基板及其制作方法、显示装置的制造方法
【专利摘要】本发明提供了一种基板及其制作方法、显示装置，该基板包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的取向层，所述衬底基板包括中间区域以及环绕所述中间区域的边缘区域，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于所述取向层在所述中间区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。本发明提供的基板，在采用该基板进行对盒密封工艺时，通过取向层在边缘区域的部分能够有效减缓液晶向外扩散的速度，保证在封框胶固化后液晶才与其接触，杜绝了封框胶污染液晶的情况，并且可以减少对盒时液晶对封框胶的冲击力度，减少封框胶的断裂，不但提高了液晶显示面板的显示品质，还提高了液晶显示面板的成品率。
【专利说明】
基板及其制作方法、显示装置
技术领域
[0001]本发明涉及显示领域，尤其涉及一种基板及其制作方法、显示装置。
【背景技术】
[0002]液晶显示面板是一种利用半导体制程在玻璃基板上制作出画素阵列、驱动积体电路以及其他电子元件的显示装置。液晶显示面板不仅具有小画素尺寸、高亮度及高解析度等技术优势，还具有制程简单、成本低廉以及体积小等优点，因此液晶显示面板已广泛应用于各个领域中。
[0003]液晶显示面板在制作过程中需要首先制作阵列基板(TFT基板)，然后在阵列基板上滴注液晶，之后将彩膜基板(CF基板)与阵列基板进行对盒密封，然而，在这个过程中，两基板间的液晶容易与用于密封的封框胶相接触，从而会对液晶造成污染，进而导致穿刺发生，影响液晶显示面板边缘的显示品质，另一方面，在对盒时液晶会冲击封框胶，容易导致封框胶产生裂缝，进而导致液晶显示面板报废。
【发明内容】
[0004](一)要解决的技术问题
[0005]本发明要解决的技术问题是:如何解决现有的液晶显示面板对盒密封工艺中，液晶容易被封框胶污染以及液晶对封框胶冲击的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为解决上述技术问题，本发明的技术方案提供了一种基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的取向层，所述衬底基板包括中间区域以及环绕所述中间区域的边缘区域，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于所述取向层在所述中间区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。
[0008]优选地，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面呈斜坡状，且所述斜坡状使所述取向层在所述边缘区域上远离所述中间区域位置的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近所述中间区域位置的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。
[0009]优选地，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面与所述衬底基板间的夹角为5度?20度。
[0010]优选地，在所述衬底基板和所述取向层之间还依次设置有第一透明电极、绝缘层以及第二透明电极，所述第二透明电极包括若干个平行设置的条状电极，在所述边缘区域的每一个所述条状电极上设置有缓冲条，且对于任意相邻的两个所述条状电极，远离所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。
[0011]优选地，在所述边缘区域，所述缓冲条与所述条状电极在所述衬底基板上的投影重合。
[0012]优选地，所述衬底基板上设置有呈矩阵排列的多个像素单元，所述边缘区域对应所述多个像素单元中最外侧一圈像素单元所在的位置。
[0013]为解决上述技术问题，本发明还提供了一种显示装置，包括上述的基板。
[0014]为解决上述技术问题，本发明还提供了一种基板的制作方法，包括:在衬底基板上形成取向层，所述衬底基板包括中间区域以及环绕所述中间区域的边缘区域，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于所述取向层在所述中间区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。
[0015]优选地，在所述衬底基板上形成所述取向层之前还包括:
[0016]在所述衬底基板上依次形成第一透明电极、绝缘层以及第二透明电极，所述第二透明电极包括若干个平行设置的条状电极；
[0017]在所述衬底基板上形成缓冲层，采用半色调掩膜板对所述缓冲层进行图案化处理，从而在所述边缘区域的每一个所述条状电极上形成缓冲条，且对于任意相邻的两个所述条状电极，远离所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。
[0018]优选地，所述衬底基板上设置有呈矩阵排列的多个像素单元，所述边缘区域对应所述多个像素单元中最外侧一圈像素单元所在的位置。
[0019](三)有益效果
[0020]本发明提供的基板，其上取向层在边缘区域的背离衬底基板的表面高度高于取向层在中间区域的背离所述衬底基板的表面高度，在采用该基板进行对盒密封工艺时，通过取向层在边缘区域的部分能够有效减缓液晶向外扩散的速度，保证在封框胶固化后液晶才与其接触，杜绝了封框胶污染液晶的情况，并且可以减少对盒时液晶对封框胶的冲击力度，减少封框胶的断裂，不但提高了液晶显示面板的显示品质，还提高了液晶显示面板的成品率。
【附图说明】
[0021 ]图1是本发明实施方式提供的一种基板的示意图；
