一种光刻胶供应装置的制造方法

文档序号:10299078阅读:354来源:国知局
一种光刻胶供应装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种光刻胶供应装置,一种具有提高光刻胶利用率的光刻胶供应装置。
【背景技术】
[0002]提高产品品质、降低生产成本是每个半导体制造企业维持其产品市场竞争力的重要手段之一。在半导体行业光刻胶是一种大量使用并且价格昂贵的原材料,目前的光刻胶供应系统都是利用液栗在光刻胶液面上产生压力,将光刻胶通过引流管吸入光刻胶吸取管道内,在桶底或桶壁上必然会有残留。为了解决上述问题可以通过改变光刻胶桶的结构将平底改为圆形或“V”型,但这些只是解决的桶底的光刻胶残留,桶壁上残留的光刻胶一直是被忽视的部分。
【实用新型内容】
[0003]针对上述技术的不足,本实用新型提供了一种光刻胶供应装置,通过在光刻胶腔体内增加沿桶壁滑动的盖体,将桶壁上的光刻胶刮入桶内。
[0004]为实现上述目的,本实用新型解决问题的技术方案如下:
[0005]一种光刻胶供应装置,包括由桶口、桶壁、桶底构成的盛装腔体,引流管,光刻胶吸取装置,其特征在于,所述盛装腔体内设置有盖体,所述盖体的上方连接有用于带动盖体沿着腔体内壁滑动的支撑杆,所述支撑杆和引流管均通过光刻胶管道与所述光刻胶吸取装置连接。
[0006]进一步地,所述盖体的中心开设有圆孔,盖体通过此孔沿着引流管滑动。
[0007]再进一步地,所述盖体的形状与腔体的横向截面形状、大小一致,位于桶口下方。
[0008]更进一步地,所述支撑杆为伸缩式结构。
[0009]与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:
[0010](I)本实用新型在光刻胶盛装腔体内设置沿腔体内壁滑动的盖体,当光刻胶吸取装置的启动时在光刻胶液面上产生压强,液面和盖板一起向下移动,盖板与内壁接触,将内壁上的光刻胶“刮入”桶内。
[0011](2)本实用新型的盖体设置,在光刻胶未启封前可以起到二次密封的作用,便于光刻胶的运输。
[0012](3)本实用新型在盖体上设置有可伸缩的支撑杆,保证了盖体向下移动过程中的稳定性。
[0013](4)本实用新型在盖板上开设便于贯穿引流管的孔,保证了盖体在移动过程不会对引流管的工作产冲突。
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型的光刻胶供应装置的整体示意图。
[0015]其中,附图中的零部件名称为:
[0016]1-桶口,2-桶壁,3-桶底,4-引流管,5-光刻胶吸取装置,6_盖板,7_支撑杆,8-圆孔,9-光刻胶管道。
【具体实施方式】
[0017]如图1所示,一种光刻胶供应装置,包括由桶口、桶壁、桶底构成的盛装腔体,引流管,光刻胶吸取装置,所述盛装腔体内设置有盖体,所述盖体的上方连接有用于带动盖体沿着腔体内壁滑动的支撑杆,所述支撑杆和引流管均通过光刻胶管道与所述光刻胶吸取装置连接。本实施例中在盖体的两侧各设置一根支撑杆,当光刻胶吸取装置启动后,在光刻胶盛装腔体内产生压强,该压强使光刻胶通过引流管被吸进光刻胶管道。随着光刻胶流入光刻胶管道,光刻胶盛装腔体内的液位下降,同时盖板在压力作用下与液位一起下降,盖板大小与腔体一致,在下降过程中必将腔体内壁上的光刻胶一起刮下汇入桶内,如此直至液位和盖板下降至桶底,整个桶壁上的光刻胶均被刮入桶内被利用。
[0018]为了便于盖体的移动,在盖体的中心开设有圆孔,引流管穿过该孔,盖体就能沿着引流管滑动。
[0019]为了更好的与桶壁接触,盖体的形状与腔体的横向截面形状、大小一致,位于桶口下方,如果腔体是圆形,盖板就为圆形,且面积与腔体圆形界面一致。
[0020]为了便于盖体的稳定滑动,盖体上方的支撑杆为伸缩式结构。
【主权项】
1.一种光刻胶供应装置,包括由桶口、桶壁、桶底构成的盛装腔体,引流管,光刻胶吸取装置,其特征在于,所述盛装腔体内设置有盖体,所述盖体的上方连接有用于带动盖体沿着腔体内壁滑动的支撑杆,所述支撑杆和引流管均通过光刻胶管道与所述光刻胶吸取装置连接。2.根据权利要求1所述的一种光刻胶供应装置,其特征在于,所述盖体的中心开设有圆孔,盖体通过此孔沿着引流管滑动。3.根据权利要求2所述的一种光刻胶供应装置,其特征在于,所述盖体的形状与腔体的横向截面形状、大小一致,位于桶口下方。4.根据权利要求3所述的一种光刻胶供应装置,其特征在于,所述支撑杆为伸缩式结构。
【专利摘要】本实用新型提供了一种光刻胶供应装置,包括由桶口、桶壁、桶底构成的盛装腔体,引流管,光刻胶吸取装置,其特征在于,所述盛装腔体内设置有盖体,所述盖体的上方连接有用于带动盖体沿着腔体内壁滑动的支撑杆,所述伸缩杆和引流管同时与所述光刻胶吸取装置连接。本实用新型通过对腔体内壁上的光刻胶进行刮取,大大提高了光刻胶的利用率。
【IPC分类】G03F7/16
【公开号】CN205210509
【申请号】CN201520865846
【发明人】刘幸
【申请人】刘幸
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年11月3日
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