定影构件、其制造方法、定影设备和图像形成设备的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及用于电子照相图像形成设备的加热定影设备的定影构件、其制造方 法、定影设备和图像形成设备。
【背景技术】
[0002] 用于如打印机、复印机和传真机等电子照相图像形成设备的加热定影设备的定影 构件包括膜形状的构件和漉形状的构件。作为此类定影构件，已知其中，根据需要，在由耐 热树脂或金属制成的膜形状或漉形状的基材上形成由耐热橡胶等制成的弹性层，并且表面 层含有对调色剂具有优异的脱模性的氣树脂的定影构件。此处，可W将耐热性优异的四氣 己締-全氣烷基己締基離共聚物（PFA)用作表面层中含有的氣树脂。
[0003] 此外，与近年来打印速度的增加有关，趋向于要求定影构件具有更增加的耐久性。 因此，为了增加定影构件的耐久性，已进行增强氣树脂层的耐磨耗性的许多研究。
[0004] 然后，描述设及配置在电子照相系统的图像形成设备的定影单元上的非旋转加压 构件的发明的专利文献1公开了，通过W下步骤1-4而形成的交联氣树脂层的耐磨耗性显 著增强：
[0005] 步骤1 ;在基材上形成未烧制的且未交联的氣树脂层，
[0006] 步骤2 ;将氣树脂层加热至氣树脂的烙点（Tm)至比烙点高150°C(Tm+150°C)范 围的温度，并且烧制所得物，
[0007] 步骤3 ;将烧制的未交联氣树脂层的温度调整在比氣树脂的烙点低50°C(Tm-50°C)的温度至比烙点高50°C(Tm+50°C)的温度的范围内，和
[000引步骤4 ;在氧浓度为0. 1-100化pm的气氛下，用照射剂量为1-lOOOkGy范围内的放 射线照射已调整层的温度的、未交联氣树脂层，W使未交联氣树脂交联。
[0009] 然后，专利文献1中，氣树脂的具体例子包括聚四氣己締（PTFE)、四氣己締-全氣 烷基己締基離共聚物（PFA)和四氣己締-六氣丙締共聚物（FEW。
[0010] 专利文献列表
[0011] 专利文献1 ;日本专利申请特开No. 2010-181621
【发明内容】
[00。] 发巧要解决的间願
[0013] 然后，本发明人已关注与PTFE相比具有低的烙融粘度且容易处理的作为氣树脂 的PFA，并且已基于专利文献1的公开，应用在无氧存在下将表面层加热至PFA的烙点附近 的同时，使用电离性放射线照射含有PFA的表面层的方法。结果，本发明人发现在确定增强 表面层的耐磨耗性的同时，表面层的表面上的调色剂的脱模性可能劣化。
[0014] 因此，本发明的目的在于提供包括含有PFA的表面层的定影构件，所述定影构件 耐磨耗性优异且对调色剂具有高的脱模性。
[0015] 此外，本发明的目的在于提供包括含有PFA的表面层的定影构件的制造方法，所 述定影构件耐磨耗性优异且对调色剂具有高的脱模性。
[0016] 此外，本发明的目的在于提供用于稳定地形成高品质电子照相图像的定影设备和 图像形成设备。
[0017] 用于解决间願的方秦
[001引根据本发明的一个方面，提供定影构件，其包括基材、设置在基材的表面上的弹性 层和设置在弹性层的表面上的表面层，其中表面层含有具有由W下结构式（1)表示的部分 结构的四氣己締-全氣烷基己締基離共聚物，并且具有由在润湿张力为31.OmN/m的润湿张 力试验用混合液中测量的67°W上的接触角的表面。
[0019][化学式^
[0020]
【主权项】
1. 一种定影构件，其包括：基材，设置在所述基材的表面上的弹性层，和表面层，其特 征在于： 所述表面层 含有具有由以下结构式（1)表示的部分结构的四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物， 并 具有由在润湿张力为31.OmN/m的润湿张力试验用混合液中测量的67度以上的接触角 的表面， [化学式1]
2. 根据权利要求1所述的定影构件，其中所述表面层为通过在无氧存在下，在所述四 氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的熔点附近的温度下使用电离性放射线照射含有所述 四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的层，之后在所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚 物的熔点以上加热所得物而制造的表面层。
