.04、最优选小于0.03时，达到均匀的光密度。准确地测量这些数值是可能的，但是肉眼观测是对一致性最好的评价。当逆光合理时，整个成象制品光密度的变化程度与涂层的厚度和组成的均匀性有关。应当指出，以前出售的最高级商业光热敏成象软片当如此成象和显影时，图象密度有很高的和很随意的变化。
虽然本申请人只能假想木纹现象的正确原因，但看来这一现象是由光热敏成象层厚度的微小变化引起的。这些假想的微小变化使相干的成象射线形成光干涉图象，它以随意的图案改变射线的有效成象强度(升高或降低)。本质上，在总厚度为10-40微米的光敏层中厚度的微小变化(变化看来在约10-200纳米范围并有某些固有的周期性)看来引起光敏层内干涉量变化。
这一现象的各种特性基于这些事实相同介质在与相干射线曝光相同波长的白炽光曝光中不存在这一现象；以及随着光敏涂层的均匀性提高，这一效果变得更明显。在US4711838(Grzeskowiak和Philip)提出减少在激光曝光的光成象元件中的条纹。该专利强调的这种现象与光热敏成象元件中的木纹图案不同。由于在光热敏成象元件中弱的吸收和微小的散射，木纹问题是光热敏成象元件特有的。
已发现在本发明的实施例中，光热敏成象元件的四个明显的改进对降低显影的图象中的木纹作用是有效的(1)增加顶涂层(最上层)和/或乳剂层的烟雾(将顶涂层表面弄粗糙，使顶涂层或银乳剂中的折射指数不均匀)；(2)将光敏层和支撑体层之间的界面弄粗糙；(3)降低或分散在乳剂-支撑体层界面处的反射；以及(4)在乳剂层中加入阻光染料。
本发明可从许多不同的科学观点来考虑。这些观点之一是作为一种在光谱上增感的光热敏成象卤化银元件；该元件包括在其至少一面上有光热敏乳剂层的支撑体层；当暴露到散光或均匀的白炽光中且在对组合物敏感的射线波长下曝光时，在其整个表面有均匀的图象密度；以及当所述的元件的整个表面均匀暴露到对所述元件在光谱上敏感的相干射线中时，任何三个直线连续的0.5毫米2至5厘米2的正方形规定的区域(即三个正方形排成一行成边长1×边长3的长方形)中平均光密度的偏差小于0.05；所述的光热敏成象元件包括一顶层和所述的光热敏成象乳胶层，后者含有一种粘合剂、一种光不敏感的银源、一种银离子的还原剂和射线敏感的卤化银细粒。三个直线连续的区域可合理选为1毫米2的正方形。本发明的元件可用另一观点进一步描述，其中可看到，顶层显示在第一种性质中变化的第一空间频率，它使光折射和/或光反射改变，所述的第一种性质选自表面平面性(光滑性)和厚度的均匀性，所述的元件有至少一个第二种性质，它使由至少一所述的光热敏成象乳剂层，所述顶层和所述支撑体层的元件的光折射和/或光反射改变，所述的第二种性能是变化的第二空间频率，它比所述的第一空间频率高得多(如至少高25％)、优选至少高两倍、更优选至少高5倍、更优选至少高10倍，这与所述的第一空间频率的实际数值有关。这第二种性质至少可部分由以下至少一种特性提供a)与有机酸的银盐不同的颗粒物加在光热敏成象乳剂层或顶涂层中，b)阻光染料加在所述的光热敏成象乳剂层中，c)增加所述的光热敏成象元件中的烟雾(在顶涂层、光热敏成象乳剂层和/或底涂层)，以及d)在所述的支撑体层加打底涂层，其折射指数介于所述支撑体层和所述光热敏成象乳剂层的折射指数之间。基片的折射性质可由表面的磨损或其他损伤来改变。
光热敏成象元件表面的光学质量可通过提高表面层的烟雾来改变(使通过表面的射线在光敏层中比照射介质以前更加扩散)。
表面层的烟雾可通过将颗粒物加到顶层(如氧化硅、聚合物珠粒等)中来提高，平均粒度优选为1-12微米、更优选1.5-10微米、最优选2-9微米，特别是小于颗粒物总数的25％在颗粒物平均粒度±15％范围以外。颗粒物可构成小至0.5％的表面积，对减少木纹有可观测到的影响，也可占至多25％的表面积。颗粒物可产生高达20％的烟雾(甚至更大)，同时减少木纹，但考虑到其他图象质量，在减少木纹中通常增加0.1-15％烟雾、更优选0.5-8％、最优选1-6％。在表面层中这种程度的烟雾的加入减少了木纹作用。
当通过将大量光学上透明的聚合物珠粒加到光热敏成象元件的至少一层中来减少木纹时，这样来选择聚合物珠粒的组成，以致基本上所有可见波长(400-700纳米)通过该材料透射，得到光透明性。有极好透光性的非限定性聚合物珠粒的例子包括在US2701245中公开的聚甲基丙烯酸甲酯和聚甲基丙烯酸苯乙烯酯珠粒以及含二甲基丙烯酸二醇酯均聚物或它们与甲基丙烯酸的长链脂肪醇酯和/或乙烯属不饱和共聚单体的共聚物的珠粒，如甲基丙烯酸硬脂基酯/二丙烯酸己二醇酯交联珠粒，如在US5238736和US5310595中公开的。
虽然聚合物珠粒是透光的，但烟雾也可引入到光热敏成象元件中，这与珠粒的形状、表面特性、浓度、大小和粒度分布有关。这样选择珠粒表面的光滑性和形状，以致使反射的可见光波长(400-700纳米)的光数量最小。珠粒的形状优选为球形、长方形、卵形、或椭圆形。颗粒的平均直径优选为1-12微米、更优选1.5-10微米、最优选2-9微米，特别是珠粒总数25％以下在珠粒在平均粒度±15％以外。在一些元件中，优选加入有不同平均粒度的两组不同珠粒。这样就使烟雾与滑动或分离特性均衡有灵活性。在表面上存在的珠粒量为50-500个珠粒/毫米2、更优选75-400个珠粒/毫米2、最优选100-300个珠粒/毫米2。由于将珠粒加到元件中，使烟雾增加的百分数优选至少0.5％，但不大于15％；更优选至少1％，但不大于8％；最优选至少1％，但不大于6％。
表面层的微结构也可影响烟雾(如表面的微压花或卷曲)。这一点可通过微复制技术或轧光整理或有适合花纹的压纹机辊来做到，产生所需的烟雾水平(如大于0.1％到30％，上述的优选范围)。这些表面改性技术，与随意变成平滑表面顶涂层相反，将减少木纹作用。术语“随意变化”必需考虑在本发明实施内，因为即使最好的涂层在厚度和表面特性方面也有不可控和不准确的变化。事实上，它是高质量且变化程度低(使现存的变化保持在严格允许的范围内)，这是为什么木纹图案存在的原因之一。厚度微小的变化就大到足以产生用相干光曝光遇到的干扰图案。由这些变化引起的木纹图案有可见特性，大小约0.5毫米至5厘米。这些变化与涂层的特定质量有关，它可集中在如0.5-5毫米范围内和1.0毫米至5厘米。根据本发明的实施，由于有足够高空间频率的干涉出现，随意的图案或随意的变化引起密度变化，以致用裸眼不可见。当均匀密度光热敏成象元件的表面层中产生随意变化时，已有效地评估了这一点，其中变化的尺寸大于20纳米、更优选大于30纳米、更优选大于40纳米、最优选大于50、60甚至70纳米。在表面中的这些微小变化是随意的，没有完全重复的图案。估计这些变化应涉及至少10％、优选15％平面性产生变化的表面积，并包括至少20％光热敏成象元件的顶层层表面积，在减少木纹方面得到可见的好处。
已开发了一个模型，它似乎说明了顶涂层厚度的标准偏差与峰间木纹密度变化之间的清楚相关性。这一模型是理论性的，但它相应于光学木纹作用随顶涂层厚度变化的变化。在顶涂层差不多完美的场合下，厚度的标准偏差小于10纳米，在木纹图案中峰间光学密度变化看来为约0.04光学密度单位。在20纳米标准偏差下，预计峰间密度变化为约0.025，而在60纳米标准偏差下，这一数值将降到小于0.015。对于顶涂层中的标准偏差超过约70纳米来说，预计峰间密度变化也下降到小于0.01。这些估计值已粗略得到表面性质和厚度改进方面的实验结果证实，至少达到这样的变化增加有助于减少木纹作用的程度。
颗粒物加到光敏层(含卤化银的层)中也可产生明显的作用，这一作用是对木纹作用有利的。在卤化银层中的颗粒物可增加烟雾，正如含颗粒物的顶涂层的情况一样，使相干射线充分分散，以减少木纹作用。当通过将两个在同一相中不稳定的不同树脂产生颗粒时，例如用聚乙烯基缩丁醛作为含卤化银的光热敏成象层的主粘合剂，这样的粘合剂如聚酯树脂(如PE220聚酯)、聚醋酸乙烯酯等作为颗粒物从共混物中分出，分散在聚乙烯基缩丁醛相中。当含有这些材料的卤化银层沉积在基片上时，已注意到这些原位生成的颗粒物，倾向于沉积或接触基片(或在基片上的打底涂层)。这些颗粒物往往不影响顶涂层表面的光滑性，因为它的粒度往往比含卤化银的层厚小得多，因此它埋入层中。这些颗粒物的平均粒度看来为含卤化银的层厚的1/10至2/3。
也已注意到这些颗粒物的存在，增加了含卤化银的层对基片的粘附。
另一方面，用这样的方式将改变表面层的折光性质的颗粒物加在光敏层中，以致使这些颗粒从顶层表面突出，产生射线散射作用。在本发明的光热敏成象元件中的光敏层的厚度，对于单光敏元(trip)光敏元件来说，往往为约10-40微米；而两层光热敏成象体系中，对于顶层来说，为0.5-6微米；对于银光敏元层来说，为10-40微米。在两种光敏元结构中(它是本发明优选的实施方案)，颗粒物加在顶涂层组合物中，颗粒通常应在上述范围内(如数均直径为1-12微米)。
表面折射特性的改变例如可通过将颗粒物加在光热敏成象乳剂层(在单光敏元或双光敏元结构中)中来实现，它使顶涂层的表面(或在单光敏元涂层中的乳剂层的表面)在颗粒上凸出。这些突出部分使相干成象射线照射在光热敏成象元件表面的角度发生变化，以及使射线传播到支撑体层的距离发生变化。这些随意产生的变化足以改变光通过光敏介质传播(和光从底面反射)的图案，从而减少或消除木纹作用。此外，这些内部产生的随意变化优选也涉及上面提到的尺寸。
