显示基板的制备方法及显示基板、显示装置的制造方法

显示基板的制备方法及显示基板、显示装置的制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种显示基板的制备方法、显示基板、显示装置。显示基板的制备方法包括：提供一水平放置且装有固化液的容器，所述容器的底部平坦，将与所述容器底部平行的基板的一侧浸入在所述固化液中，对所述固化液进行固化处理，直至所述固化液在所述基板的该侧固化形成为膜层。本发明提供的显示基板的制备方法，形成的该膜层的与基板相对的表面的平坦度与容器的底部的平坦度一致，满足平坦化要求，因此，形成的显示基板的膜厚的均一性较高。
【专利说明】
显示基板的制备方法及显示基板、显示装置
技术领域
[0001]本发明属于液晶显示技术领域，具体涉及一种显示基板的制备方法、显示基板、显示装置。
【背景技术】
[0002]薄膜晶体管液晶显不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)是一种重要的平板显示设备。该显示设备一般包显示面板，显示面板一般包括对盒设置的阵列基板TFT和彩膜基板CF，其中，彩膜基板的主要结构(以IPS为例)包括玻璃基板、背侧ITO导电膜、黑色矩阵BM、色阻层RGB、保护层OC以及柱状支撑Spacer，通常，为了提升对比度，防止色阻的混色，彩膜基板的制备工艺一般为:在基板10上先进行黑色矩阵BM的曝光工艺，之后在进行色组层RGB色阻工艺的过程中将色阻层RGB与黑色矩阵BM部分重叠(overlay)，如图1a所示，这样，会导致色阻两端存在着角段差(PW段差)，再之后进行保护层OC工艺，形成OC层I，完成之后如图1b所不ο
[0003]然而，采用现有的彩膜基板的制备方法在实际应用中发现以下问题:彩膜基板的膜厚的均一性较差，在与TFT基板的对盒过程中存在各种风险，不良发生率大大增加。
[0004]为此，目前亟需一种能够大大改善显示基板(诸如，彩膜基板)膜厚均一性的制备方法。

