玻璃基板固定承座的制作方法

文档序号:2937389阅读:414来源:国知局
专利名称:玻璃基板固定承座的制作方法
技术领域
本发明属于一种玻璃基板固定承座,尤指一种可使场发射显示器的阳极板的萤光粉体图案制作,以现有的阴极射线管显示屏萤光粉体图案涂覆的制程进行,并可同时减少涂覆原料的流失,有效控制下涂覆原料的使用量,以及降低涂覆原料的残留与不良涂覆等的玻璃基板固定承座。


图1所示,揭示了一种现有的场发射显示器的阳极板1,其至少包含一平面玻璃基板11、一黑纹层12(或导电层),一萤光粉体层13及一反射铝膜层14;又如图2所示,现有的阴极射线管的显示屏结构2,至少具有一显示屏面盘21,该显示屏面盘21的内侧面盘涂覆一黑纹层(图略),其上覆一萤光粉体层(图略),于该萤光粉体层(图略)再覆一反射铝膜层(图略),因此,阴极射线管的显示屏局部层体结构与场发射显示的阳极板(如图1所示)近乎无异,惟差别在于阴极射线管与场发射显示器各该阴极结构上的不同。
请一并参阅图1及图2所示,上述阴极射线管与场发射显示器的结构差异在于该场发射显示器所谓的平面玻璃基板11是为一面平薄片的玻璃平板,而该阴极射线管所谓的显示屏面盘21是由一管裙部22围绕于该显示屏面盘21的面盘四周所构成的矩形盘状体,故两者间在结构上的差异,会使得于萤光粉涂覆的技术上各有区别。
如图3所示,现有的阴极射线管的显示屏的涂覆制程是以一种旋转涂覆的厚膜涂覆技术,其主要涂覆机构3包含一涂覆机构载体31、一连接承座32、一显示屏固定承座33及一旋转驱动装置34;其中的涂覆机构载体31是用以提供该涂覆机构3于一轨道(图略)中运行,另该连接承座32则可使上述显示屏固定承座33依制程需要而有一角度变化,而该显示屏固定承座33用以固着显示屏以进行涂覆作业,且该显示屏固定承座33是借由上述旋转驱动装置34的驱动而以的轴轴心进行旋转动作;该涂覆机构3的制程作业步骤如下步骤一、如图3A所示,将显示屏固定承座33仰一角度,使显示屏内面盘微倾朝上,而后下涂覆原料于显示屏内面盘;步骤二、亦如图3A所示,维持显示屏固定承座33的角度,低速延转使涂覆料完全覆料至显示屏内面盘;步骤三、如图3B所示,将显示屏固定承座33改变一角度使显示屏略朝下,再以高速回转使涂覆料成膜并厚度均匀,另借一回收机构(图略)将溢出的涂覆料回收;步骤四、如图3C所示,将显示屏内面盘的成膜涂覆料热烘干;步骤五、依所需的图案进行曝光;步骤六、显像使图案成型;步骤七、将显像后的显示屏内面盘干燥。
借助以上至少七道制程步骤程序循环重复制作将依序产生黑纹图案、绿色萤光粉团图案、蓝色萤光粉回图案、红色萤光粉团图案等,最后在于其上覆上一有机玻璃膜及一铝膜层等。
而就场发射显示器的阳极板的制作方式而言,以目前已知的制作模式至少有网板印刷式、高压静电吸附模式及薄膜蚀刻制造模式,由于是适用于平板玻璃基板制作,其制程相较于阴极射线管显示屏涂覆的制造方法较为简化,然而,各该制作模式仍各有其优劣,例如其中的网板印刷式及高压静电吸附模式,不利用曝光显影方式即可制程图案,虽可简化制程、降低印制原料的用量及可制作较大尺寸的面板等优点,但其于面板所印制成的萤光粉图案上所形成的点面积或条纹线宽亦较大,对于成品的分辨率要求较差较难满足未来高分辨率的要求,另对于小尺寸面板的制作限制更多;又,所谓的薄膜蚀刻制程模式是采用半导体的制程模式,虽制作的图案较细微,最终成品可有较佳的分辨率,然其制作面积较小仅能局限于小尺寸面板的制作,且制作设备成本较高,因此,对于中大型尺寸的阳极板萤光粉图案制作若有较高分辨率的要求者显然仍需一较佳对策。