3. 根据权利要求1或2所述的定影构件，其中所述弹性层含有硅橡胶。
4. 根据权利要求1-3任一项所述的定影构件，其中所述基材含有选自由聚酰亚胺、聚 酰胺酰亚胺和聚醚砜组成的组的至少一种树脂。
5. 根据权利要求1-3任一项所述的定影构件，其中所述基材含有镍或不锈钢。
6. 根据权利要求1-5任一项所述的定影构件，其中所述基材的厚度为20-60ym。
7. -种定影设备，其特征在于，其包括根据权利要求1-6任意一项所述的定影构件、所 述定影构件的加热装置和与所述定影构件相对配置的加压构件。
8. -种图像形成设备，其特征在于，其设置有根据权利要求7所述的定影设备。
9. 一种定影构件的制造方法，所述定影构件包括： 基材， 设置在所述基材的表面上的弹性层，和 含有具有由以下结构式（1)表示的部分结构的四氟乙烯_全氟烷基乙烯基醚共聚物的 表面层， 其特征在于，所述方法包括通过以下步骤（1)-(3)形成所述表面层的步骤： (1) 将在所述弹性层的表面上形成的、含有未交联四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚 物的膜的温度调整在所述四氟乙烯_全氟烷基乙烯基醚共聚物的玻璃化转变点Tg以上且 比所述四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的熔点Tm高30°C的温度Tm+30°C以下的温度 范围内， (2) 在氧浓度为1000 ppm以下的气氛下，用电离性放射线照射温度在所述步骤⑴中调 整的温度范围内的含有四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的表面，以在所述四氟乙 烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物中形成由以下结构式（1)表示的部分结构，和 (3)将从所述步骤（2)得到的、所述含有具有由以下结构式（1)表示的部分结构的四氟 乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的温度调整在340°C以上且380°C以下的温度范围内， [化学式2]
10. 根据权利要求10所述的定影构件的制造方法，其中 所述步骤（1)中，将所述含有四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物的膜的温度调整在 所述四氟乙烯_全氟烷基乙烯基醚共聚物的玻璃化转变点Tg以上且比所述四氟乙烯-全 氟烷基乙烯基醚共聚物的熔点Tm低60°C的温度Tm- 60°C以下的温度范围内。
11. 根据权利要求9或10所述的定影构件的制造方法，其中 所述步骤（3)中，将所述含有具有由结构式（1)表示的部分结构的四氟乙烯-全氟烷 基乙烯基醚共聚物的膜的温度在340°C以上且380°C以下的温度范围内维持5分钟以上。
12. 根据权利要求11所述的定影构件的制造方法，其中 所述步骤（3)中，将所述含有具有由结构式（1)表示的部分结构的四氟乙烯-全氟烷 基乙烯基醚共聚物的膜的温度维持在340°C以上且380°C以下的温度范围内的时间为10分 钟以上且20分钟以下。
【专利摘要】本发明涉及具有含有PFA的表面层并且耐磨耗性优异且对调色剂具有高的脱模性的定影构件。该定影构件包括基材、在基材的表面上形成的弹性层和表面层。该表面层含有具有特定的部分结构的四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物，并且具有使用润湿张力试验用混合液测定的接触角为67°以上的表面，所述混合溶液具有31.0mN/m的润湿张力。
【IPC分类】G03G15-20
【公开号】CN104718502
【申请号】CN201380040975
【发明人】前田松崇, 松中胜久
【申请人】佳能株式会社
【公开日】2015年6月17日
【申请日】2013年7月23日
【公告号】EP2881800A1, US20140107250, WO2014020861A1