【发明内容】

[0005]本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种显示基板的制备方法及显示基板、显示装置。
[0006]为解决上述问题之一，本发明提供了一种显示基板的制备方法，包括:
[0007]提供一水平放置且装有固化液的容器，所述容器的底部平坦；
[0008]将与所述容器底部平行的基板的一侧浸入在所述固化液中；
[0009]对所述固化液进行固化处理，直至所述固化液在所述基板的该侧固化形成为一膜层。
[0010]优选地，所述基板上形成有黑色矩阵和色阻层；
[0011]所述基板的一侧为所述黑色矩阵和所述色阻层所在的一侧。
[0012]优选地，相邻的所述色阻层和所述黑色矩阵的边缘区域重叠。
[0013]优选地，所述容器内设置有可升降的分隔板；
[0014]所述提供一水平放置且装有固化液的容器的步骤，包括:
[0015]提供一空置的容器；
[0016]调节所述容器的所述分隔板的位置，以调节所述容器容纳所述固化液的深度；
[0017]在调节好的所述容器内注入固化液。
[0018]优选地，所述固化液为固化胶。
[0019]优选地，所述对所述固化液进行固定处理，包括:
[0020]对所述固化液进行加热处理，以使其固化。
[0021]优选地，在对所述固化液进行固化处理，直至所述固化液在所述基板的该侧固化形成为一膜层之后，还包括:
[0022]将所述基板翻转180°，再进行后续工艺。
[0023]相应地，本发明还提供一种显示基板，所述显示基板采用本发明提供的上述显示基板的制备方法获得。
[0024]相应地，本发明还提供一种显示装置，包括显示基板，所述显示基板采用上述显示基板。
[0025]优选地，所述显示装置包括液晶显示装置。
[0026]本发明具有以下有益效果:
[0027]本发明提供的显示基板的制备方法，借助将与容器底部平行的基板的一侧浸入在水平放置且装有固化液的容器中，容器的底部平坦，并对固化液进行固化处理形成相应的膜层，形成的该膜层的与基板相对的表面的平坦度与容器的底部的平坦度一致，满足平坦化要求，因此，形成的显示基板的膜厚的均一性较高。
【附图说明】
[0028]图1a为形成有黑色矩阵和色阻层的显示基板的结构示意图；
[0029]图1b为采用现有的显示基板制备方法形成的显示基板的结构示意图；
[0030]图2为本发明实施例提供的显示基板的制备方法的流程图；
[0031 ]图3a为未形成膜层的显示基板的结构示意图；
[0032]图3b为图3a所不的显不基板的一面浸入固化液的状态不意图；
[0033]图3c为对固化液进行固化处理并去除容器之后的状态示意图；
[0034]图3d为将图3c所不的基板翻转180°的状态不意图；
[0035]图4为本发明实施例所需的容器的结构示意图。
【具体实施方式】
[0036]为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图来对本发明提供的显示基板的制备方法及显示基板、显示装置进行详细描述。
[0037]实施例1
[0038]图2为本发明实施例提供的显示基板的制备方法的流程图；请参阅图2，本发明实施例提供的显示基板的制备方法，包括以下步骤:
[0039]SI，提供一水平放置且装有固化液的容器，所述容器的底部平坦。
[0040]其中，所谓容器的底部平坦是指容器的底部的平坦度满足实际所需的膜层的表面的平坦度要求。
[0041 ] S2，将与容器的底部平行的基板的一侧浸入在固化液中。
[0042]其中，基板的一侧是指基板的需要形成膜层的一侧(下文中称之为“待形成层侦Γ)，其一般为形成有膜层结构的一侧，当然，也可以为基板的未形成膜层结构的一侧。
[0043]S3，对所述固化液进行固化处理，直至所述固化液在所述基板的该侧固化形成为膜层。
[0044]下面结合图3a_图3d和图4详细描述本发明实施例提供的显示基板的制备方法的工作过程。
[0045]首先，未形成膜层的显示基板的结构如图3a所示，其中，所述基板10上形成有黑色矩阵BM和色阻层RGB;在此，所述基板10的一侧为所述黑色矩阵BM和所述色阻层RGB所在的一侧。
[0046]另外，具体地，相邻的所述色阻层RGB和所述黑色矩阵BM的边缘区域重叠，这样，在基板10厚度不均，为了确保后续形成膜层后的显示基板10的厚度的均一性，因此，需要采用本发明实施例提供的显示基板的制备方法。
[0047]接着，采用本发明实施例提供的显示基板的制备方法来在基板10的待形成层侧形成膜层。
[0048]具体地，优选地，如图4所示，本发明实施例提供的容器11内设置有可升降的分隔板12;在此情况下，上述步骤SI，包括:提供一空置的容器11;调节所述容器11的所述分隔板12的位置，以调节所述容器容纳所述固化液的深度H;在调节好的所述容器11内注入固化液13。在此需要说明的是，深度H根据实际所需的膜层的厚度进行设置，一般等于所需膜层的厚度，但是，若固化液固化之后体积有一定的变化，则该深度H应考虑该变化进行设置。
[0049]在本实施例中，固化液13为固化胶，具体但不限于为OC胶，由于OC胶与基板10的上其他材料(例如，黑色矩阵BM和色阻层RGB)之间的粘附性好，但与容器11内表面之间的粘附性较低，因此，在固化后容易且迅速地与容器11分离并粘附在黑色矩阵BM和色阻层RGB上。
[0050]在步骤SI之后，将图3a所示的基板10翻转180°，并进入步骤S2，使基板10的待形成层侧浸入固化液13中，如图3b所示。
[0051]在步骤S2之后，进入步骤S3，对所述固化液13进行固定处理，固化处理之后，去除容器11，如图3c所示，在基板10的待形成层侧形成有膜层13’，由于容器11的底部为平坦的，形成的膜层13’的与基板相对的表面与容器11的底部的平坦度一致，因此，也为平坦的，能够满足显示基板10厚度的均一性要求。
[0052]优选地，在步骤S3之后，还包括:步骤S4，将基板翻转180° (如图3d所示)，再进行后续工艺，这样，便于在膜层13’的表面继续形成其他膜层。
[0053]需要在此说明的是，本发明实施例提供的显示基板的制备方法，不仅可以应用在彩膜基板的制备过程中，还可以应用在其他基板(例如，阵列基板)的制备过程中。
[0054]由上可知，本发明实施例提供的显示基板的制备方法，借助上述步骤S1-步骤S3形成膜层13’，该膜层13’的与基板10相对的表面的平坦度与容器11的底部的平坦度一致，因此，形成的显示基板的膜厚的均一性较高。
[0055]实施例2
[0056]本发明实施例还提供一种显示基板，所述显示基板采用本发明上述实施例1提供的显不基板的制备方法获得。
[0057]由于本发明实施例提供的显示基板采用上述实施例1提供的显示基板的制备方法获得，因此，该显示基板的膜厚的均一性较高。
[0058]实施例3
[0059]本发明实施例还提供一种显示装置，包括显示基板，所述显示基板采用本发明实施例2提供的显不基板。[ΟΟ?Ο] 具体地，所述显示装置包括液晶显示装置。
[0061]由于本发明实施例提供的显示装置采用上述实施例2提供的显示基板，因此，显示装置的良品率尚。
[0062]可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括: 提供一水平放置且装有固化液的容器，所述容器的底部平坦； 将与所述容器底部平行的基板的一侧浸入在所述固化液中； 对所述固化液进行固化处理，直至所述固化液在所述基板的该侧固化形成为一膜层。2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述基板上形成有黑色矩阵和色阻层； 所述基板的一侧为所述黑色矩阵和所述色阻层所在的一侧。3.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，相邻的所述色阻层和所述黑色矩阵的边缘区域重叠。4.根据权利要求3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述容器内设置有可升降的分隔板； 所述提供一水平放置且装有固化液的容器的步骤，包括: 提供一空置的容器； 调节所述容器的所述分隔板的位置，以调节所述容器容纳所述固化液的深度； 在调节好的所述容器内注入固化液。5.根据权利要求2或3所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述固化液为固化胶。6.根据权利要求5所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述对所述固化液进行固定处理，包括: 对所述固化液进行加热处理，以使其固化。7.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在对所述固化液进行固化处理，直至所述固化液在所述基板的该侧固化形成为一膜层之后，还包括: 将所述基板翻转180°，再进行后续工艺。8.—种显示基板，其特征在于，所述显示基板采用权利要求1-7任意一项所述的显示基板的制备方法获得。9.一种显示装置，包括显示基板，其特征在于，所述显示基板采用权利要求8所述的显不基板。10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置包括液晶显示装置。
【文档编号】G02F1/1335GK105974654SQ201610586864
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年7月22日
【发明人】钟国强, 陆相晚, 李宾, 朱涛, 袁慧芳, 唐文浩, 尹海斌, 方群, 董安鑫, 陈建
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 合肥鑫晟光电科技有限公司