[0022]图2是图1中取向层的背离衬底基板的表面在AA’方向的截面示意图；
[0023]图3是图1中虚线框2内的放大示意图；
[0024]图4是图3中BB’方向的截面示意图；
[0025]图5是图1中的基板在对盒时的不意图。
【具体实施方式】
[0026]下面结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
[0027]本发明实施方式提供了一种基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的取向层，所述衬底基板包括中间区域以及环绕所述中间区域的边缘区域，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于所述取向层在所述中间区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。
[0028]本发明提供的基板，其上取向层在边缘区域的背离衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于取向层在中间区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于，在采用该基板进行对盒密封工艺时，通过取向层在边缘区域的部分能够有效减缓液晶向外扩散的速度，保证在封框胶固化后液晶才与其接触，杜绝了封框胶污染液晶的情况，并且可以减少对盒时液晶对封框胶的冲击力度，减少封框胶的断裂，不但提高了液晶显示面板的显不品质，还提尚了液晶显不面板的成品率。
[0029]参见图1，图1是本发明实施方式提供的一种基板的示意图，该基板包括衬底基板100以及设置在衬底基板100上的取向层(PI层)110，该衬底基板100包括中间区域(虚线框I内的区域)以及环绕中间区域的边缘区域(虚线框I外的区域)，其中，取向层110在边缘区域的背离衬底基板100的表面高度高于取向层110在中间区域的背离衬底基板100的表面高度；
[0030]参见图2，图2是取向层110的背离衬底基板100的表面在AA’方向上的截面图，取向层110在边缘区域112的背离衬底基板的表面高度高于取向层110在中间区域111的背离衬底基板的表面高度，即取向层110的背离衬底基板的表面呈凹状；
[0031]优选地，如图2所示，取向层110在边缘区域112的背离衬底基板的表面呈斜坡状，且该斜坡状使取向层在边缘区域112上远离中间区域111位置的背离衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近中间区域111位置的背离衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。例如，取向层在边缘区域112的背离衬底基板的表面与衬底基板间的夹角α可以为5度?20度，例如可以为8度、15度等，其具体角度值可以根据液晶显示面板所使用的隔垫物的高度、取向层的厚度、液晶种类、以及液晶的粘稠度确定，取向层110在中间区域111的背离衬底基板的表面可以为平面状；
[0032]通过上述结构的取向层，在进行对盒密封工艺时，相比现有技术中整个取向层的背离衬底基板的表面均为平面的结构，本实施方式能够有效减缓液晶向外扩散的速度，保证在封框胶固化后液晶才与其接触，杜绝了封框胶污染液晶的情况，并且可以减少对盒时液晶对封框胶的冲击力度，减少封框胶的断裂，不但提高了液晶显示面板的显示品质，还提尚了液晶显不面板的成品率；
[0033]例如，上述基板可以为阵列基板(TFT基板)，衬底基板100上还设置有栅线、数据线、薄膜晶体管TFT、像素电极和公共电极，为形成上述结构的取向层，还可以在衬底基板的边缘区域的位置上增设缓冲条，通过缓冲条使取向层110在边缘区域112的背离衬底基板的表面呈斜坡状；
[0034]参见图3，图3是图1中虚线框2内(边缘区域)的放大示意图，如图3所示，衬底基板上形成有多条栅线120和多条数据线130，栅线和数据线交错设置，从而将该基板划分为多个像素单元，每一个像素单元中设置有薄膜晶体管10;
[0035]图4是图3中BB’方向的截面示意图，如图4所示，在衬底基板100和取向层110之间还依次设置有第一透明电极140、绝缘层150以及第二透明电极160，其中，第二透明电极160包括若干个平行设置的条状电极161，在所述边缘区域的每一个条状电极161上设置有缓冲条171，且对于任意相邻的两个条状电极161，远离所述中间区域的条状电极上的缓冲条171背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近所述中间区域的条状电极上的缓冲条171背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度；
[0036]其中，上述的第一透明电极140可以为像素电极，也可以为公共电极，当第一透明电极140为像素电极时，第二透明电极160为公共电极，当第一透明电极140为公共电极时，第二透明电极160为像素电极，由于第二透明电极160上的相邻两个条状电极的间距较小，通过在第二透明电极上形成上述阶梯状的缓冲条结构，当再在其上制作取向层时，可以使取向层在边缘区域的背离衬底基板的表面呈斜坡状的结构；
[0037]优选地，在衬底基板的边缘区域，缓冲条171与条状电极161在衬底基板100上的投影重合。
[0038]其中，第一透明电极140和第二透明电极160的材料可以为ΙΤ0，绝缘层150可以为树脂材料，缓冲条171的材料可以为树脂材料，也可以为氮化硅(SiNx);
[0039]如图5所示，在上述阵列基板进行对盒密封工艺时，由于取向层在边缘区域存在坡度，使得液晶180在扩散时有一个爬坡的过程，从而有效减缓液晶的扩散(从中间至边缘方向)速度，降低液晶在封框胶固化前与其发生接触的概率，一方面降低了封框胶对液晶的污染，减少不良的发生，另一方面，延缓了对盒后液晶对周边封框胶的突然冲击，使得封框胶断裂的几率减小，整体提升了产品的良率。