根据本发明使木纹图案减少的支撑体层内反射特性的改变包括表面的折射指数的变化以及支撑体层反射图案的变化。支撑体层的折射指数通过将接近相邻支撑体层的光热敏成象层的折射指数的涂层涂覆在上来改变。这一改变使从支撑体层反射的射线量减少以及使在光敏元件内的射线路径之间可出现的干涉数量减少。支撑体层的反射图案可通过变化表面的光滑特性来改变。虽然寻找使内部各层尽可能成最光滑的表面通常是惯例，但在本发明的实施中，使面对光热敏成象乳剂的支撑体层的表面变粗糙来减少木纹作用是有效的。可在光热敏成象层涂覆以前，用任何可得到的技术在基片上使之粗糙，这些技术包括但不限于研磨、化学刻蚀、溅蚀、烧蚀(如用激光、闪光灯、离子二极管、同轴等离子体加速器、离子加速器等)、非烧蚀高能处理，如准无定形化(如参见US4879176和4822451)等。希望将这些方法用于支撑体层，使成象相干射线波长的射线的反射减少至少0.5％至50％、甚至100％(对照射的射线如红外线是完全透明的或完全吸收的，而对可见光是透射的)，更优选2-25％。也注意到，这些高能表面处理的某些应用不会使表面烧蚀，仍能提高抗木纹性。本发明人已提出，表面的高能非烧蚀处理可在不烧蚀材料的情况下不断改变表面的折射指数。这可能是表面上结晶形态变化的结果(象半结晶或聚亚胺材料的准无定形化)，晶态方面的变化至少部分通过折射指数的变化表现出来。
有效地使支撑体层表面变粗糙的另一技术是在涂覆光热敏成象元件层以前涂覆一光学上粗糙材料的涂层。
防光晕和阻光材料本发明的光热敏成象元件可含有防光晕和阻光材料，US5266452和5314795。如果需要，可媒染各种染料，例如在US3282699中公开的。
满足在加工后红外光/可见光吸收率比为30比1的技术要求的红外防光晕体系是US5314795和美国专利申请书No.08/072153(1993年11月23日提交)中公开的热-染料-漂白结构物。
满足加工后红外光/可见光吸收率比为30比1的技术要求的另一红外防光晕体系为US5135842和5266452中公开的热-染料-漂白结构物。例如，上述美国专利的染料D-9和D-10当用于热-染料-漂白配方时，在热加工以前其红外光/可见光吸收率之比没有30比1。只有在热漂白后，该体系才满足30比1的要求。
在加工前后都满足红外光/可见光吸收率比为30比1的技术要求的红外防光晕体系可用非漂白吲哚宁染料来达到。
在美国专利申请书No.07/846919给出的适用染料在光热敏成象体系中是一种弱红外增感剂。但是，在这些配方中用于阻光目的最少量染料大大超过用于增感目的的最大量染料。例如，在美国专利申请书No.07/846919中公开的用于光热敏成象乳剂的增感染料的数量为3.1毫克/米2，而根据本发明用于阻光目的的染料通常使用更高的含量。
虽然上述的许多染料为庚次甲染料，但可预计类似的壬次甲染料也适合用作阻光和防光晕染料。
通常将足够数量的染料加到光热敏成象元件中，以在染料的λmax下的透射光密度大于0.1。通常，得到所需效果的染料涂层重为5-200毫克/米2、更优选10-150毫克/米2。就成象和显影软片的良好视觉来说，或通过成象显影软片的曝光来说，希望染料的可见光吸收率小于或等于0.01，或漂白成可见光吸收率≤0.01的材料。
根据常规技术，染料可作为阻光染料加到光热敏成象元件中。根据先有技术，染料也可加到防光晕层中作为防光晕背层、防光晕底层或作为顶涂层。
光敏的卤化银正如上面指出的，本发明在光热敏成象元件中含有光敏卤化银。光敏卤化银可为任何一种光敏卤化银，如溴化银、碘化银、氯化银、溴碘化银、氯溴碘化银、氯溴化银等。光敏卤化银可以任何方式加到乳剂层中，只要它与用作可还原银源的有机银化合物处于催化接近度。
卤化银可为是光敏的任何形式，包括但不限于立方体、八面体、斜方十二面体、正交四面体、其他多面体晶形等，可在晶体上外延生长。片状细粒不是优选的，事实上是用于本发明光热敏成象元件的最不优选的晶体晶形。有平均直径小于0.10微米的优选粒度的真正片状细粒的狭粒度分布(如形态比为5∶1或更大)不容易用现有的技术得到。在本专业中有称为“片状”、“层状”或“∑”的细粒，其形态比小于5∶1，如在US4806461中公开的。该专利指出称为层状细粒的“片状”孪生面细粒，其形态比＞2∶1，细粒厚度小于0.5微米，细粒直径平均值小于0.3；但它未表明，这样的细粒在熟悉本专业的普通技术人员作为层状或片状细粒的考虑范围内，最多仅为扩大术语覆盖面的定义，没有片状细粒的原公开内容在对卤化银细粒提供更高的捕获表面积/体积比的概念好处(如US4425425和4425426中公开的每单位细粒涂层重更高的突出面积)。
整个卤化银细粒可有均匀的卤化物比；它们也可有逐渐变化的卤化物含量，如溴化银和碘化银的比连续变化；它们可为芯-壳型结构，有一种卤化物比的独立芯和另一卤化物比的独立壳。适用于光热敏成象元件的芯壳型卤化银细粒以及制备这些材料的方法在待审的美国专利申请书No08/199114(1994年2月22日提交)中公开。有铱掺杂的芯的芯-壳型卤化银细粒是特别优选的。这类铱掺杂的芯-壳型细粒在待审的美国专利申请书No08/239984(1994年5月9日提交)。
卤化银可在外部制备(即预制)，并在用来制备涂料溶液以前与有机银盐在粘合剂中混合。卤化银可用任何方法预制，如按US3839049的方法预制。例如，用均质器使卤化银和有机银盐长时间共混是有效的。这类材料常称为“预制乳剂”。制备这些卤化银和有机银盐的方法以及使它们共混的方式在以下文献中描述研究公开，1978年6月，条目17029；US3700458和4076539；以及日本专利申请书No.13224/74、42529/76和17216/75。
在本发明的实施中，希望在红外增感的光热敏成象材料中使用小于0.10微米的预制卤化银细粒。细粒的数均粒度优选为0.01-0.08微米、更优选0.03-0.07微米、最优选0.04-0.06微米。使用铱掺杂的卤化银细粒和铱掺杂的芯壳型卤化银细粒也是优选的，如在上述的待审美国专利申请书No.08/072153和08/239984中公开的。
预制的卤化银乳剂当用于本发明的材料时，它可不洗涤或者洗涤除去可溶性盐。在后一情况下，可溶性盐可用冻胶法(chill-setting)和浸析法除去，或者乳剂可用US2618556、2614928、2565418、3241969和2489341中公开的方法凝结洗涤。
使用原位方法也是有效的，例如这样一种方法，其中将含卤素的化合物加到有机银盐中，使有机银盐中的银部分转化成卤化银。
按每摩尔非光敏感的可还原银盐计，本发明使用的光敏感的卤化银量可为约0.005至约0.5摩尔、优选约0.01至约0.15摩尔、更优选0.03-0.12摩尔。
用于本发明的卤化银可在化学上和光谱上用类似用于常规湿法卤化银或现代热显影的光成象材料的方法增感。例如，它可用化学增感剂在化学上增感，如含硫、硒、碲等的化合物、或含金、铂、钯、钌、铑、铱等的化合物，或一种还原剂，如卤化锡等或其组合增感。这些方法的详细内容在T.H.James的“光成象法的理论”，第4版，第5章，第149-169页中描述。适合的化学增感方法也在Shepard的US1623499、Waller的US2399083、McVeigh的US3297447和Dunn的US3297446中公开。
增感的染料加到光敏的卤化银中通过光谱增感使它们对可见光和红外光有高的感光性。因此，光敏的卤化银可用在光谱上能使卤化银增感的各种已知的染料光谱上增感。可使用的增感染料的非限制性例子包括菁染料、部花菁染料、复合菁染料、复合部花菁染料、全极性菁染料、半菁染料、苯乙烯基染料和半噁醇染料。在这些染料中，菁染料、部花菁染料和复合部花菁染料是特别适用的。
按每摩尔卤化银计，加入的增感染料的适合数量通常为约10-10至10-1摩尔、优选约10-8至10-3摩尔。
超增感剂为了使光热敏成象元件的感光速度达到最大程度以及为了增加红外感光性，常常希望使用超增感剂。可使红外感光性增加的任何超增感剂都可使用，但优选的超增感剂在待审的美国专利申请书No.07/846919中公开，它包括杂芳族巯基化合物(I)或杂芳族二硫化合物(II)Ar-SM(I)
Ar-S-S-Ar (II)式中，M表示氢原子或碱金属原子。
在超增感剂(I)和(II)中，Ar表示含有一个或多个氮、硫、氧、硒或碲原子的芳环或稠芳环。优选的杂芳环是苯并咪唑、萘并咪唑、苯并噻唑、萘并噻唑、苯并噁唑、萘并噁唑、苯并硒唑、苯并碲唑、咪唑、噁唑、吡唑、三唑、噻二唑、四唑、三嗪、嘧啶、哒嗪、吡嗪、吡啶、嘌呤、喹啉或喹唑啉酮。但是，在本发明广义范围内，也可预见其他的杂芳环。
杂芳环也可有取代基，优选的取代基的例子选自卤素(如Br和Cl)、羟基、氨基、羧基、烷基(如1个或多个碳原子的烷基、优选1-4个碳原子)和烷氧基(如1个或多个碳原子的烷氧基、优选1-4个碳原子)。
优选的超增感剂是2-巯基苯并咪唑、2-巯基-5-甲基苯并咪唑和2-巯基苯并噻唑。
在乳剂层中，超增感剂的用量通常为至少0.001摩尔/摩尔银。通常为0.001-1.0摩尔化合物/摩尔银，优选为0.01-0.3摩尔化合物/摩尔银。
非光敏的可还原银源材料可用于本发明的非光敏的可还原银源可为含有可还原银离子源的任何一种材料。优选的是，它是对光比较稳定的银盐，并且当在曝光的光催化剂(如卤化银)和还原剂存在下加热到80℃或更高时可形成银图象的银盐。
