曝光装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种曝光装置。
【背景技术】
[0002]曝光是微加工过程中一个必不可少的工艺，特别是在显示行业，无论是电路的刻蚀，还是彩色滤光片的制作，都与曝光密切相关。
[0003]目前的曝光技术，通常是在待曝光膜(例如光刻胶)上方设置掩膜版，使曝光光线通过掩膜版后照射到待曝光膜上，从而在待曝光膜上形成所需要的目标图案。此种曝光工艺的缺陷是:一种掩膜版对应一种图案，更换图案需要更换掩膜版。制作掩膜版的成本非常高，并且更换掩膜版会占用大量的时间，从而影响曝光效率。
【发明内容】
[0004]本发明提供一种曝光装置，不需要掩膜版即可在待曝光膜上形成所需图案，可节省生广成本，以及提尚曝光效率。
[0005]本发明提供一种曝光装置，包括显示器和位于所述显示器下方的凸透镜组件，所述显示器出射的光源经所述凸透镜组件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜经曝光后形成有所述显示器显示的图案。
[0006]其中，所述显示器为高像素密度的显示器。
[0007]其中，所述凸透镜组件包括至少一个凸透镜。
[0008]其中，所述凸透镜组件包括至少两个沿纵向方向间隔设置的凸透镜。
[0009]其中，所述凸透镜组件包括至少一个凸透镜，所述曝光装置还包括至少一个光栅结构，每一所述光栅结构位于一个凸透镜的下方。
[0010]其中，所述曝光装置还包括壳体，所述凸透镜组件设置于所述壳体内。
[0011 ]其中，所述凸透镜组件及所述至少一个光栅结构设置于所述壳体内。
[0012]其中，所述壳体的内侧壁为黑色。
[0013]本发明中，以显示器作为曝光装置的光源，曝光时，将所需图案显示在显示器上，经过凸透镜组件的转化，在待曝光膜上即可形成所需图案。经过凸透镜组件转化投影到待曝光膜上的图案具有高像素密度，可满足待曝光膜上的图案的要求。如此，无需掩膜版即可在待曝光膜上形成所需图案，节省了生产成本，同时无需更换掩膜版，相应地也提高了曝光效率。
【附图说明】
[0014]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本发明第一实施方式中曝光装置的结构示意图；
[0016]图2为本发明实施方式中在待曝光膜上形成所需图案的示意图；以及
[0017]图3为本发明第二实施方式中曝光装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0018]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0019]图1为本发明第一实施方式中曝光装置100的结构示意图。曝光装置100包括显示器11及位于显示器11下方的凸透镜组件12。本实施方式中，将显示器11作为曝光装置100的光源。在曝光时，将所需图案显示在显示器11上，显示器11出射的光源经凸透镜组件12射出，照射到待曝光膜(例如光刻胶，未示出)上，以使待曝光膜经曝光后形成有显示器11显示的图案。
[0020]本实施方式中，以显示器11作为曝光装置100的光源，曝光时，将所需图案显示在显示器11上，经过凸透镜组件12的转化，在待曝光膜上即可形成所需图案。经过凸透镜组件12转化投影到待曝光膜上的图案具有高像素密度，可满足待曝光膜上的图案的要求。如此，无需掩膜版即可在待曝光膜上形成所需图案，节省了生产成本，同时无需更换掩膜版，相应地也提高了曝光效率。
[0021]本实施方式中，显示器11为高像素密度的显示器。凸透镜组件12包括两个沿纵向方向间隔设置的凸透镜121。当然，在其他实施方式中，凸透镜组件12也可仅包括一个凸透镜121，或三个或更多个沿纵向方向间隔设置的凸透镜121。凸透镜121的数量可根据实际情况进行具体设置。
[0022]本实施方式中，曝光装置100还包括壳体13，凸透镜组件12设置于壳体13内。壳体13的内侧壁可为黑色，以吸收壳体13周围环境的光线，从而避免周围环境影响显示器11显示的图案在待曝光膜上的成像。壳体13的顶部与底部可分别开设有通孔(未示意)，以供显示器11出射的光源经凸透镜组件12射出，照射到待曝光膜上。壳体13的顶部与底部也可分别由透光材料制作而成，以供显示器11出射的光源经凸透镜组件12射出，照射到待曝光膜上。
[0023]图2为本发明实施方式中在待曝光膜上形成所需图案的示意图。如图2所示，显示器11上显示的图案为一个箭头，经两个凸透镜121的转化后，在待曝光膜上形成缩小的箭头，该缩小的箭头具有高像素密度。
[0024]图3为本发明第二实施方式中曝光装置200的结构示意图。与曝光装置100相似之处在于，曝光装置200包括显示器21、位于显示器21下方的凸透镜组件22以及收容凸透镜组件22的壳体23，凸透镜组件22包括两个沿纵向方向设置的凸透镜221。与曝光装置100不同之处在于，曝光装置200还包括两个光栅结构24，每一光栅结构24位于一个凸透镜221的下方。根据光栅结构24已知的特性可知，在每一凸透镜221的下方设置光栅结构24，可提高待曝光膜上所形成的图案的清晰度。
[0025]以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括显示器和位于所述显示器下方的凸透镜组件，所述显示器出射的光源经所述凸透镜组件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜经曝光后形成有所述显示器显示的图案。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述显示器为高像素密度的显示器。3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述凸透镜组件包括至少一个凸透镜。4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述凸透镜组件包括至少两个沿纵向方向间隔设置的凸透镜。5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述凸透镜组件包括至少一个凸透镜，所述曝光装置还包括至少一个光栅结构，每一所述光栅结构位于一个凸透镜的下方。6.如权利要求1至4任意一项所述的曝光装置，其特征在于，还包括壳体，所述凸透镜组件设置于所述壳体内。7.如权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，还包括壳体，所述凸透镜组件及所述至少一个光栅结构设置于所述壳体内。8.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述壳体的内侧壁为黑色。9.如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述壳体的内侧壁为黑色。
【专利摘要】本发明提供一种曝光装置，包括显示器和位于所述显示器下方的凸透镜组件，所述显示器出射的光源经所述凸透镜组件射出，照射到待曝光膜上，以使所述待曝光膜经曝光后形成有所述显示器显示的图案。本发明中，以显示器作为曝光装置的光源，曝光时，将所需图案显示在显示器上，经过凸透镜组件的转化，在待曝光膜上即可形成所需图案。经过凸透镜组件转化投影到待曝光膜上的图案具有高像素密度，可满足待曝光膜上的图案的要求。如此，无需掩膜版即可在待曝光膜上形成所需图案，节省了生产成本，同时无需更换掩膜版，相应地也提高了曝光效率。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN105549333
【申请号】CN201610038639
【发明人】宋烨
【申请人】武汉华星光电技术有限公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2016年1月21日