而参考现有的阴极射线管显示屏的涂覆结构,似可满足前述中大型尺寸并有高分辨率的阳极板要求,因此若能沿用阴极射线管显示屏的涂覆设备套用于场发射显示器阳极板的涂覆制作,借此成熟的技术,必可降低制作开发成本;惟,如前所述,场发射显示器平面阳极板与阴极射线管由于在玻璃结构上仍有相当的差异,因此,若引用设备套用场发射显示器平面阳极板的制作,仍有限制。
如图4所示,现有的阴极管显示屏的涂覆设备,是利用一夹具41夹覆显示屏的管裙部21固定,故所会遭遇的问题有如下几点一、平面阳极板为一平面玻璃板,不如阴极射线管的显示屏尚有一外围管裙部21的结构,故平面阳极板将因无管裙部21而无法夹覆。
二、阴极射线管的显示屏因有管裙部21,于下涂覆料后,进行低速延转覆料,借管裙部2、的阻挡转折可将涂覆充分覆盖于内面盘表面,以有效控制涂覆料量,而平面阳极板亦因无该管裙部21,故在低速延转覆料过程将造成涂覆料流失、增加涂覆料量,甚至难以全面涂覆于整个平面阳极板的表面。
三、溢出的涂覆料可能沾染于设备的外围区域,使得后段制造过程的烘干而残留,更进而在以后的制造过程中将因此残留物掉入涂覆面上而产生不良。
有鉴于场发射显示器的平面阳极板与阴极射线管的显示屏在萤光粉体涂层有近似的结构,惟,各该平面阳极板与显示屏的结构又有显著的差异,以便使场发射显示器的平面阳极板无法直接固着于阴极射线管的显示屏涂覆机构旋转承座上以进行萤光粉体的涂覆制造方法;本案发明人改良了一种玻璃基板固定承座,以使平面玻璃基板可固着于阴极射线管的显示屏萤光粉涂覆机构上,得以现有的显示屏萤光粉体涂覆制造过程,实施在该平面玻璃基板上以期可制作中大型尺寸及高解析场发射显示器的平面阳极板,井同时满足产业的需求。
本发明的另一目的,在于可提供一种玻璃基板固定承座,其是在进行萤光粉体图案制作中可有效运用涂覆料的使用量,以降低涂覆料的成本。
本发明的又一目的,在于可提供一种玻璃基板固定承座,其是可减少于旋转涂覆制程中因溢出的涂覆料附着于玻璃基板固定承座的外围区域,减免溢出的涂介料脱落或剥落于涂覆面而造成不良涂覆的结果。
为了达成上述的目的,本发明是提供一种玻璃基板固定承座,其是用以固定一玻璃基板,以使该玻璃基板在一涂覆机构上进行萤光粉图案涂覆作业的旋转涂覆过程,进而制成场发射显示器的阳极板;该固定承座包括一旋转载体、一外罩本体及一低压吸引单元;其中的外罩本体下端呈开放状以形成一矩形开口,可供上述玻璃基板容置,而该外罩本体上端则与上述旋转载体相连结,该旋转载体内部设有低压气体管路,并与上述低压吸引单元相连结,以使该低压吸引单元容置在该外罩本体内部,而能吸附上述玻璃基板以进行萤光粉图案涂覆作业的旋转涂覆制造过程。
上述的玻璃基板固定承座,其特点在于所述的旋转载体内部更设有给水管路,且于该外罩本体内壁由上而下顺势设置有多个供水管,并使该供水管与该给水管路相连通。
上述的玻璃基板固定承座,其特点在于更设有多个出水口,且该出水口是与该供水管相连通。
上述的玻璃基板固定承座,其特点在于所述的外罩本体的上端至下端是渐渐扩大。
上述的玻璃基板固定承座,其特点在于所述的外罩本体内壁四周的水平向形成有一共面的空间区域,该空间区域的长、宽与上述玻璃基板的长、宽相等,且该空间区域的共平面与上述该外罩本体下端的矩形开口的共平面相平行。
上述的玻璃基板固定承座,其特点在于更包括多个定位挡块,该定位挡块分布设置于该外罩本体内壁与空间区域相邻近之处,借以辅助该低压吸引单元吸附上述玻璃基板进行固着及定位。
上述的玻璃基板固定承座,其特点在于所述定位挡块位于该空间区域上方。
上述的玻璃基板固定承座,其特点在于所述的低压吸引单元为一低压吸盘。