有机酸的银盐、特别是长链脂肪羧酸的银盐是优选的。链通常含有10-30、优选15-28个碳原子。适合的有机银盐包括有羧基的有机化合物的银盐。其例子包括脂族羧酸的银盐和芳族羧酸的银盐。优选的脂族羧酸的银盐的例子包括山萮酸银、硬脂酸银、油酸银、月桂酸银、癸酸银、肉豆蔻酸银、棕榈酸银、马来酸银、富马酸银、酒石酸银、糖酸银、亚油酸银、丁酸银、樟脑酸银及其混合物等。可用卤素原子或羟基取代的银盐也可有效地使用。芳族羧酸和其他含羧基的化合物的银盐的例子包括苯甲酸银；取代的苯甲酸银，如3，5-二羟基苯甲酸银、邻甲基苯甲酸银、间甲基苯甲酸银、对甲基苯甲酸银、2，4-二氯苯甲酸银、乙酰氨基苯甲酸银、对苯基苯甲酸银等；萮酸银；单宁酸银；邻苯二甲酸银；对苯二甲酸银；水杨酸银；苯基乙酸银；均苯四酸银；3-羧甲基-4-甲基-4-噻唑啉-2-硫酮的银盐等，如在US3785830中公开的；以及含有硫醚基的脂族羧酸的银盐如US3330663中公开的。
含有巯基或硫酮基的化合物及其衍生物的银盐也可使用。这些化合物优选的例子包括3-巯基-4-苯基-1，2，4-三唑的银盐；2-巯基苯并咪唑的银盐；2-巯基-5-氨基噻二唑的银盐；2-(2-乙基羟乙酰氨基)苯并噻唑的银盐；巯基乙酸的银盐，如S-烷基-巯基乙酸的银盐(其中烷基有12-22个碳原子)；二硫代羧酸的银盐，如二硫代乙酸的银盐；硫代酰胺的银盐；5-羧基-1-甲基-2-苯基-4-硫代吡啶的银盐；巯基三嗪的银盐；2-巯基苯并噁唑的银盐；US4123274中公开的银盐，如1，2，4-巯基噻唑衍生物的银盐，如3-氨基-5-苄基硫代-1，2，4-噻唑的银盐；以及硫酮化合物的银盐，如3-(2-羧乙基)-4-甲基-4-噻唑啉-2-硫酮的银盐，如US3201678中公开的。乙炔的银盐也可以使用。银乙炔化物在US4761361和4775613中公开。
此外，含亚氨基的化合物的银盐也可使用。这些化合物优选的例子包括苯并三唑及其取代衍生物的银盐，如甲基苯并三唑银和5-氯苯并三唑银等；1，2，4-三唑或1-H-四唑的银盐，如US4220709中公开的；以及咪唑和咪唑衍生物的银盐。
还发现可使用银半皂。银半皂优选的例子是山萮酸银和山萮酸的等摩尔共混物，分析含有约14.5％银，它通过从商业山萮酸的钠盐的水溶液沉淀的方法来制备。
用透明软片制成的透明软片材料需要透明涂层。为此，可使用游离山萮酸含量不大于约4或5％和含有约25.2％银的山萮酸银全皂。
制备银皂分散液的方法在本专业中是大家熟悉的，并在研究公开，1983年4月，条目22812；研究公开，1983年10月，条目23419；和US3985565中公开。
构成显影起点的卤化银和非光敏的可还原银源材料应处于催化接近度，即反应性结合。所谓“催化接近度”或“反应性结合”是指，它们应在同一层中、相邻层中或中间层相互分开的层中，其层厚小于1微米。优选的是，卤化银和非光敏的可还原银源材料存在于同一层中。
根据本发明，含有预制卤化银的光热敏成象乳剂可用如上所述的化学增感剂或用光谱增感剂增感化。
可还原银源材料通常占乳剂层的约5至约70％(重量)。优选为乳剂层的约10至约50％(重量)。
非光敏的可还原银源的还原剂当用于黑白光热敏成象元件中时，有机银盐的还原剂可为可将银离子还原成金属银的任何一种材料、优选有机材料。常规的光成象显影剂如芬宁东、氢醌和邻苯二酚是有用的，但受阻双酚还原剂是优选的。
当用于本发明的含有非光敏的可还原银源的还原剂的光热敏成象元件被加热显影时，优选在约80至约250℃(176-482°F)在基本上不含水的条件下，在成象曝光后或与成象曝光同时加热约1秒至约2分钟，在有曝光的光敏卤化银的曝光区域或未曝光区域得到黑白银图象。
在干银体系中，已公开了各种还原剂，包括偕胺肟类，如苯基偕胺肟、2-噻吩基偕胺肟和对苯氧基苯基偕胺肟；嗪类，如4-羟基-3，5-二甲氧基苯甲酰嗪；脂族羧酸芳基酰肼和抗坏血酸的组合，如2，2’-双(羟甲基)丙酰基-β-苯基酰肼与抗坏血酸组合；多羟基苯和羟胺的组合；还原酮和/或肼，如氢醌和双(乙氧乙基)羟胺、哌啶子基己糖还原酮或甲酰基-4-甲基苯基肼的组合；异羟肟酸，如苯基异羟肟酸、对羟基苯基异羟肟酸和邻丙氨酸-异羟肟酸；吖嗪类和亚磺酰氨基苯酚类的组合，如吩噻嗪与对苯亚磺酰氨基苯酚或2，6-二氯-4-苯亚磺酰氨基苯酚，α-氰基苯基乙酸衍生物，如α-氰基-2-甲基苯基乙酸乙酯、α-氰基-苯基乙酸乙酯；双-邻-萘醇类，如2，2’-二羟基-1-联萘、6，’-二溴-2，2’二羟基-1，1’-联萘和双(2-羟基-1-萘基)甲烷；双-邻-萘醇和1，3-二羟基苯衍生物的组合，如2，4-二羟基苯酮或2，4-二羟基乙酰基苯酮；5-吡唑啉酮类，如3-甲基-1-苯基-5-吡唑啉酮；还原酮类，如上甲基氨基己糖还原酮、脱水二氢氨基己糖还原酮和脱水二氢哌啶酮己糖还原酮；亚磺酰氨基酚还原剂，如2，6-二氯-4-苯亚磺酰氨基苯酚和对苯亚磺酰氨基苯酚；二氢化茚-1，3-二酮类，如2-苯基二氢化茚-1，3-二酮；苯并二氢吡喃类，如2，2-二甲基-7-叔丁基-6-羟基苯并二氢吡喃；1， 4-二氢吡啶类，如2，6-二甲氧基-3，5-二己酯基-1，4-二氢吡啶；双酚类，如双(2-羟基-3-叔丁基-5-甲基苯基)甲烷、1，1-双(2-羟基-3，5-二甲基苯基)-3，5，5-三甲基己烷、2，2-双(4-羟基-3-甲基苯基)丙烷、4，4-亚乙基-双(2-叔丁基-6-甲基酚)和2，2-双(3，5-二甲基-4-羟基苯基)丙烷；抗坏血酸衍生物，如棕榈酸1-抗坏血酸基酯、硬脂酸抗坏血酸基酯；不饱和的醛类和酮类；某些1，3-二氢化茚二酮类和3-吡唑啉二酮类(菲尼酮)。
还原剂应占成象层的1-10％(重量)。在多层元件中，如果还原剂加到与乳剂层不同的层中，往往更希望有稍高的含量，即约2至15％。
任选的染料形成或染料释放材料正如上面指出的，可还原银源的还原剂可为一种可直接氧化或间接氧化生成或释放染料的化合物。
当用于本发明的含有任选的染料形成或染料释放材料的光热敏成象元件被加热显影时，优选在基本上不含水的条件下，在成象曝光后或与成象曝光同时，在约80至约250℃(176-482°F)下加热约1秒至约2分钟，在曝光区域或未曝光区域形成银图象的同时得到染料图象。
隐色染料是一类在氧化时生成染料的染料形成材料。任何一种可被银离子氧化成可见图象的隐色染料都可用于本发明。pH值敏感的和可氧化的隐色染料也可使用，但不是优选的。仅对pH值的变化敏感的隐色染料不包括在用于本发明的染料范围内，因为它们不能氧化成有色的形式。
正如这里使用的，“隐色染料”或“封闭的隐色染料”是这样一种染料的还原形式，它通常是无色的或很浅颜色的，并能在隐色染料或封闭的隐色染料氧化成染料形式时形成彩色图象。因此，封闭的隐色染料(即封闭的染料释放化合物)比染料在电磁光谱的可见光区吸收更少。生成的染料或者直接在染料形成的基片上产生图象，或者当使用染料或图象接收层时，通过乳剂层和中间夹层扩散在图象接收层上产生图象。
可用于本发明光热敏成象元件的代表性隐色染料包括但不限于生色的隐色染料，如靛苯胺、靛酚或偶氮甲碱隐色染料；咪唑隐色染料，如2-(3，5-叔丁基-4-羟苯基)-4，5-二苯基咪唑，如在US3985565中公开的；有吖嗪、二嗪、噁嗪或噻嗪环的染料，如在US4563415、4622395、4710570和4782010中公开的；以及亚苄基隐色化合物，如在US4923792中公开的。
另一类适用于本发明的优选隐色染料是由偶氮甲碱隐色染料或靛苯胺隐色染料得到的那些隐色染料。它们常称为“生色的隐色染料”，因为这些染料中有许多用于常规的湿加工光成象法中。生色染料通过对苯二胺化合物或对氨基苯酚化合物与光成象型偶合剂氧化偶合来制备。如在US4374921中公开的，相应的染料的还原生成生色的隐色染料。生色的隐色染料也在US4594307中公开。有短链氨基甲酰基保护基的生色的氰基隐色染料在欧洲延迟公开专利申请书No.533008中公开。有关生色的隐色染料的详述，参见K.Venkataraman的“合成染料化学”，科学出版社纽约，1952年，第4卷，第VI章。
适用于本发明的另一类隐色染料是“醛连氮”和“酮连氮”隐色染料。这类染料在US4587211和4795697中公开。亚苄基隐色染料也适用于本发明。这类染料在US4923792中公开。
还有另一类氧化时生成可扩散染料的染料释放材料称为预制染料释放(PDR)材料或氧化还原染料释放(RDR)材料。在这些材料中，有机银化合物的还原剂在氧化时释放一种移动的预制染料。这些材料的例子在Swain的US4981775中公开。
此外，在高温下，由于与卤化银或有机银盐的氧化-还原反应的结果，有染料部分的化合物的移动性发生变化的材料可用作其他成象材料，如在日本专利申请书No.165054/84中公开的。
此外，还原剂可为氧化时释放常规的光成象染料偶合剂或显影剂的化合物，这是在本专业中已知的。
当然，在各种颜色生成层中形成和释放的染料是不同的。在反射最大吸收率方面有至少60纳米的差是优选的。更优选的是，形成或释放的染料的最大吸收率相差至少80～100纳米。当要生成三种染料时，两种优选相差至少该范围的最小值，而第三种优选与另两种中至少一种相差至少150纳米、更优选至少200纳米。如前面指出的，任何一种能被银离子氧化生成或释放可见染料的还原剂都可用于本发明。