[0040]优选地，所述衬底基板上设置有呈矩阵排列的多个像素单元，衬底基板的边缘区域对应所述多个像素单元中最外侧一圈像素单元所在的位置，例如，衬底基板上设置有N(行)XM(列)像素单元，那么衬底基板的边缘区域为第一行像素单元、第N行像素单元、第一列像素单元以及第M列像素单元所在的位置。
[0041]此外，本发明实施方式还提供了一种显示装置，包括上述的基板。其中，本发明实施方式提供的显示装置可以是笔记本电脑显示屏、显示器、电视、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显不功能的广品或部件。
[0042]此外，本发明实施方式还提供了一种基板的制作方法，包括:在衬底基板上形成取向层，所述衬底基板包括中间区域以及环绕所述中间区域的边缘区域，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于所述取向层在所述中间区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。
[0043]优选地，在所述衬底基板上形成所述取向层之前还包括:
[0044]在所述衬底基板上依次形成第一透明电极、绝缘层以及第二透明电极，所述第二透明电极包括若干个平行设置的条状电极；
[0045]在所述衬底基板上形成缓冲层，采用半色调掩膜板对所述缓冲层进行图案化处理，从而在所述边缘区域的每一个所述条状电极上形成缓冲条，且对于任意相邻的两个所述条状电极，远离所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。
[0046]其中，半色调掩膜板上可以包括不同透光率的区域，例如可以包括完全透光区、半色调光区和非透光区(三种区域的透光率依次减小)，利用半色调掩膜板上不同透光率的区域对缓冲层进行图案化处理，可以形成上述不同厚度的缓冲条。
[0047]优选地，所述衬底基板上设置有呈矩阵排列的多个像素单元，所述边缘区域对应所述多个像素单元中最外侧一圈像素单元所在的位置。
[0048]以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
【主权项】
1.一种基板，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的取向层，所述衬底基板包括中间区域以及环绕所述中间区域的边缘区域，其特征在于，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于所述取向层在所述中间区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面呈斜坡状，且所述斜坡状使所述取向层在所述边缘区域上远离所述中间区域位置的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近所述中间区域位置的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面与所述衬底基板间的夹角为5度?20度。4.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，在所述衬底基板和所述取向层之间还依次设置有第一透明电极、绝缘层以及第二透明电极，所述第二透明电极包括若干个平行设置的条状电极，在所述边缘区域的每一个所述条状电极上设置有缓冲条，且对于任意相邻的两个所述条状电极，远离所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。5.根据权利要求4所述的基板，其特征在于，在所述边缘区域，所述缓冲条与所述条状电极在所述衬底基板上的投影重合。6.根据权利要求1-5任一所述的基板，其特征在于，所述衬底基板上设置有呈矩阵排列的多个像素单元，所述边缘区域对应所述多个像素单元中最外侧一圈像素单元所在的位置。7.—种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6任一所述的基板。8.一种基板的制作方法，其特征在于，包括:在衬底基板上形成取向层，所述衬底基板包括中间区域以及环绕所述中间区域的边缘区域，所述取向层在所述边缘区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于所述取向层在所述中间区域的背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。9.根据权利要求8所述的基板的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成所述取向层之前还包括: 在所述衬底基板上依次形成第一透明电极、绝缘层以及第二透明电极，所述第二透明电极包括若干个平行设置的条状电极； 在所述衬底基板上形成缓冲层，采用半色调掩膜板对所述缓冲层进行图案化处理，在所述边缘区域的每一个所述条状电极上形成缓冲条，且对于任意相邻的两个所述条状电极，远离所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度大于靠近所述中间区域的条状电极上的缓冲条背离所述衬底基板的表面到所述衬底基板的高度。10.根据权利要求8-9任一所述的基板的制作方法，其特征在于，所述衬底基板上设置有呈矩阵排列的多个像素单元，所述边缘区域对应所述多个像素单元中最外侧一圈像素单元所在的位置。
【文档编号】G02F1/1339GK106054467SQ201610533678
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年7月7日
【发明人】高会朝
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司