一种彩膜基板以及显示面板的制作方法

一种彩膜基板以及显示面板的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种彩膜基板以及显示面板，所述彩膜基板包括：衬底基板；黑色矩阵和色阻层，位于衬底基板上；位于黑色矩阵和色阻层远离所述基板一侧的第一保护钝化层或公共电极；第一保护钝化层或公共电极设置有多个第一凹槽，第一凹槽在衬底基板上的垂直投影位于黑色矩阵在衬底基板上的垂直投影内；隔离柱，位于第一保护钝化层或公共电极远离衬底基板的一侧，且隔离柱在衬底基板上的垂直投影位于黑色矩阵在衬底基板上的垂直投影内；配向膜，位于第一保护钝化层以及隔离柱远离衬底基板的一侧，或者位于公共电极以及隔离柱远离衬底基板的一侧，解决了配向膜堆积导致的显示面板漏光的问题。
【专利说明】
一种彩膜基板以及显示面板
技术领域
[0001] 本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板以及显示面板。
【背景技术】
[0002] 液晶显示器以体积小，重量轻，低辐射等优点广泛应用于各种领域。液晶显示面板 是液晶显示器中最主要的组成部分。液晶显示器的工作原理为:通过改变施加在液晶上的 电压改变液晶分子的偏转角度，从而控制偏振光旋转方向和偏振状态，以实现液晶显示器 显示状态的改变。
[0003] 在一般情况下，液晶分子长轴方向的排列是随机取向且分布是杂乱无章的，为了 使大部分液晶分子的长轴方向能够沿着一个方向排列，需要对液晶显示面板的彩膜基板和 阵列基板进行配向，一般地，配向方法为在彩膜基板和阵列基板朝向液晶的一侧形成配向 膜，使得液晶分子的长轴方向能够沿着沟槽的方向有规律的排列，进而在阵列基板和彩膜 基板上施加电压后可以控制液晶分子旋转预定的角度。
[0004] 配向膜可用摩擦配向方式或光配向方式形成。但不论是摩擦配向方式还是光配向 方式，都需要将配向膜材料整层涂覆。但由于彩膜基板一侧需要在隔离柱的上方涂覆配向 膜材料，因此隔离柱周边的配向膜材料容易形成堆积，无法充分地进行平坦化，导致该部分 区域的液晶配向方向发生偏移，从而引起显示面板漏光。

【发明内容】

[0005] 本发明提供一种彩膜基板以及显示面板，以解决配向膜堆积导致的显示面板漏光 的问题。
[0006] 第一方面，本发明实施例提供了一种彩膜基板，包括：
[0007] 衬底基板；
[0008] 黑色矩阵和色阻层，位于所述衬底基板上；
[0009] 位于所述黑色矩阵和所述色阻层远离所述衬底基板一侧的第一保护钝化层或公 共电极；
[0010] 所述第一保护钝化层或所述公共电极设置有多个第一凹槽，所述第一凹槽在所述 衬底基板上的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内；
[0011] 隔离柱，位于所述第一保护钝化层或所述公共电极远离所述衬底基板的一侧，且 所述隔离柱在所述衬底基板上的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投 影内；
[0012] 配向膜，位于所述第一保护钝化层以及所述隔离柱远离所述衬底基板的一侧，或 者位于所述公共电极以及所述隔离柱远离所述衬底基板的一侧。
[0013] 第二方面，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括：
[0014] 阵列基板；
[0015]第一方面所述的彩膜基板；
[0016] 液晶层；
[0017] 其中，所述彩膜基板和所述阵列基板相对设置，所述液晶层设置在所述彩膜基板 和所述阵列基板之间。
[0018] 本发明提供的彩膜基板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的黑色矩阵和色 阻层，其中，位于所述黑色矩阵和所述色阻层远离所述衬底基板一侧的第一保护钝化层或 公共电极上设置有多个第一凹槽，且所述第一凹槽在所述衬底基板上的垂直投影位于所述 黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内，然后在所述第一保护钝化层或所述公共电极远 离所述衬底基板的一侧设置隔离柱，所述隔离柱在所述衬底基板上的垂直投影位于所述黑 色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内，因此在所述第一保护钝化层以及所述隔离柱远离 所述衬底基板的一侧或者在所述公共电极以及所述隔离柱远离所述衬底基板的一侧涂覆 配向膜时，隔离柱周边的配向膜会被限制在第一凹槽内，并且由于所述第一凹槽在所述衬 底基板上的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内，所以限制在第一 凹槽内的配向膜由于受到黑色矩阵的遮挡，也不会对画面显示造成影响，因此避免了配向 膜在隔离柱周边的堆积导致的显示面板漏光的问题。