为进一步说明本发明的特征及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图。然而,所列附图和实施例仅为提供参考与说明,并非用来对本发明加以限制。
该外罩本体52是为一半开放式外罩,其下端呈开放状以形成一矩形开口(如图5A所示),上端则如上所述与该旋转载体51相连结;该外罩本体52下端的矩形开口是大于玻璃基板的外围,此开口的长宽比例与玻璃基板的长宽比例实质相等,并由该外罩本体52的上端至下端渐渐扩大,以供玻璃基板容置于该外罩本体52内部且为上述的低压吸引单元53所吸附。
该外罩本体52内壁四周的水平向形成有一共面的空间区域56,该空间区域56的长、宽是与玻璃基板的长、宽实质相等,且该空间区域56的共平面与上述该外罩本体52下端的矩形开口的共平面相平行,并与该旋转载体51的轴心的轴(如图5B所示)垂直,以供玻璃基板安置于其上,且玻璃基板四周与该空间区域56四周相密合。
上述该等定位挡块54是分布设置于该外罩本体52内壁与空间区域56相邻近的处,且该等定位挡块54位于该空间区域56上方,借以辅助该低压吸引单元53吸引玻璃基板固着及定位的所需;该低压吸引单元53可为一低压吸盘,其是利用一减压装置(图略)使其内压力低于大气压,进而吸引玻璃基板固着同时于旋转涂覆制程进行时不致使玻璃基板脱落。
上述该等供水管55是由上而下顺势设置于该外罩本体52内壁处上,且与一设置于该旋转载体51内部的给水管路(图略)相连通,以提供机构外部液体流动的通路;另,该等供水管55与上述该等出水口57相连通,可在旋转涂覆制造过程中提供出水,以便使残留于该外罩本体52内壁的涂料,随着该出水口57一并在制造过程中被稀释甩开或被回收,以降低该外罩本体52内壁的涂料残留;同时,在旋转涂覆制造过程中,该外罩本体52、低压吸引单元53以及该等供水管55是可共同沿该旋转载体51的轴心的轴(如图5B所示)旋转。
借助上述的构造组成,即可得到本发明的玻璃基板固定承座。
如图6A所示,本发明是为一种玻璃基板固定承座,该固定承座5是可用以固定一平面玻璃基板,以使玻璃基板于涂覆机构6进行萤光粉图案涂覆作业的旋转涂覆制程;其中,该固定承座5是借助其低压吸引单元53将玻璃基板固接于外罩本体52内的空间区域56上,并以其内部的定位挡块54使玻璃基板定位;如图6B所示,随后借一连接承座61改变该固定承座5的角度,以使该外罩本体52下端的矩形开口朝向一清洗槽62,该清洗槽62内覆清洗溶液喷口,以使清洗液喷向位于该外罩本体52内的玻璃基板的涂覆面,同时借助该旋转载体51的转动,即可使该外罩本体52及玻璃基板产生转动,以清洁玻璃基板的涂覆面;如图6C所示,借助一加热板63所形成的加热区对玻璃基板进行热辐射干燥,以去除水份而使玻璃基板保持干燥;如图6D所示,令该连接承座61作转动,以使该外罩本体52下端的矩形开口朝上,但该旋转载体51的轴心的轴不完全与水平面相垂直,同时以缓速进行旋转,并由下料枪64进行下涂覆料动作,再借助缓速延转动作使涂覆料充分覆盖于玻璃基板的涂覆面上;由于玻璃基板的涂覆面上有该外罩本体52的遮挡,故可于旋转过程中令涂覆料的流动方向仅限于玻璃基板的涂覆面上,而不致使涂覆料流失,进而有效控制涂覆料的使用量;如图6E所示,再令该连接承座61作转动使该固定承座5略微朝下,且该旋转载体51进行高速旋转以使涂覆面上的涂覆料均匀成膜,另于该固定承座5外设一回收装置65,以将因高速旋转而溢出的涂覆料回收,同时,借助该外罩本体52内的出水口57,于此时设定出水,并将残留粘附在该外罩本体52内壁的涂料移除入回收装置65;故该等出水口57的设计,可避免涂料因日久残留累积于该外罩本体52内壁,而影响玻璃基板的吸附固着,甚至累积的残留物剥落掉落至涂覆面上影响成品的缺陷产生;如图6F所示,再次令该固定承座5进入干燥区以加热板66进行热辐射干燥;随后即可进行曝光显影等制造过程,以制作完成一场发射显示器的阳极板。