按使用还原剂的每单一层的总重计，在本发明中用作还原剂的光学隐色染料的总量优选为0.5～25％(重量)，更优选为1～10％(重量)。
粘合剂通常将光敏的卤化银、非光敏的可还原的银源、还原剂和任何用于本发明的其它附加物加到至少一种粘合剂中。
可用于本发明的粘合剂可单独一种使用或彼此组合使用。优选的是，粘合剂选自聚合材料，如有足够极性使其他组分保持在溶液或悬浮液中的天然树脂和合成树脂。
典型的亲水粘合剂是透明的或半透明的亲水胶体。亲水粘合剂的例子包括天然物质，如蛋白质，如明胶、明胶衍生物、纤维素衍生物等；多糖化物，如淀粉、阿拉伯胶、支链淀粉、糊精等；以及合成聚合物，如水溶性聚乙烯基化合物，如聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、丙烯酰胺聚合物等。亲水粘合剂的另一例子是乳胶形式的分散聚乙烯基化合物，它用于提高光成象元件的尺寸稳定性。
典型的亲水粘合剂的例子是聚乙烯醇缩醛、聚氯乙烯、聚醋酸乙烯、醋酸纤维素、聚烯烃、聚酯、聚苯乙烯、聚丙烯腈、聚碳酸酯、甲基丙烯酸共聚物、马来酸酐酯共聚物、丁二烯-苯乙烯共聚物等。各种共聚物，如三聚物也包括在聚合物的定义中。聚乙烯醇缩醛如聚乙烯醇缩丁醛和聚乙烯醇缩甲醛以及乙烯基共聚物如聚醋酸乙烯和聚氯乙烯是特别优选的。
虽然粘合剂可为亲水的或憎水的，但优选在含银的层中的粘合剂是亲水的。任选的是，这些聚合物可两种或两种以上组合使用。
按乳剂层的重量计，粘合剂的用量优选为约30至90％(重量)、更优选约45至85％(重量)。在非光敏的可还原银源的还原剂的含量和活性需要特定的显影时间和温度的场合下，粘合剂应能经受住这样的条件。通常，优选在250°F(121℃)下60秒内粘合剂不分解或不失去其结构完整性，更优选在350°F(177℃)下在60秒内粘合剂不分解或不失去其结构完整性。
聚合物粘合剂的用量应足以使各组分分散在其中，即在作为粘合剂的有效作用范围内。有效范围可由熟悉本专业的技术人员恰当确定。
光热敏成象配方光热敏成象乳剂层的配方可通过将粘合剂、光敏的卤化银、非光敏的可还原银源、非光敏的可还原银源的还原剂和任选的添加剂溶于和分散于惰性有机溶剂如甲苯、2-丁酮或四氢呋喃中来制备。
改进图象的“调色剂”或其衍生物的使用是十分希望的，而且对于元件来说不是必不可少的。按乳胶层计，调色剂的数量可为约0.01～10％(重量)、优选约0.1～10％(重量)。在光热敏成象技术中，调色剂是大家熟悉的，如在US3080254、3847612和4123282中公开的。
调色剂的例子包括；邻苯二甲酰亚胺和N-羟基邻苯二甲酰亚胺；环状亚胺，如琥珀酰亚胺、吡唑啉-5-酮、喹唑啉酮、1-苯基脲唑、3-苯基-2-吡唑啉-5-酮和2，4-噻唑烷二酮；萘二甲酰亚胺，如N-羟基-1，8-萘二甲酰亚胺；钴络合物，如钴六胺三氟乙酸盐；硫醇，如3-巯基-1，2，4-三唑、2，4-二巯基嘧啶、3-巯基-4，5-二苯基-1，2，4-三唑和2，5-二巯基-1，3，4-噻二唑；N-(氨甲基)芳基二甲酰亚胺，如(N，N-二甲氨基甲基)-邻苯二甲酰亚胺和N-(二甲氨基甲基)萘-2，3-二甲酰亚胺；封端吡唑、异硫脲鎓衍生物和某些光漂白剂的组合，如N，N′-六亚甲基双(1-氨基甲酰基-3，5-二甲基吡唑)、1，8-(3，6-氮杂辛烷)双(异硫脲鎓)三氟乙酸酯和2-(三溴甲基磺酰基苯并噻唑)的组合；部花菁染料，如3-乙基-5-〔(3-乙基-2-苯并亚噻唑啉基)-1-甲基-亚乙基〕-2-硫代-2，4-0-吡咯烷二酮；二氮杂萘酮、二氮杂萘酮衍生物或这些衍生物的金属盐，如4-(1-萘基)二氮杂萘酮、6-氯二氮杂萘酮、5，7-二甲氧基二氮杂萘酮和2，3-二氢-1，4-二氮杂萘二酮；二氮杂萘和一种或多种邻苯二甲酸衍生物的组合，如邻苯二甲酸、4-甲基邻苯二甲酸、4-硝基邻苯二甲酸和四氯苯酐；喹唑啉二酮、苯并噁嗪或萘并噁嗪衍生物；不仅起调色改性剂作用而且还作为原位生成卤化银的卤化物离子源的铑络合物，如六氯铑(III)酸铵、溴化铑、硝酸铑和六氯铑(III)酸钾；无机过氧化物和过硫酸盐，如过氧二硫酸铵和过氧化氢；苯并噁嗪-2，4-二酮，如1，3-苯并噁嗪-2，4-二酮、8-甲基-1，3-苯并噁嗪-2，4-二酮和6-硝基-1，3-苯并噁嗪-2，4-二酮；嘧唑和不对称三嗪，如2，4-二羟基嘧唑、2-羟基-4-氨基嘧唑和氮杂尿嘧啶；以及四氮杂并环戊二烯衍生物，如3，6-二巯基-1，4-二苯基-1H，4H-2，3a，5，6a-四氮杂并环戊二烯和1，4-二-(邻氯苯基)-3，6-二巯基-1H，4H-2，3a，5，6a-四氮杂并环戊二烯。
用于本发明的光热敏成象元件还可在贮存过程中防止另外生成灰雾并可稳定以防止感光性损失。虽然对于本发明的实施不是必需的，但是将汞(II)盐作为防灰雾剂加到乳剂层中可能是有好处的。为此优选的汞(II)盐是乙酸汞和溴化汞。
可单独使用或组合使用的其他适合的防灰雾剂和稳定剂包括在US2131038和2694716中公开的噻唑鎓盐；在US2886437中公开的氮杂茚；在US2444605中公开的三氮杂中氮茚；在US2728663中公开的汞盐；在US3287135中公开的尿唑；在US3235652中公开的磺基邻苯二酚；在BP623448中公开的肟；在US 2839405中公开的多价金属盐；在US3220839中公开的硫脲鎓盐；以及在US2566263和2597915中公开的钯盐、铂盐和金盐。
本发明的光热敏成象元件还可含有增塑剂和润滑剂，如在US2960404中公开的多元醇和二元醇；如US2588765和3121060中公开的脂肪酸或酯，以及如BP955061中公开的硅酮树脂。
本发明的光热敏成象元件还可含有图象染料稳定剂。这些图象染料稳定剂由U.K.1326889和US3432300、3698909、3574627、3573050、3764337和4042394说明。
除了在本发明中用于光学效果的颗粒物外，本发明的光热敏成象元件还可含有消光剂，如淀粉、二氧化钛、氧化锌、氧化硅以及聚合物珠粒，包括在US2992101和2701245中公开的这类珠粒。在本发明的实施中，在这方面，加到顶层中的珠粒起双重作用。
此外，它们还可含有防静电层或导电层，如含有可溶性盐如氯化物、硝酸盐等的层；蒸发金属层、离子聚合物，如在US2861056和3206312中公开的或不溶性无机盐，如在US3428451中公开的。
光热敏成象结构本发明的光热敏成象元件可由在支撑体层上的一层或多层构成。单层结构含有卤化银、非光敏的可还原银源材料、非光敏的可还原银源的还原剂、粘合剂以及任选的材料，如调色剂、染料形成或染料释放材料、涂层助剂和其他辅助剂。
两层结构在一乳剂层中(通常为与支撑体层相邻的层)含有卤化银和非光敏的可还原银源；而在第二层或这两层中含有其他组分，虽然可设想两层结构物含有一层含所有组分的单一乳剂层涂层和一层保护顶涂层。多色光热敏成象干银元件可含有多组这样的每种颜色的双层，或者它们可在单一层中含有所有的组分，如在US4708928中公开的。在多层多色光热敏成象元件的情况下，各乳剂层通常在各光敏层之间使用官能的或非官能的阻挡层使彼此分开，如在US4460681中公开的。
优选含有聚合物材料的阻挡层也可含在本发明的光热敏成象元件中。阻挡层材料的聚合物可选自天然聚合物和合成聚合物，如明胶、聚乙烯醇、聚丙烯酸、磺化的聚苯乙烯等。聚合物可任选与阻挡助剂如氧化硅共混。
用于本发明的光热敏成象乳剂可用各种涂覆方法涂覆，包括绕线棒涂、浸涂、空气刀涂、帘涂或使用US2681294中公开的漏斗的挤塑涂。如果需要，可用US2761791和BP837095中公开的方法同时涂覆两层或两层以上。乳剂层的典型湿厚可为约10至150微米，涂层可在约20至100℃下，在强制通风的空气中干燥。优选的是，这样选择层厚，以致使最大成象密度大于0.2、更优选0.5～4.5，如用彩色滤光片对染料颜色补偿的MacBeth Color Densitometer Model TD504测量的。
另外，在一些情况下，可能希望在透明的支撑体层两侧涂覆不同的乳剂层，特别是当希望使不同乳剂层中的成象化学分开时，正如在US5264321中公开的。
显影条件将根据使用的结构而变化，但通常都涉及在适合的升温下加热成象的已曝光材料。当用于光热敏成象元件时，热敏元件曝光后得到的潜影可通过在适中的升温，如约80至250℃、优选约100至200℃下加热足够长的时间，通常为约1秒至2分钟来显影。可用一般的加热方法来加热，如加热板、烙铁、热辊、用碳或钛白的热发生器等。
支撑体层用于本发明的光热敏成象乳剂可涂覆在各种支撑体层上。支撑体层或底材可选自各种材料，它与成象的技术要求有关。支撑体层可为透明的，或至少半透明的。典型的支撑体层包括聚酯软片、底层聚酯软片(如聚对苯二甲醇乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯软片)、醋酸纤维素软片、纤维素酯软片、聚乙烯醇缩乙醛软片、聚烯烃软片(如聚乙烯或聚丙烯或其共混物)、聚碳酸酯软片以及相关的或树脂状材料，以及玻璃、纸等。通常，使用柔软的支撑体层，特别是聚合物软片支撑体层，它们可部分乙酰化或涂覆，特别是用聚合物打底剂涂覆。用于支撑体层的优选聚合物材料包括有良好热稳定性的聚合物，如聚酯。特别优选的聚酯是聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯。