【附图说明】
[0019] 图1为本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图；
[0020] 图2为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0021 ]图3为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0022] 图4为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0023] 图5为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0024] 图6为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0025] 图7为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0026] 图8为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0027] 图9为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0028] 图10为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0029] 图11为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0030] 图12为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0031 ]图13为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0032] 图14为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0033] 图15为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0034] 图16为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0035] 图17为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0036] 图18为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0037] 图19为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0038] 图20为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0039] 图21为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0040] 图22为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0041] 图23为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0042] 图24为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0043] 图25为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0044] 图26为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0045] 图27为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0046] 图28为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0047]图29为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0048]图30为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0049] 图31为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0050] 图32为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图；
[0051] 图33为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
[0052]图34为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0053] 下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描 述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便 于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
[0054] 图1为本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图，如图1所示，所述彩膜基 板包括衬底基板11、黑色矩阵12、色阻层13、第一保护钝化层14、隔离柱15以及配向膜16。其 中，黑色矩阵12和色阻层13位于衬底基板11上。示例性的，图1设置色阻层13位于黑色矩阵 12远离衬底基板11的一侧。第一保护钝化层14位于黑色矩阵12和色阻层13远离衬底基板11 一侧。第一保护钝化层14设置有多个第一凹槽141，且第一凹槽141在衬底基板11上的垂直 投影位于黑色矩阵12在衬底基板11上的垂直投影内。隔离柱15位于第一保护钝化层14远离 衬底基板11的一侧，且隔离柱15在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底基板11 上的垂直投影内。配向膜16位于第一保护钝化层14以及隔离柱15远离衬底基板11的一侧。 图1中设置隔离柱15位于第一凹槽141内。本发明实施例通过在彩膜基板的第一保护钝化层 14中设置多个第一凹槽141，将隔离柱15位于第一凹槽141内，所以在第一保护钝化层14以 及隔离柱15远离衬底基板11的一侧涂覆配向膜16时，隔离柱15周边的配向膜16会被限制在 第一凹槽141内。并且由于第一凹槽141在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底 基板11上的垂直投影内，所以限制在第一凹槽141内的配向膜16由于受到黑色矩阵12的遮 挡，也不会对画面显示造成影响，因此避免了配向膜16在隔离柱15周边的堆积导致的显示 面板漏光的问题。
[0055] 图2为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图，如图2所示，与图1不同的 是，第一凹槽141内设置有衬垫层17。衬垫层17的侧壁与第一凹槽141的侧壁之间具有缝隙。 隔离柱15位于衬垫层17上。图2提供的彩膜基板由于衬垫层17的侧壁与第一凹槽141的侧壁 之间具有缝隙，因此在第一保护钝化层14以及隔离柱15远离衬底基板11的一侧涂覆配向膜 16时，隔离柱15周边的配向膜16会被限制在第一凹槽141的衬垫层17的侧壁与第一凹槽141 的侧壁之间的缝隙内，因此也可以避免配向膜16在隔离柱15周边的堆积导致的显示面板漏 光的问题。
[0056] 需要说明的是，衬垫层17可以和第一保护钝化层14采用同种材料，也可以采用不 同材料，本发明实施例对此不作限定。本发明实施例中对衬垫层17的厚度不作限定。在沿第 一保护钝化层14的厚度方向上，衬垫层17远离衬底基板11的一侧可以与第一保护钝化层14 远离衬底基板11的一侧平齐，也可以低于第一保护钝化层14远离衬底基板11的一侧。
[0057] 图3为本发明实施例提供的又一种彩膜基板的结构示意图。如图3所示，与图1和图 2不同的是，第一凹槽141在衬底基板11上的垂直投影为封闭环状图形。其中封闭环状图形 可以是封闭圆环、方形环或者其他形状(规则或不规则)封闭环状图形。隔离柱15位于第一 凹槽141围绕的第一保护钝化层14上。图3提供的彩膜基板在第一凹槽141围绕的第一保护 钝化层14上设置隔离柱15，因此隔离柱15外围设置有第一凹槽141，因此在第一保护钝化层 14以及隔离柱15远离衬底基板11的一侧涂覆配向膜16时，隔离柱15周围的配向膜16被限制 在第一凹槽141内。并且由于第一凹槽141在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬 底基板11上的垂直投影内，因此可以避免隔离柱15周边的配向膜材料的堆积导致该部分区 域的液晶配向方向发生偏移，引起漏光的问题。
[0058] 需要说明的是，图1-图3示例性的设置第一凹槽141的深度小于保护钝化层14的厚 度，而并非对本发明实施例的限定。在其他实施方式中，还可以设置沿第一保护钝化层14厚 度方向，设置第一凹槽141贯穿第一保护钝化层14。如图4-图6所示。
