一种荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种光斑控制装置，具体是涉及一种荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置。
【背景技术】
[0002]现有荧光分析仪器的光路光斑尺寸精度不高，光强不均匀。
【发明内容】
[0003]发明目的:为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种光斑尺寸精度高、光强均匀的荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置。
[0004]技术方案:为解决上述技术问题，本发明的荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置，包括遮挡板，所述遮挡板上方设有激光二极管，所述遮挡板下方位于所述激光二极管正下方位置设有遮光片，所述遮光片正中间位置设有孔。
[0005]进一步地，所述孔采用长方形孔洞。
[0006]进一步地，所述孔的尺寸设置在长不高于3.6mm以及宽不高于0.8mm范围内。
[0007]进一步地，所述孔的尺寸为3.6mm*0.8mm。
[0008]有益效果:本发明与现有技术比较，具有的优点是:
[0009]遮光片上的孔起到了控制被检测物上光斑尺寸的作用，从而使得被检测物表面上的光斑尺寸得到有效控制，使得光斑尺寸有效控制在3.6mm*0.8mm，精度达到0.1mm ;遮光片上的孔让光斑中间光强较均匀的部分通过，使得光斑光强比较均匀。
【附图说明】
[0010]图1是本发明荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置结构示意图。
【具体实施方式】
[0011]下面结合附图对本发明作更进一步的说明。
[0012]如图1所示，为本发明提供的荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置，包括遮挡板5，所述遮挡板5上方设有激光二极管1，所述遮挡板5下方位于所述激光二极管I正下方位置设有遮光片2，所述遮光片2正中间位置设有孔3，所述孔3采用长方形孔洞，所述孔3的尺寸设置在长不高于3.6mm以及宽不高于0.8mm范围内，所述孔3的尺寸为
3.6mm*0.8mm ；
[0013]使用过程中，在所述遮光片2下方放置一基板6，在基板6上方位于所述遮光片2上孔3的正下方位置处设一检测物4，工作时，激光二极管I发射激光，激光透过遮光片2照射到检测物4表面，遮光片2的孔3让光斑中间光强较均匀的部分通过，而遮挡住靠边缘的衰减区域，所述孔3的尺寸为3.6mm*0.8mm，同时，遮光片2上的孔3也起到了控制被检测物4上光斑尺寸的作用，从而使得被检测物4表面上的光斑尺寸得到有效控制，而其光强也较均匀，使得光斑尺寸有效控制在3.6mm*0.8mm，精度达到0.1mm。
[0014]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出:对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置，其特征在于:包括遮挡板(5)，所述遮挡板(5)上方设有激光二极管(I)，所述遮挡板(5)下方位于所述激光二极管(I)正下方位置设有遮光片(2)，所述遮光片(2)正中间位置设有孔(3)。2.根据权利要求1所述的荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置，其特征在于:所述孔⑶采用长方形孔洞。3.根据权利要求1或2所述的荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置，其特征在于:所述孔(3)的尺寸设置在长不高于3.6mm以及宽不高于0.8mm范围内。4.根据权利要求3所述的荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置，其特征在于:所述孔(3)的尺寸为3.6mm*0.8mm。
【专利摘要】本发明公开了一种荧光分析仪用基于激光二极管的光斑控制装置，包括遮挡板，所述遮挡板上方设有激光二极管，所述遮挡板下方位于所述激光二极管正下方位置设有遮光片，所述遮光片正中间位置设有孔；遮光片上的孔起到了控制被检测物上光斑尺寸的作用，从而使得被检测物表面上的光斑尺寸得到有效控制，使得光斑尺寸有效控制在3.6mm*0.8mm，精度达到0.1mm；遮光片上的孔让光斑中间光强较均匀的部分通过，使得光斑光强比较均匀。
【IPC分类】G02B27/09, G01N21/64
【公开号】CN104950454
【申请号】CN201510376827
【发明人】鲁加勇, 胡利刚, 肖之鹏, 淳林
【申请人】南京普朗医疗设备有限公司
【公开日】2015年9月30日
【申请日】2015年7月1日