有耐热背层的支撑体层也可用于光热敏成象体系，如在US4374921中公开的。
用作光掩模正如上面指出的，在非成象区域中，在380纳米处光热敏成象元素的低吸收率的可能性有助于本发明的光热敏成象元件用于有随后的紫外射线敏感的可成象介质曝光的方法中。例如，用相干射线使光热敏成象元件成象并随后显影得到没有任何肉眼可见的木纹图案的可见图象。经显影的光热敏成象元件吸收有可见图象区域的紫外射线，而透射没有可见图象区域的紫外射线。经显影的元件然后用作光掩模，被放在紫外射线能源和紫外射线光敏可成象介质之间，如光聚合物、重氮材料或光刻胶。这一方法特别适用于可成象介质含有印刷线路板和光热敏成象元件作为固象(imagesetting)膜的场合。
现在用下述实施例来说明本发明的目的和优点，但不应把在这些实施例中所引的特定材数及其数量以及其他条件和详细内容当作是对这一发明的不适当限制。
实施例在下述实施例中所用的所有材料都很容易由一般的商业来源得到，如Aldrich化学公司(Milwaukee，WI)，除非另加说明。使用以下另外的术语和材料。
AcryloidTMA-21是由Rohm and Haas，Philadelphia，PA得到的丙烯酸共聚物。
ButvarTMB-79是由Monsanto Company，St.Louis，MO得到的聚乙烯醇缩丁醛树脂。
CAB171-15S是由Eastman Kodak Co得到的醋酸丁酸纤维素树脂。
CBBA是2-氯苯甲酰基苯甲酸。
DesmodurTMN3300是由Mobay Chemical，Pittsburgh，PA得到的脂族三异氰酸酯。
GelvaTMV1.5是由Monsanto Company，St.Louis，MO得到的聚醋酸乙烯树脂。
MEK为甲乙酮(2-丁酮)。
MeOH为甲醇。
MMBI为5-甲基-2-巯基苯并咪唑。
4-MPA为4-甲基邻苯二甲酸。
PermanaxTMWSO为1，1-双(2-羟基-3，5-二甲基-苯基)-3，5，5-三甲基己烷〔CAS RN＝7292-14-0〕，由VulnaxInternational Ltd.得到。它也称为Nonox。
PE-2200为由Shell得到的聚酯树脂。
PET为聚对苯二甲酸乙二醇酯。
PHP为过溴化吡啶鎓氢溴酸盐。
PHZ为2，3-二氮杂萘。
PSMA珠粒为聚甲基丙烯酸硬脂基酯珠粒。
SF-200为Super-PflexTM200，由Specialty Minerals，Inc.得到的一种碳酸钙。
TCPA为四氯邻苯二甲酸。
TCPAN为四氯邻苯二甲酸酐。
THDI为DesmodurTMN-3300，由Mobay得到的一种缩二脲化的六亚甲基二异氰酸酯。
Dmin为基准标志的曝光侧上8个最低密度值的平均值。
Dhi为相当于在1.40Log E的曝光度的密度值(大于相当于0.20以上Dmin的曝光度)。E为曝光度，单位为尔格/厘米2。
Speed-2为Log1/E+4，相当于1.00以上Dmin的密度。
AC-1(平均反差1)为连接上述Dmin0.6和2.00密度点的直线的斜率。
Dmax为在基准标志的曝光侧上的最高密度值。
Dye-1有下面所示的结构。其制备方法在批准了的共同未决的美国专利申请书USSN08/202941(1994年2月28日提交)中公开。
防光晕Dye-2有以下结构。其制备方法在批准了的共同未决的美国专利申请书USSN08/203120(1994年2月28日提交)的实施例1f中公开。
防灰雾剂A为2-(三溴甲基磺酰基)-喹啉，它有以下结构
氟化的三元共聚物A有以下的无规聚合物结构，其中m＝7、n＝2和p＝1。其制备方法在批准了的共同未决的美国专利申请书USSN08/104888(1993年8月10日提交)中公开。
乙烯基砜在欧洲公开未决专利申请书No.0600589A2中公开，它有以下结构。
在实施例1～5中使用的铱掺杂的预制芯-壳型碘溴化银乳剂、银皂分散液、匀浆和卤化的均浆溶液的制备描述如下。
铱掺杂的预制芯-壳型碘溴化银乳剂的制备通过将以下组分混合并保持在30～38℃下来制备溶液。
萘酸化的明胶50克去离子水1500毫升溴化钾(0.1M)6毫升用3N硝酸将溶液的pH值调节剂到5.0。在25℃下制备以下钾盐和硝酸银的水溶液，并在9.5分钟内加到上述的溶液中。
溴化钾27.4克碘化钾3.3克去离子水 275.0克硝酸银 42.5克去离子水364.0克用研究公开No.17643、US3415650、3782954和3821002中公开的pAg反馈控制回路将pAg保持在恒定值。
然后在28.5分钟时间间隔内将以下钾盐和硝酸银两种水溶液加到该溶液中。
溴化钾179.0克六氯化钾铱0.010克去离子水 812.0克硝酸银127.0克去离子水 1090.0克用水洗涤乳剂，然后脱盐。用扫描电子显微镜(SEM)测定，平均粒度为0.075微米。
铱掺杂的预制卤化银/有机银盐分散液的制备按下述制备卤化银/有机银盐分散液。该材料也称为银皂分散液或乳胶。
Humko Type 9718脂肪酸(由 118.0克Witco Co.，Memphis，TN得到)Humko Type9022脂肪酸(由570.0克Witco Co.，Memphis，TN得到)氢氧化钠(1.4863摩尔/升)1.5升硝酸(19毫升浓硝酸在50毫升水中) 69毫升铱掺杂的预制芯-壳型乳剂(由上 0.10摩尔面得到)(700克/摩尔在1.25升水中)硝酸银(0.859摩尔/升) 2.5升在80℃下将脂肪酸溶于13升水中，然后混合15分钟。然后通过加入氢氧化钠并混合5分钟制成分散液。加入硝酸溶液后，将分散液冷却到55℃，同时搅拌25分钟。保持在55℃下，加入铱掺杂的预制芯-壳型乳剂，并混合5分钟，接着加入硝酸银溶液，并再混合10分钟。用水洗涤分散液，一直到洗涤水的电阻为20000欧姆/厘米2。然后将分散液在45℃下干燥72小时。
实施例1实施例1说明当聚合物珠粒加到光热敏成象元件的顶涂层中时产生的木纹减少。
预制皂的均质化(均浆)通过将以下组分均质化来制备预制脂肪酸银盐的均浆物料组分 千克％(重量)A1MEK 124.0056878.1102A2ButvarTMB-79 1.74633 1.1000A3银皂*33.00533 20.7898A 总均浆158.75734100.0000*由上面得到的铱掺杂的预制卤化银/有机银盐分散液在21℃下将上述组分混合10分钟，并保持24小时。将混合物在4000磅/英寸2下，然后在8000磅/英寸2均质化。
随后将以下组分加入并混合，得到光热敏成象的乳剂涂料溶液。
光热敏成象银乳剂涂料溶液物料 组分 千克 ％(重量)A 均浆 58.57592 64.8103B MEK3.277303.6261C1PHP0.086000.0952C2MeOH 0.243400.2693D1CaBr20.065590.0726D2MeOH 0.371400.4109E1MMBI 0.040730.0451E2CBBA 0.451870.5000E3Dye-1 0.008350.0092E4MeOH 2.939013.2518F ButvarTMB-79 14.75010 16.3200G1防灰雾剂A 0.349990.3872
G2MEK 4.025094.4535H PermanaxTMWSO3.029253.3517I1THDI 0.178530.1975I2MEK 0.089270.0988J1TCPA 0.100020.1107J2MEK 0.316340.3500K1PHZ 0.300130.3321K2MEK 1.182241.3081总银光每元分散液90.38053 100.0000随后加入以下组分并混合，得到用于涂覆的顶层涂料溶液。
顶层涂料1a-没有珠粒的顶层涂料溶液(对比)物料 组分 千克 ％(重量)A MeOH 3.599799.9202B MEK 20.91768 57.6444C TCPAN0.041290.1138D CAB171-15S 4.3138011.8879E1MEK 3.211428.8500E2AcryloidTMA-21 0.174510.4809E34-MPA0.172960.4766F1MEK 3.211448.8500F2CAB171-15S 0.220410.6074F3SF-200(CaCO3) 0.110200.3037G氟化的三元共聚物A 0.313920.8651总顶层涂料光每元溶液 36.28742 100.0000顶层涂料1b-有珠粒的顶层涂料溶液物料 组分 千克 ％(重量)AMeOH 1.006959.3701BMEK 5.8511854.4476CTCPAN 0.011550.1075DCAB171-15S1.2066711.2286
E1MEK0.89831 8.3592E2AcyylloidTMA-21 0.04882 0.4542E34-MPA 0.04838 0.4502F 氟化的三元共聚物A 0.0878 10.8171G1MEK0.22456 2.0896G2CAB171-15S 0.0102 70.0956G32微米PSMA珠粒 0.06298 0.5860H1MEK0.67373 6.2694H2CAB171-15S 0.03083 0.2869H38微米PSMA珠粒 0.11468 1.0671I1MEK0.44918 4.1798I2CAB171-15S 0.02055 0.1912总顶层涂料光每元溶液 10.74645 100.0000将光热敏成象银乳剂涂料分散液和顶层涂料溶液两次涂覆到7密耳(0.18毫米)未打底的兰色聚酯支撑体层上。光热敏成象银乳剂的涂层重为2.20克/英尺2(23.7克/米2)和顶层涂料溶液的涂层重为0.24克/英尺2(2.58克/米2)。在82℃(180°F)下将涂层干燥2～3分钟。