[0059] 图7为本发明实施例提供的又一种彩膜基板的结构示意图。如图7所示，沿第一保 护钝化层14厚度方向，第一凹槽141贯穿第一保护钝化层14。色阻层13位于黑色矩阵12远离 衬底基板11的一侧。且色阻层13设置有多个第二凹槽131，第二凹槽131与第一凹槽141形状 相同，且第二凹槽131与第一凹槽141对接。第二凹槽131在衬底基板11上的垂直投影位于黑 色矩阵12在衬底基板11上的垂直投影内。需要说明的是，图7示例性的以隔离柱15位于第一 凹槽141内的情况为例，基于同一发明构思，图5和图6中的色阻层13也可以设置有多个第二 凹槽131，且使第二凹槽131与第一凹槽141形状相同，且第二凹槽131与第一凹槽141对接。 第二凹槽131在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底基板11上的垂直投影内 (参见图8和图9)。
[0060] 图7-图9所述彩膜基板示例性的设置第二凹槽131的深度小于色阻层13的厚度，在 其他实施方式中，还可以设置沿色阻层13厚度方向，第二凹槽131贯穿色阻层13。如图10-图 12所示。
[0061]此外，图1-图12示例性的设置色阻层13位于黑色矩阵12远离衬底基板11的一侧， 在其他实施方式中，还可以将图1-图6中的色阻层13和黑色矩阵12同层设置。例如参见图 13,色阻层13和黑色矩阵12同层设置。
[0062] 图1-图13所示彩膜基板未设置有公共电极，因此本发明实施例提供的彩膜基板适 用于制备边缘场型显示面板。边缘场型液晶显示面板包括IPS或FFS型液晶显示面板。IPS或 FFS型液晶显示面板与TN型液晶显示面板不同的是，TN型液晶显示面板在彩膜基板一侧设 置有公共电极层，在阵列基板一侧设置有像素电极层。像素电极层和公共电极层之间形成 驱动液晶分子旋转的垂直电场。而IPS或FFS型液晶显示面板中公共电极层和像素电极层均 形成在阵列基板一侧。公共电极层和像素电极层之间形成平行于公共电极层所在平面或像 素电极层所在平面的水平电场。液晶分子在水平电场的驱动下平行于公共电极层所在平面 或像素电极层所在平面进行扭转。
[0063] 图14为本发明实施例提供的又一种彩膜基板的结构示意图。如图14所示，彩膜基 板包括衬底基板11、黑色矩阵12、色阻层13、公共电极18以及配向膜16。其中黑色矩阵12和 色阻层13位于衬底基板11上。示例性的，图14设置色阻层13位于黑色矩阵12远离衬底基板 11的一侧。公共电极18位于黑色矩阵12和色阻层13远离衬底基板11 一侧。公共电极18设置 有多个第一凹槽141，且第一凹槽141在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底基 板11上的垂直投影内。隔离柱15位于公共电极18远离衬底基板11的一侧，且隔离柱15在衬 底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底基板11上的垂直投影内。配向膜16位于公共 电极18以及隔离柱15远离衬底基板11的一侧。图14中隔离柱15位于第一凹槽141内。本发明 实施例通过在彩膜基板的公共电极18中设置多个第一凹槽141，将隔离柱15位于第一凹槽 141内，所以在公共电极18以及隔离柱15远离衬底基板11的一侧涂覆配向膜16时，隔离柱15 周边的配向膜16会被限制在第一凹槽141内。并且由于第一凹槽181在衬底基板11上的垂直 投影位于黑色矩阵12在衬底基板11上的垂直投影内，所以限制在第一凹槽141内的配向膜 16由于受到黑色矩阵12的遮挡，也不会对画面显示造成影响，因此避免了配向膜16在隔离 柱15周边的堆积导致的显示面板漏光的问题。
[0064] 图15为本发明实施例提供又一种彩膜基板的结构示意图，如图15所示，与图14不 同的是，第一凹槽141内设置有衬垫层17。衬垫层17的侧壁与第一凹槽141的侧壁之间具有 缝隙。隔离柱15位于衬垫层17上。图15提供的彩膜基板由于衬垫层17的侧壁与第一凹槽141 的侧壁之间具有缝隙，因此在公共电极18以及隔离柱15远离衬底基板11的一侧涂覆配向膜 16时，隔离柱15周边的配向膜16会被限制在第一凹槽141的衬垫层17的侧壁与第一凹槽141 的侧壁之间的缝隙内，因此也可以避免配向膜16在隔离柱15周边的堆积导致的显示面板漏 光的问题。
[0065] 需要说明的是，衬垫层17可以和公共电极18采用同种材料，也可以采用不同材料， 本发明实施例对此不作限定。本发明实施例中对衬垫层17的厚度不作限定。在沿公共电极 18的厚度方向上，衬垫层17远离衬底基板11的一侧可以与公共电极18远离衬底基板11的一 侧平齐，也可以低于公共电极18远离衬底基板11的一侧。