因此,借助本发明的玻璃基板固定承座,至少可具有以下几点优点一、本发明可使场发射显示器阳极板的萤光粉图案制造过程,利用现有的阴极射线管显示屏的萤光屏制程的改良进行,以制作高解析及中大型等面板的需求,并使原萤光粉图案制造方法更具有产业利用价值。
二、本发明可有效控制涂覆料量,避免涂覆原料流失,以降低原料成本。
三、本发明可排除残留于外罩本体内壁的涂覆料,以减少涂覆面不良现象的发生。
综上所述,本发明确可达到预期的使用目的,解决现有技术中存在的问题,但以上所述仅为本发明的较佳可行实施例,非因此用于限制本发明的专利保护范围,故举凡运用本发明说明书及图式内容所为的等效结构变化,均同理皆包含于本发明的范围内。
权利要求
1.一种玻璃基板固定承座,其是用以固定一玻璃基板,以使该玻璃基板在一涂覆机构上进行萤光粉图案涂覆作业的旋转涂覆过程,进而制成场发射显示器的阳极板;其特征在于,该固定承座包括一旋转载体,内部设有低压气体管路;一外罩本体,其上端与该旋转载体相连结,下端则呈开放状以形成一矩形开口,以供上述的玻璃基板容置;及一低压吸引单元,用以吸附上述的玻璃基板,并与该旋转载体的低压气体管路相连结而容置于该外罩本体内部。
2.如权利要求1所述的玻璃基板固定承座,其特征在于所述的旋转载体内部更设有给水管路,且于该外罩本体内壁由上而下顺势设置有多个供水管,并使该供水管与该给水管路相连通。
3.如权利要求2所述的玻璃基板固定承座,其特征在于更设有多个出水口,且该出水口是与该供水管相连通。
4.如权利要求1所述的玻璃基板固定承座,其特征在于所述的外罩本体的上端至下端是渐渐扩大。
5.如权利要求4所述的玻璃基板固定承座,其特征在于所述的外罩本体内壁四周的水平向形成有一共面的空间区域,该空间区域的长、宽与上述玻璃基板的长、宽相等,且该空间区域的共平面与上述该外罩本体下端的矩形开口的共平面相平行。
6.如权利要求5所述的玻璃基板固定承座,其特征在于更包括多个定位挡块,该定位挡块分布设置于该外罩本体内壁与空间区域相邻近之处,借以辅助该低压吸引单元吸附上述玻璃基板进行固着及定位。
7.如权利要求6所述的玻璃基板固定承座,其特征在于所述定位挡块位于该空间区域上方。
8.如权利要求1所述的玻璃基板固定承座,其特征在于所述的低压吸引单元为一低压吸盘。
全文摘要
本发明公开了一种玻璃基板固定承座,其用以固定一玻璃基板,以使该玻璃基板在一涂覆机构上进行荧光粉图案涂覆作业完成旋转涂覆制造过程,进而制成场发射显示器的阳极板;该固定承座包括一旋转载体、一外罩本体及一低压吸引单元;其中的外罩本体下端呈开放状以形成一矩形开口,可供上述玻璃基板容置,而该外罩本体上端则与上述旋转载体相连结,该旋转载体内部设有低压气体管路,并与上述低压吸引单元相连结,以,使该低压吸引单元客置于该外罩本体内部,而能吸附上述玻璃基板以进行荧光粉图案涂覆作业的旋转涂覆制造过程。
文档编号H01J9/00GK1463018SQ02121958
公开日2003年12月24日 申请日期2002年5月28日 优先权日2002年5月28日
发明者郑奎文 申请人:东元资讯股份有限公司
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