将实施例1的涂层样品切成3.5厘米×21.5厘米条。将该条通过811纳米下的激光感光计曝光。经曝光的条在255°F(124℃)下，在热辊加工机中加工15秒。在定做的计算机扫描的密度计上进行感光测量，并认为与商购的密度计得到的测量值可比。感光测量的结果包括Dmin、Dmax、感光度和反差。
每一样品用Gardner Haze Meter XL-211 Model 8011测量涂层的烟雾程度。
实施例1C为对比例，实施例1为本发明样品。得到如下结果实施例 ％烟雾 Dmin Dhi Speed-3 AC-1Dmax1C 17.40.22 3.911.76 4.53 3.96121.8 0.223.931.69 4.39 4.02用制备的“灰晕”来测定木纹的存在和强度。灰晕是均匀暴露到光中并显影的样品，以致样品有均匀的光密度，如1.0～2.0之间。它们肉眼看有均匀的灰色外观。
用在811纳米下发射的激光二极管，用功率为150毫瓦制备灰晕。形成的图象被数字化并转化成调整激光束使光热敏成象元件曝光达到均匀光密度为约1.8的信号。用电流计或扫描镜面实现扫描。样品保持静止，激光用重叠的光栅图案扫描通过样品。扫描后，样品通过在旋转鼓热处理器上加热，在255°F(124℃)下显影15秒。
用激光曝光产生的与通过使相同样品均匀暴露到也发射红外光的白炽光源中得到的灰晕。这后一类曝光也称为“散光”曝光或掩盖曝光。还有，这样调节曝光条件，以致光晕的均匀光密度为约1.8。
存在的木纹数量通过比较放在X-射线观察盒上的样来主观测定。木纹定级为高、中或低。
样品规格曝光方法木纹有珠粒 扫描激光低木纹无珠粒(对比)扫描激光高木纹有珠粒 掩盖曝光无木纹无珠粒(对比)掩盖曝光无木纹实施例2实施例2说明与支撑体层用聚酯底涂料涂覆，以试图在支撑体层的折射指数与乳剂层的折射指数之间得到分级变化时，得到木纹减少。
预制皂的均质化(均浆)通过将以下组分均质化来制备预制脂肪酸银盐均浆物料组分千克％(重量)
A1MEK 99.86743 78.1103A2ButvarTMB-1.406401.100079A3银皂*26.58051 20.7897A 总均浆127.85434100.0000*由上面得到的铱掺杂的预制卤化银/有机银盐分散液在21℃下，将上述组分混合10分钟，并保持24小时。将混合物在4000磅/英寸2，然后在8000磅/英寸2下均质化。
随后加入以下组分并混合，制得光热敏成象的银乳剂涂料溶液。
光热敏成象银乳剂涂料溶液物料 组分 千克％(重量)A均浆85.84068 63.0529BMEK 4.176093.0675C1 PHP 0.126000.0926C2 MeOH0.356670.2620D1 CaBr20.096060.0706D2 MeOH0.544320.3998E1 MMBI0.059730.0439E2 CBBA0.662160.4864E3 Dye-1 0.012240.0090E4 MeOH4.306983.1636FButvarTM B-79 21.45224 15.7574G1 防灰雾剂A 0.512880.3767G2 MEK 5.898574.3327HPermanaxTMWSO 4.932543.6231I1 THDI0.261660.1922I2 MEK 0.130770.0961J1 TCPA0.162900.1197J2 MEK 0.463620.3405
K1PHZ 0.488670.3589K2MEK 1.732531.2726L1ButvarTMB-790.163430.1200L2PE2200 1.127990.8285L3MEK 2.631972 1.9333总银光每元分散液 136.14070 100.0000随后加入以下组分并混合，制得涂层的顶层涂料溶液。
顶层涂料2-顶层涂料溶液物料 组分 千克 ％(重量)AMeOH 13.48666 9.9110BMEK 78.26115 57.5123C乙烯基砜 0.22 930 0.1685DCAB171-15S16.19325 11.9000E氟化的三元共聚物A 1.176390.8645F1MEK 12.11309 8.9016F2AcryloidTMA-21 0.653930.4806F34-MPA0.638170.4690G1MEK 12.11309 8.9016G2CAB171-15S 0.798640.5869G3SF-200(CaCO3) 0.413570.3039总顶层涂料光每元溶液 136.07724 100.0000随后加入以下组分并混合，制得支撑体层的打底溶液。
打底溶液-PE-2200物料 组分 千克％(重量)AMEK 30.0000058.6667BPE22004.09091 8.0000CToluene 17.0454533.3333总打底溶液 51.13636100.0000用PE-2200聚酯打底溶液涂覆7密耳(0.18毫米)未打底的兰色聚酯支撑体层样品，涂层重为0.18克/英尺2(1.94克/米2)。第二个样品仍不打底。将光热敏成象乳剂银光敏元分散液和顶层涂料溶液二道涂覆到打底的和未打底的支撑体层上。光热敏成象银乳剂的涂层重为2.20克/英尺2(23.7克/米2)，而顶层涂料溶液的涂层重为0.24克/英尺2(2.58克/米2)。在82℃(180°F)下将涂层干燥2～3分钟。实施例2C为对比例，而实施例2为本发明的样品。
样品的感光测量按上述实施例1描述的进行评价。得到如下结果实施例 DminDhi 感光度-3 AC-1Dmax2C 0.303.631.94 4.343.802 0.303.771.88 4.313.92通过按上述实施例1描述的制备“灰晕”来测定木纹的存在和强度。同样，这样调节曝光条件，以致灰晕的均匀光密度为约1.8。
通过比较在X射线观测盒上的样品来主观测定存在的木纹数量。将木纹分等级为高、中或低。
样品规格曝光方法木纹打底扫描激光低木纹不打底(对比)扫描激光高木纹打底掩盖曝光无木纹不打底(对比)掩盖曝光无木纹实施例3实施例3说明当用还含有颗粒物如聚合物珠粒的打底层涂覆支撑体层时可使木纹减少。同时，它也是这样一个实验，与能得到扩散反射的颗粒物一起，在支撑体层的折射指数和乳剂层的折射指数之间提供分级转变的实验。
预制皂的均质化(均浆)通过将以下组分均质化来制备预制的脂肪酸银盐均浆
物料 组分 千克 ％(重量)A1 MEK 124.00568 78.1102A2 ButvarTMB-7 91.746331.1000A3 银皂*33.00533 20.7898A总均浆100.000100.0000*由上面得到的铱掺杂的预制卤化银/有机银盐分散液。
在21℃下，将上述组分混合10分钟并保持24小时。将混合物在4000磅/英寸2下然后在8000磅/英寸2下均质化。
随后将以下组分加入并混合，得到光热敏成象银乳剂涂料溶液。
光热敏成象银乳剂涂料溶液物料 组分千克 ％(重量)A均浆85.84068 63.0529BMEK 4.176093.0675C1 PHP 0.126000.0926C2 MeOH0.356670.2620D1 CaBr20.096060.0706D2 MeOH0.544320.3998E1 MMBI0.059730.0439E2 CBBA0.662160.4864E3 Dye-1 0.012240.0090E4 MeOH4.306983.1636FButvarTMB-79 21.45224 15.7574G1 防灰雾剂A 0.512880.3767G2 MEK 5.898574.3327HPermanaxTMWSO 4.932543.6231I1 THDI0.261660.1922I2 MEK 0.130770.0961J1 TCPA0.162900.1197J2 MEK 0.463620.3405
K1PHZ 0.488670.3589K2MEK 1.732531.2726L1ButvarTMB-79 0.163430.1200L2PE22001.127990.8285L3MEK 2.631972 1.9333总银光每元分散液136.14070 100.0000随后将以下组分加入并混合，得到涂层的顶层涂料溶液。
顶层涂料2-顶层涂料溶液物料 组分 千克 ％(重量)AMeOH 13.486669.9110BMEK 78.2611557.5123C乙烯基砜 0.22930 0.1685DCAB 171-15S 16.1932511.9000E氟化的三元共聚物A 1.17639 0.8645F1 MEK 12.113098.9016F2 AcryloidTMA-21 0.65393 0.4806F3 4-MPA 0.63817 0.4690G1 MEK 12.113098.9016G2 CAB171-15S0.79864 0.5869G3 SF-200(CaCO3) 0.41357 0.3039总顶层涂料光每元溶液 136.07724 100.0000随后将以下组分加入并混合，得到支撑体层的打底溶液。