[0066] 图16为本发明实施例提供的又一种彩膜基板的结构示意图。如图16所示，与图14 和图15不同的是，第一凹槽141在衬底基板11上的垂直投影为封闭环状图形。其中封闭环状 图形可以是封闭圆环、方形环或者其他形状(规则或不规则)封闭环状图形。隔离柱15位于 第一凹槽181围绕的公共电极18上。图16提供的彩膜基板在第一凹槽141围绕的公共电极18 上设置隔离柱15，因此隔离柱15外围设置有第一凹槽141，因此在公共电极18以及隔离柱15 远离衬底基板11的一侧涂覆配向膜16时，隔离柱15周围的配向膜16被限制在第一凹槽141 内。并且由于第一凹槽141在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底基板11上的 垂直投影内，因此可以避免隔离柱15周边的配向膜材料的堆积导致该部分区域的液晶配向 方向发生偏移，引起漏光的问题。
[0067] 需要说明的是，图14-图16示例性的设置，第一凹槽141的深度小于公共电极18的 厚度，而并非对本发明实施例的限定。在其他实施方式中，由于公共电极18的厚度比较薄， 还可以设置沿公共电极18厚度方向，设置第一凹槽181贯穿公共电极18,如图17-图19所示。
[0068] 需要说明的是，图17-图19所示彩膜基板中的色阻层13还可以设置多个第二凹槽。 参见图20-图22,色阻层13位于黑色矩阵12远离衬底基板11的一侧。且色阻层13设置有多个 第二凹槽131，第二凹槽131与第一凹槽141形状相同，且第二凹槽131与第一凹槽141对接。 第二凹槽131在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底基板11上的垂直投影内。
[0069] 需要说明的是，图20-图22示例性的设置第二凹槽131的深度小于色阻层13的厚 度。可选的，还可以设置沿色阻层13厚度方向，第二凹槽131贯穿色阻层13。如图23-图25所 不。
[0070] 可选的，图14-图19所示的彩膜基板，公共电极18与色阻层13之间还设置有第二保 护钝化层。以在图19所示彩膜基板的公共电极18与色阻层13之间设置第二保护钝化层为例 进行详细介绍。参见图26,彩膜基板的公共电极18与色阻层13之间还设置有第二保护钝化 层19。第二保护钝化层19起到平坦化的作用，避免由于色阻层13和黑色矩阵12的设置导致 形成在其上方的公共电极18表面不平坦。
[0071] 若第一凹槽141贯穿公共电极18,那么可选的，公共电极18与色阻层13之间的第二 保护钝化层19还可以设置有多个第三凹槽。参见图27,第二保护钝化层19设置有多个第三 凹槽191，第三凹槽191与第一凹槽141形状相同，且第三凹槽191与第一凹槽141对接。第三 凹槽191在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底基板11上的垂直投影内。
[0072]可选的，沿第二保护钝化层19厚度方向，第三凹槽191还可以贯穿第二保护钝化层 19,如图28所示。
[0073]图29为本发明实施例提供的又一种彩膜基板的结构示意图。如图29所示，彩膜基 板包括衬底基板11、黑色矩阵12、色阻层13、公共电极18以及配向膜16。公共电极18与色阻 层13之间设置有第二保护钝化层19。沿公共电极18厚度方向，第一凹槽141贯穿公共电极 18。第二保护钝化层19设置有多个第三凹槽191，第三凹槽191与第一凹槽141形状相同，且 第三凹槽191与第一凹槽141对接。第三凹槽191在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵 12在衬底基板11上的垂直投影内。色阻层13位于黑色矩阵12远离衬底基板11的一侧。色阻 层13设置有多个第二凹槽131，第二凹槽131与第三凹槽191形状相同，且第二凹槽131与第 三凹槽191对接，第二凹槽131在衬底基板11上的垂直投影位于黑色矩阵12在衬底基板11上 的垂直投影内。可选的，第二凹槽131沿色阻层13厚度方向，第二凹槽131还可以贯穿色阻层 13,如图30所示。
[0074]需要说明的是，此外，图14-图30示例性的设置色阻层13位于黑色矩阵12远离衬底 基板11的一侧，在其他实施方式中，参见图31和图32,色阻层13和黑色矩阵12可以同层设 置。需要说明的是，图31示例性的设置沿公共电极18厚度方向，第一凹槽141贯穿公共电极 18。图32示例性的设置沿公共电极18厚度方向，第一凹槽141贯穿公共电极18,沿第二保护 钝化层19厚度方向，第三凹槽191贯穿第二保护钝化层19。第一凹槽141第三凹槽191在衬底 基板11上的垂直投影为均为封闭环状图形。
[0075]在其他实施方式中，若色阻层13和黑色矩阵12同层设置，图31中，第一凹槽141的 深度还可以小于公共电极18的厚度，图31中公共电极18和色阻层13所在膜层之间还可以设 置第二保护钝化层，以防止公共电极18表面不平整。图32中第三凹槽191的深度还可以小于 第二保护钝化层21的厚度。
