一种吸收式滤光保护玻璃的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及影像模组领域，特别涉及一种吸收式滤光保护玻璃。
【背景技术】
[0002]影像模组装置是用以生成影像的光学组件，由保护玻璃、光学镜头、滤光片、镜座、Sensor、PCB、连接器、周边电子器件组成，广泛用于移动电子设备的摄像、拍照。
[0003]现有影像模组中保护玻璃、光学镜头、滤光片组成光学系统，光线经过多层光学玻璃反射和吸收后，模组成像品质受到影响。
【发明内容】
[0004]本发明的技术方案是这样实现的:针对现有影像模组成像品质缺陷，本发明专利公开了一种吸收式滤光保护玻璃，能够在影像模组的光学系统中改善成像品质。
[0005]为达到上述目的，本发明专利公开了一种吸收式滤光保护玻璃，采用石英玻璃或蓝宝石玻璃作为素材，所述吸收式滤光保护玻璃表面镀红外截止膜和增透膜，所述吸收式滤光保护玻璃在熔炼制程加入五氧化二磷等光吸收物质，所述吸收式滤光保护玻璃可取代目前影像模组中滤光片和保护玻璃；并且，所述吸收式滤光保护玻璃材料中加入五氧化二磷等光吸收物质，吸收红外光，透过可见光。
[0006]进一步，所述石英玻璃或蓝宝石玻璃的质量百分比为90-99.5%。
[0007]进一步，所述五氧化二磷等光吸收物质的质量百分比为0.5-10%，采用该比例具有较佳的吸收效果。
[0008]
采用上述技术方案，本发明专利所述吸收式滤光保护玻璃，可有效降低影像模组光学系统中光反射和吸收导致的光晕、鬼影、画面变暗，可改善入射光因角度变化产生的colorshading (色差)现象。
【附图说明】
[0009]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0010]图1为本发明一种吸收式滤光保护玻璃一个实施例的平面结构示意图。
【具体实施方式】
[0011]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0012]实施例1
一种吸收式滤光保护玻璃，米用石英玻璃或蓝宝石玻璃1作为素材，质量百分比为90%，吸收式滤光保护玻璃表面镀红外截止膜2和增透膜3，该吸收式滤光保护玻璃在熔炼制程加入质量百分比为10%的五氧化二磷等光吸收物质。
[0013]实施例2
一种吸收式滤光保护玻璃，米用石英玻璃或蓝宝石玻璃1作为素材，质量百分比为99.5%，吸收式滤光保护玻璃表面镀红外截止膜2和增透膜3，该吸收式滤光保护玻璃在熔炼制程加入质量百分比为0.5%的五氧化二磷等光吸收物质。
[0014]实施例3
一种吸收式滤光保护玻璃，米用石英玻璃或蓝宝石玻璃1作为素材，质量百分比为95%，吸收式滤光保护玻璃表面镀红外截止膜2和增透膜3，该吸收式滤光保护玻璃在熔炼制程加入质量百分比为5%的五氧化二磷等光吸收物质。
[0015]本发明的该吸收式滤光保护玻璃可有效降低影像模组光学系统中光反射和吸收导致的光晕、鬼影、画面变暗，可改善入射光因角度变化产生的色差现象。
[0016]以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种吸收式滤光保护玻璃，其特征在于:所述吸收式滤光保护玻璃采用石英玻璃或蓝宝石玻璃作为素材，所述吸收式滤光保护玻璃表面镀红外截止膜和增透膜，所述吸收式滤光保护玻璃在熔炼制程加入五氧化二磷光吸收物质。2.如权利要求1中所述吸收式滤光保护玻璃，其特征在于:所述石英玻璃或蓝宝石玻璃的质量百分比为90-99.5%。3.如权利要求1中所述吸收式滤光保护玻璃，其特征在于:所述五氧化二磷光吸收物质的质量百分比为0.5-10%ο
【专利摘要】本发明公开了一种吸收式滤光保护玻璃，所述吸收式滤光保护玻璃采用石英玻璃或蓝宝石玻璃作为素材，所述吸收式滤光保护玻璃表面镀红外截止膜和增透膜，所述吸收式滤光保护玻璃熔炼制程加入五氧化二磷等光吸收物质，所述吸收式滤光保护玻璃表面镀红外截止膜和增透膜。本发明公开的所述吸收式滤光保护玻璃，可有效降低影像模组光学系统中光反射和吸收导致的光晕、鬼影、画面变暗，可改善入射光因角度变化产生的色差现象。
【IPC分类】C03C1/00, G02B1/11, G03B11/00, G02B5/22
【公开号】CN105353435
【申请号】CN201510905807
【发明人】王辛峰
【申请人】广州市佳禾光电科技有限公司
【公开日】2016年2月24日
【申请日】2015年12月10日