打底溶液-PE200+聚合物珠粒物料 组分 千克 ％(重量)AMEK 10.00000 58.4334BPE2200 1.363647.9682C甲苯 5.6818233.2008DPSMA-8(8μm珠粒) 0.068040.3976总打底层溶液 17.11349 100.0000
用含有8微米PSMA-8珠粒的PE-2200聚酯打底溶液涂覆7密耳(0.18毫米)未打底的兰色聚酯支撑体层样品，涂层重量为0.18克/英尺2(1.94克/米2)。第二个样品仍不打底。将光热敏成象银乳剂涂料分散液和顶层涂料溶液二道涂覆到打底的和未打底的支撑体层上。光热敏成象银乳剂分散液的涂层重量为2.20克/英尺2(23.7克/米2)，而顶层涂料溶液的涂层重量为0.24克/英尺2(2.58克/米2)。在82℃(180°F)下将涂层干燥2～3分钟。实施例3C是对比例，而实施例3为本发明的样品。
按上述实施例1公开的评价样品的感光测量。得到以下结果实施例 DminDhi 感光度-3 AC-1Dmax3C 0.303.63 1.94 4.343.803 0.303.74 1.88 3.273.87按实施例1所述制备“灰晕”来测定木纹的存在和强度。同样，调整曝光条件，以致使灰晕的均匀光密度为约1.8。
通过比数放在X射线观测盒上的样品来主观测定存在的木纹数量。将木纹分等级为高、中或低。
样品规格曝光方法木纹打底+珠粒 扫描激光低木纹未打底(对比)扫描激光高木纹打底+珠粒 掩盖曝光无木纹未打底(对比)掩盖曝光无木纹实施例4实施例4说明当光热敏成象元件的顶层涂料层中含有阻光染料时木纹减少。已确定在涂覆和干燥过程中，阻光染料迁移到乳胶层中。
预制皂的均质化(均浆)通过将以下组分均质化来制备预制的脂肪酸银盐均浆物料 组分 千克 ％(重量)A1MEK 124.0056878.1102A2ButvarTMB-79 1.74633 1.1000
A3 银皂*33.00533 20.7898A 158.75734100.0000*由上面得到的铱掺杂的预制卤化银/有机银盐分散液在21℃下，将上述组分混合10分钟，并保持24小时。将混合物在4000磅/英寸2下，然后在8000磅/英寸2均质化。
随后将以下组分加入并混合，得到光热敏成象的银乳剂涂料溶液。
光热敏成象银乳剂涂料溶液物料 组分 千克 ％(重量)A 均浆 65.89785 64.5383B MEK3.686963.6109C1 PHP0.096740.0947C2 MeOH 0.273800.2682D1 CaBr20.073750.0722D2 MeOH 0.417850.4092E1 MMBI 0.045860.0449E2 CBBA 0.508320.4978E3 Dye-1 0.009400.0092E4 MeOH 3.306383.2382F ButvarTMB-79 16.59384 16.2515G1 防灰雾剂A 0.393720.3856G2 MEK4.528194.4348H PermanaxTMWSO 3.786603.7085I1 THDI 0.200880.1967I2 MEK0.100390.0983J1 TCPA 0.125040.1225J2 MEK0.355910.3486K1 PHZ0.375130.3674K2 MEK1.330031.3026总银光每元分散液 102.10664 100.0000
随后将以下组分加入并混合，得到涂层用的顶层涂料溶液。
顶层涂料-顶层涂料溶液物料 组分 千克％(重量)AMeOH 13.486669.9110BMEK 78.2611557.5123C烯基砜 0.22930 0.1685DCAB171-15S 16.1932511.9000E氟化的三元共聚物A1.17639 0.8645F1 MEK 12.113098.9016F2 AcryloidTMA-21 0.65393 0.4806F3 4-MPA0.63817 0.4690G1 MEK 12.113098.9016G2 CAB 171-15S 0.79864 0.5869G3 SF-200(CaCO3) 0.41357 0.3039总顶层涂料溶液136.07724 100.0000通过随后将下述组分加入并混合的方法来制备含有阻光染料-2的顶层涂料溶液。
顶层涂料-含有阻光染料的顶层涂料溶液物料 组分千克％(重量)A上面得到的顶层涂料 溶液 9.0718593.5257BMeOH 0.600006.1857CDye-2 0.028000.2887总顶层涂料溶液 9.69985100.0000用光热敏成象银乳剂涂料分散液和不含阻光染料的顶层涂料溶液两道涂覆7密耳(0.18毫米)未打底的兰色聚酯支撑体层，制得一光热敏成象元件。用光热敏成象银乳剂涂料分散液和含有阻光染料-2的顶层涂料溶液两道涂覆7密耳(0.18毫米)未打底的兰色聚酯支撑体层，制得另一光热敏成象元件。光热敏成象银乳剂分散液的涂层重量为2.20克/英尺2(23.7克/米2)，而顶层涂料溶液的涂层重量为0.24克/英尺2(2.58克/米2)。将涂层在82℃(180°F)下干燥2～3分钟。实施例4C为对比例，而实施例4为本发明的样品。
按上述实施例1描述的来评价样品的感光测量。得到以下结果实施例 DminDhi 感光度-3 AC-1 Dmax4C 0.233.94 1.85 4.78 4.074 0.403.94 1.32 3.73 3.55通过按实施例1所述制备“灰晕”来确定木纹的存在和强度。同样，这样来调整曝光条件，以致使灰晕的均匀光密度为约1.8。
通过比较在X射线观测盒上的样品来主观测定存在的木纹数量。将木纹分级为高、中或低。
样品曝光方法木纹有阻光染料 扫描激光低木纹无阻光染料(对比)扫描激光高木纹有阻光染料 掩盖曝光无木纹无阻光染料(对比)掩盖曝光无木纹实施例5实施例5说明当聚酯树脂用于光热敏成象元件的乳剂层时使木纹减少。使用的聚酯树脂为Shell PE-2200。
预制皂的均质化(均浆)通过将以下组分均质化来制备预制的脂肪酸银均浆物料 组分 千克 ％(重量)A1MEK122.24791 77.0030A2ButvarTMB-79 3.504092.2072A3银皂*33.00533 20.7898A 总均浆 158.7573 100.0000*由上面得到的铱掺杂的卤化银/有机银盐分散液。
在21℃下，将上述组分混合10分钟，并保持24小时。将混合物在4000磅/英寸2下，然后在8000磅/英寸2下均质化。
随后将以下组分加入并混合，得到光热敏成象银乳剂涂料分散液。
光热敏成象银乳剂涂料分散液物料 组分 千克％(重量)A均浆 28.7822563.4540BMEK 2.84861 6.2801C1 PHP 0.02087 0.0460C2 MeOH 0.11825 0.2607D1 CaBr20.03184 0.0702D2 MeOH 0.18048 0.3979E1 MMBI 0.01978 0.0436E2 CBBA 0.21954 0.4840E3 Dye-10.00408 0.0090E4 MeOH 1.43902 3.1725FButvarTMB-796.84435 15.0892G1 防灰雾剂10.17005 0.3749G2 MEK 1.95566 4.3115HPermanaxTMWSO 1.63538 3.6054I1 THDI 0.09657 0.212912 MEK 0.04831 0.1065J1 TCPA 0.05402 0.1191J2 MEK 0.15372 0.3389K1 PHZ 0.16202 0.3572K2 MEK 0.57443 1.2664总银光每元分散液 45.35923100.0000随后将以下组分加入并混合，得到涂层的顶层涂料溶液。
顶层涂料溶液物料组分千克％(重量)
AMeOH13.57770 9.9826BMEK 78.83349 57.9602CTCPAN 0.149680.1100DCAB 171-15S 15.63165 11.4927E氟化的三元共聚物A 1.137470.8363F1 MEK 12.11309 8.9058F2 AcryloidTMA-21 0.632350.4649F3 4-MPA 0.626640.4607G1 MEK 12.11309 8.9058G2 CAB171-15S 0.798640.5872G3 SF-200(CaCO3) 0.399390.2936总顶层涂料光每元溶液 136.01319 100.0000随后将以下组分加入并混合，得到用于光热敏成象元件的乳剂层的含有聚酯树脂的光热敏成象银乳剂涂料分散液。
光热敏成象银乳剂涂料分散液物料 组分 千克 ％(重量)A 均浆 28.78225 60.5990B MEK 2.848615.9975C1PHP 0.020870.0439C2MeOH 0.118250.2490D1CaBr20.031840.0670D2MeOH 0.180480.3800E1MMBI 0.019780.0416E2CBBA 0.219540.4622E3Dye-10.004080.0086E4MeOH 1.439023.0298F ButvarTMB-796.8443514.4103G1防灰雾剂A0.170050.3580G2MEK 1.955664.1175H PermanaxTMWSO 1.635383.4432