[0076]可选的，上述配向膜可以是光配向膜。光配向膜是采用非接触式的光配向方式，使 光配向材料具有配向能力，为液晶层中的液晶分子提供预倾角。光配向方式为可避免基板 表面的污染，利用入射光的角度与照射时间的长短，可以控制液晶分子的参数，如预倾角、 表面定向强度等。
[0077] 由于光配向膜中含有配向功能的分子，而具有配向功能的分子一般是高阻材料。 因此本实施例中还可以设置上述各实施例中彩膜基板上的配向膜包括层叠设置的第一光 配向层和第一导电层，且第一光配向层位于第一导电层远离所述衬底基板的一侧。例如可 以将光配向材料涂布形成光配向材料膜层，然后进行预固化处理，将光配向材料里的溶剂 去除，并使光配向材料膜层分层。在预固化处理过程中，具有配向功能的分子向光配向材料 膜层上方移动，具有导电功能的分子向光配向材料膜层下方移动，形成两层结构。对分层后 的光配向材料膜层采用线偏振紫外光照射，形成具有配向功能的光配向材料膜层，然后将 分层后的光配向材料膜层进行主固化处理，进行定型，形成层叠的第一光配向层和第一导 电层。其中，第一光配向层具有配向功能，第一光配向层与液晶层接触，使液晶层中的液晶 分子具有设定的预倾角。第一导电层不与液晶层接触，应用将聚集在其上的电荷导出，避免 电荷的积累导致残影和闪烁漂移问题。
[0078] 可选的，上述第一光配向层由结构通式为 的聚酰亚胺化合物构
成；第一导电层由结构通式为 的聚酰亚胺 化合物构成。
[0079]本发明实施例还提供一种显示面板。图33为本发明实施例提供的一种显示面板的 结构示意图。如图33所示，所述显示面板包括阵列基板100、彩膜基板200以及液晶层300。其 中彩膜基板200可以是上述任意实施例所述的彩膜基板。所述彩膜基板200与阵列基板100 相对设置，液晶层300设置在彩膜基板200和阵列基板100之间。
[0080] 需要说明的是，本发明实施例所述显示面板可以是TN型液晶显示面板，还可以是 边缘场型液晶显示面板。边缘场型液晶显示面板包括IPS或FFS型液晶显示面板。IPS或FFS 型液晶显示面板与TN型液晶显示面板不同的是，TN型液晶显示面板在彩膜基板一侧设置有 公共电极层，在阵列基板一侧设置有像素电极层。像素电极层和公共电极层之间形成驱动 液晶分子旋转的垂直电场。而IPS或FFS型液晶显示面板中公共电极层和像素电极层均形成 在阵列基板一侧。公共电极层和像素电极层之间形成平行于公共电极层所在平面或像素电 极层所在平面的水平电场。液晶分子在水平电场的驱动下平行于公共电极层所在平面或像 素电极层所在平面进行扭转。若形成边缘场型液晶显示面板，则采用上述实施例中设置有 公共电极的彩膜基板，若形成TN型液晶显示面板则采用上述各实施例中未设置有公共电极 的彩膜基板。
[0081] 本实施例提供的显示面板，由于采用了上述各实施例的彩膜基板，因此具有与所 述彩膜基板相同的有益效果，可以将彩膜基板一侧隔离柱周边的配向膜限制在第一凹槽 内，并且由于第一凹槽在衬底基板上的垂直投影位于黑色矩阵在衬底基板上的垂直投影 内，所以限制在第一凹槽内的配向膜由于受到黑色矩阵的遮挡，不会对画面显示造成影响， 避免了配向膜在隔离柱周边的堆积导致的显示面板漏光的问题。需要说明的是，本发明实 施例提供的显示面板还可以包括其他用于支持其正常工作的电路及器件。本发明还提供一 种显示装置，包括以上所述的显示面板。如图34所示的手机400为本发明提供的显示装置的 一种实施例，此外，本发明提供的显示装置还可以为平板电脑、电子纸、电子相框中的一种。
[0082]注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解， 本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、 重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行 了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还 可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
【主权项】
1. 一种彩膜基板，其特征在于，包括： 衬底基板； 黑色矩阵和色阻层，位于所述衬底基板上； 位于所述黑色矩阵和所述色阻层远离所述衬底基板一侧的第一保护钝化层或公共电 极； 所述第一保护钝化层或所述公共电极设置有多个第一凹槽，所述第一凹槽在所述衬底 基板上的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内； 隔离柱，位于所述第一保护钝化层或所述公共电极远离所述衬底基板的一侧，且所述 隔离柱在所述衬底基板上的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内； 配向膜，位于所述第一保护钝化层以及所述隔离柱远离所述衬底基板的一侧，或者位 于所述公共电极以及所述隔离柱远离所述衬底基板的一侧。2. 根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔离柱位于所述第一凹槽内。3. 根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一凹槽内设置有衬垫层;所述 隔离柱位于所述衬垫层上;所述衬垫层的侧壁与所述第一凹槽的侧壁之间具有缝隙。4. 根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一保护钝化层或所述公共电极 与所述衬垫层由同种材料构成。5. 根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一凹槽在所述衬底基板上的垂 直投影为封闭环状图形;所述隔离柱位于所述第一凹槽围绕的所述第一保护钝化层上或所 述隔离柱位于所第一凹槽围绕的所述公共电极上。6. 根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，沿所述第一保护钝化层厚度方向，所 述第一凹槽贯穿所述第一保护钝化层;或沿所述公共电极厚度方向，所述第一凹槽贯穿所 述公共电极。7. 根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层位于所述黑色矩阵远离所 述衬底基板的一侧;所述色阻层设置有多个第二凹槽;所述第二凹槽与所述第一凹槽形状 相同，且所述第二凹槽与所述第一凹槽对接;所述第二凹槽在所述衬底基板上的垂直投影 位于所述黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内。8. 根据权利要求1-6中任一所述的彩膜基板，其特征在于，所述公共电极与所述色阻层 之间还设置有第二保护钝化层。9. 根据权利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，沿所述公共电极厚度方向，所述第一 凹槽贯穿所述公共电极;所述第二保护钝化层设置有多个第三凹槽，所述第三凹槽与所述 第一凹槽形状相同，且所述第三凹槽与所述第一凹槽对接;所述第三凹槽在所述衬底基板 上的垂直投影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内。10. 根据权利要求9所述的彩膜基板，其特征在于，沿所述第二保护钝化层厚度方向，所 述第三凹槽贯穿所述第二保护钝化层。11. 根据权利要求10所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层位于所述黑色矩阵远离 所述衬底基板的一侧;所述色阻层设置有多个第二凹槽;所述第二凹槽与所述第三凹槽形 状相同，且所述第二凹槽与所述第三凹槽对接;所述第二凹槽在所述衬底基板上的垂直投 影位于所述黑色矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内。12. 根据权利要求7或11所述的彩膜基板，其特征在于，其特征在于，沿所述色阻层厚度 方向，所述第二凹槽贯穿所述色阻层。13. 根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述色阻层与所述黑色矩阵同层设 置。14. 根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述配向膜为光配向膜。15. 根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述配向膜包括层叠设置的第一光 配向层和第一导电层，且所述第一光配向层位于所述第一导电层远离所述衬底基板的一 侧。16. 根据权利要求15所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一光配向层由结构通式为的聚酰亚胺化合物构成； 所述第一导电层由结构通式为的聚酰 亚胺化合物构成。17. -种显示面板，其特征在于，包括： 阵列基板； 权利要求1-16中任一所述的彩膜基板； 液晶层； 其中，所述彩膜基板和所述阵列基板相对设置，所述液晶层设置在所述彩膜基板和所 述阵列基板之间。18. -种显示装置，其特征在于，包括如权利要求17所述的显示面板。
【文档编号】G02F1/1343GK106054464SQ201610688637
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年8月18日
【发明人】李杰良, 袁永, 沟口亲明, 汤棋
【申请人】厦门天马微电子有限公司, 天马微电子股份有限公司