I1THDI 0.096570.2033I2MEK 0.048310.1017J1TCPA 0.054020.1137J2ME K 0.153720.3236K1PHZ 0.162020.3411K2MEK 0.574431.2094L1PE-2200 0.747971.5748L2MEK 1.389082.9246总银光每元分散液47.49628 100.0000随后将以下组分加入并混合，得到涂层的顶层涂料溶液。
顶层涂料溶液物料 组分 千克 ％(重量)AMeOH 13.57770 9.9826BMEK78.83349 57.9602CTCPAN 0.1 4968 0.1100DCAB171-15S 15.63 165 11.4927E氟化的三元共聚物A 1.137470.8363F1 MEK12.11309 8.9058F2 AcryloidTMA-210.632350.4649F3 4-MPA 0.626640.4607G1 MEK12.11309 8.9058G2 CAB171-15S 0.798640.5872G3 SF-200CaCO30.399390.2936顶层涂料光每元溶液 136.01319 100.0000通过将在乳剂层中不含聚酯树脂的光热敏成象银乳剂涂料分散液和顶层涂料溶液两道涂覆7密耳(0.18毫米)未打底的兰色聚酯支撑体层的方法来制备一种光热敏成象元件。通过将含有PE-2200聚酯树脂的光热敏成象银乳剂涂料分散液和顶层涂料溶液两道涂覆7密耳(0.18毫米)未打底的兰色聚酯支撑体层的方法来制备另一种光热敏成象元件。光热敏成象银乳剂的涂层重量为2.20克/英尺2(23.7克/米2)，而顶层涂料溶液的涂层重量为0.24克/英尺2(2.58克/米2)。将涂层在82℃(180°F)下干燥2～3分钟。实施例5C为对比例，而实施例5为本发明的样品。
按上述实施例1描述的评价品的感光测量和烟雾。得到以下结果实施例 ％(烟雾) Dmin Dhi 感光度-3 AC-1 Dmax5C15.5 0.22 3.89 1.73 4.43 4.125 22.9 0.22 3.64 1.60 4.22 3.79通过按实施例1描述的制备“灰晕”来确定木纹的存在和强度。同样，这样调整曝光条件，以致使灰晕的均匀光密度为约1.8。
通过比较在X射线观测盒上的样品来主观测定存在的木纹的数量。将木纹分等级为高、中或低。
样品 曝光方法木纹有PE-2200树脂 扫描激光低木纹无PE-2200树脂(对比)扫描激光高木纹有PE-2200树脂 掩盖曝光无木纹无PE-2200树脂(对比)掩盖曝光无木纹在不违背权利要求书规定的本发明的精神或范围的条件下，根据上述公开内容有可能作出一些合理的改进和变通方案。
权利要求
1.一种光谱上增感的光热敏成象卤化银元件，它含有一透明的有机聚合物支撑体层，在其至少一表面上有光热敏成象组合物层；当暴露到散光或均匀的白炽光中且在对组合物敏感的射线波长下曝光时，组合物层在其整个表面上有均匀的图象密度；所述的组合物层至少有两层，包括顶层和光热敏成象乳剂层，该层含有粘合剂、光不敏感的银源、银离子的还原剂和射线敏感的卤化银细粒，其中1)元件顶层产生的烟雾为0.05～30％，2)在顶层有随意的折射图案，3)在含卤化银的层中有颗粒物产生的烟雾，4)面向光热敏成象组合物的支撑体层表面的反射特性被改变，以减小相干射线反射到所述的组合物中和/或5)所述的元件含有吸收对所述组合物敏感的所述射线的染料。
2.根据权利要求1的元件，其中所述的卤化银细粒是数均粒度小于0.10微米且至少80％的细粒在平均值的±0.05微米内的预制卤化银细粒。
3.根据权利要求1的元件，其中在所述顶层中的所述烟雾通过在所述顶层中的颗粒物产生，所述颗粒物的数均粒度为0.5～12微米。
4.根据权利要求1的元件，其中在不曝光和在140℃下热显影30秒后在380纳米处的光密度小于0.1。
5.一种光谱上增感的光热敏成象卤化银元件，它含有一支撑体层，在其至少一表面上有光热敏成象乳剂层，当暴露到散光或均匀的白炽光中，在对组合物敏感的射线波长下曝光时，乳剂层在其整个表面上有均匀的图象密度；所述的元件当其整个表面均匀暴露到对所述元件光谱上敏感的相干射中时，由0.5毫米2至5厘米2的正方形规定的任三个直线连续区域中平均光密度的偏差小于0.05；所述的光热敏成象元件有顶层和所述的光热敏成象乳剂层，所述的光热敏成象乳剂层含粘合剂、光不敏感的银源、银离子的还原剂和射线敏感的卤化银细粒。
6.根据权利要求5的元件，其中所述的三个直线连续的区域为1毫米2的正方形。
7.根据权利要求6的元件，其中所述的顶层有改变光折射和光反射的第一种性质变化的第一种空间频率，所述的第一种性质选自表面平面性和厚度，所述的元件有至少一个通过至少所述的光热敏成象乳剂层、所述顶层和所述支撑体层之一来改变光折射和光反射的第二种性质，所述的第二种性质是第二种变化的空间频率，其频率至少比所述的第一种空间频率高2倍，所述的第二种性质至少部分由至少一种选自以下的特性得到a)含有不同于有机酸的银盐的颗粒物，b)在所述的光热敏成象乳剂层中的阻光染料，c)在所述的光热敏成象元件中的烟雾，以及d)在所述支撑体层上的打底层，其折射指数介于所述支撑体层的折射指数和所述光热敏成象乳剂层的折射指数之间。
8.一种可成象元件曝光的方法，该法包括以下步骤a)将权利要求1的元件暴露到对所述的卤化银细粒敏感的相干射线中，产生潜影，b)曝光后加热所述的元件，使所述的潜影显影成可见图象，它没有任何肉眼可见的木纹。
9.根据权利要求1的元件，其中通过颗粒物存在于所述的顶层涂料中使所述的顶层涂料产生烟雾，而在所述顶层涂料中的所述的烟雾为0.5～10％。
10.一种光谱上增感的光热敏成象卤化银元件，它含有一支撑体层，在其至少一表面上有一光热敏成象乳剂层，当它暴露到散光或均匀白炽光中，在对组合物敏感的射线波长下曝光时乳剂层在其整个表面上有均匀的图象密度，所述元件当其整个表面均匀地暴露到对所述元件敏感的相干射线中时，在相邻的1毫米2的区域之间平均光密度有小于0.05的偏差，所述的光热敏成象元件有一顶层和所述的光热敏成象乳剂层，后者含有粘合剂、光不敏感的银源、银离子的还原剂和射线敏感的卤化银细粒。
11.根据权利要求10的元件，其中所述的元件在光谱上对电磁光谱的红外区增感，所述的元件至少有以下选自的一种特性a)所述的顶层在其表面有随意的折射图案；b)所述的顶层含有扩散照射到元件表面的相干射线的颗粒物；c)所述的元件还含有一支撑体层，面向所述的光热敏成象层的所述的支撑体层的表面有不均匀从所述表面反射出相干射线的表面；d)所述的元件还含有这样一支撑体层，所述支撑体层面向光热敏成象层的表面有聚合物颗粒物在其表面上；以及e)其中所述的元件还含有这样一支撑体层，所述支撑体层面向所述光热敏成象层的表面有打底层在其上，打底层的折射指数介于所述支撑体层的折射指数和所述光热敏成象层的折射指数之间。
12.一种光谱上增感的光热敏成象卤化银元件，它含有一支撑体层，在其至少一表面上有一光热敏成象乳剂层，当它暴露到散光或均匀白炽光中且在对组合物敏感的射线波长下曝光时，乳剂层在其整个表面有均匀的图象密度，在直线相邻的1厘米2的正方形区域之间平均光密度有小于0.05的偏差，所述的光热敏成象元件有一顶层和所述光热敏成象乳剂层，后者含有粘合剂、光不敏感的银源、银离子的还原剂和射线敏感的卤化银细粒，所述的顶层在所选的有第一种空间频率的厚度和表面光滑性的性质方面有变化，所述的元件有至少一个有第二空间频率的另一性质，其频率高于所述的第一种空间频率，所述的另一特性选自1)在所述光热敏成象元件层或所述的顶层的任何表面上的物理结构和面向所述的光热敏成象乳剂层的所述支撑体层的表面物理结构，其物理结构使通过所述表面的射线的折射特性和/或反射特性改变，以及2)在顶层的表面和面向所述的光热敏成象乳剂层的支撑体层的表面之间层内的烟雾。
全文摘要
本发明提供了一种光谱上增感的光热敏成象卤化银元件，该元件含有一支撑体层，在其至少一表面上有光热敏成象组合物；当暴露到散光或均匀的白炽光中，在对元件敏感的射线波长下曝光时，在其整个表面上有均匀的图象密度；所述的元件含有至少有两层，包括一顶层和一光热敏成象乳剂层，所述的光热敏成象乳剂层含有粘合剂、光不敏感的银源、银离子的还原剂和红外射线敏感的卤化银细粒，其中在相干射线在其通过元件的通路中比它照射到顶层时有更大的扩散。这一点至少部分可通过以下几点来实现1)元件的顶层通过层的表面改性在其中产生0.05～30％的烟雾，2)在顶层有随意的折射图案，3)在含卤化银的层产生烟雾，4)面向光热敏成象组合物的支撑体层表面的反射特性被改变，以减小相干射线反射进所述的组合物和/或5)在光热敏成象元件内含有吸收射线的材料，以减小从支撑体层反射出的光。
文档编号G03C1/498GK1164283SQ95196299
公开日1997年11月5日 申请日期1995年10月5日 优先权日1995年10月5日
发明者T·C·吉斯勒, T·J·库伯, D·F·斯特瓦特, P·C·舒伯特, J·C·瓦诺斯 申请人:伊美申公司