专利名称：：等离子体显示器面板的介电层及障肋去除剂组合物的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种等离子体显示器面板中能够去除烧结(firing)前不良介电层及障肋的去除剂组合物。特别涉及一种既不影响介电层下部的导电金属层，又可以有效去除介电层及障肋的等离子体显示器面板的介电层及障肋去除剂组合物。
背景技术：
：通常，等离子体显示器面板(以下简称PDP)是通过在气体放电时由等离子体射出的光线来显示文字或图像的显示器元件。此时，气体在高能量环境下分成离子和电子，其中带正电的离子和带负电的电子在统计上具有相同的数量，从而构成中性粒子，而具有这种中性粒子的离子化气体状态被称之为等离子体。PDP大致可分为直流型(DC型)和交流型(AC型)。其中，直流型所采用的是为了形成等离子体状态，将外部电压施加到气体上的电极直接裸露在等离子体中，从而导电电流直接通过电极流动的结构；而交流型采用的是电极被介电材料所覆盖的结构。这两种类型的PDP虽然在外观上很相似，但两者工作电压的施加方式却有不同。这种PDP由上板、下板及将两者相连的面板构成。其中上板是经过把ITO(IndiumTinOxide，铟锡氧化物)涂敷在上板上以形成透明ITO电极后，在其上面形成精细电极，并在其上面形成透明介电层和保护膜而制成的。下板是在形成寻址电极、介电层、障肋及荧光层等时，在400600匸下通过高温烧结形成电极，并为了隔离放电单元之间，用各种方式堆积形成障肋而制成的。然后把上板和下板组装后，通过封合、排气、注入气体等过程完成PDP的制造。此时，在形成PDP的介电层及障肋过程中，分别涂敷介电膏或者障肋材料膏后在低温下干燥。其中，为了形成障肋，通常借助喷砂处理(sandblasting)形成像垄沟般的长沟。然后，如果经过干燥的介电或干燥后所形成的障肋无任何异常，就进行烧结工序，使之成为玻璃态。然而在进行如上烧结工序前，如果介电层或者所形成障肋的沟形物倒塌，或者在平滑性上出现问题，就即使进行烧结处理也会产生不良产品，从而得废弃已具有电极的昂贵的玻璃基板。这些报废产品对PDP制造成本的负担相当大。因此，如果在上述步骤中能够有效地去除不良介电层或障肋，就可以把面板重新回收使用在介电层及障肋形成工序中。为了回收使用PDP玻璃基板，以往技术用单组分溶剂去除不良的介电膏或者障肋材料膏。但是，借助单组分有机溶剂去除介电层或障肋需要消耗较长时间，而且还会导致电极层的腐蚀现象。此外，韩国专利公开公报第2006-0013196号公开了一种障肋去除方法，该方法通过使用pH值为13以上的高浓度碱性制剂去除障肋，但未能达到完美的去除效果。另外，韩国专利第0774525号也公开了一种障肋去除方法，该方法在抑制使用高浓度碱性制剂的情况下采用强化了渗透力部分的脂肪族有机胺和适当的甘醇类溶剂，以图去除障肋。然而上述方法所采用的脂肪族有机胺作为作业环境检测物质、管制对象有害物质、暴露标准设定物质，存在着威胁工作人员健康的缺点。进而，在目前的产业工程中，借助介电层去除剂去除介电层和电极，并借助其他障肋去除剂去除障肋和介电层，从而根据用途分别使用去除剂。因此，亟待开发一种能够贡献工艺简化的综合性去除剂。这种介电层及障肋去除剂需要其渗透性及去除效率良好，而且不损伤由银等金属制成的电极层。
发明内容鉴于上述问题，本发明的目的是提供一种PDP的介电层及障肋去除剂组合物，其能够保护金属电极层不受损伤，且其渗透力及去除效率优秀，尤其可以同时用来去除介电层及障肋，因此可在PDP工程中以综合去除剂来使用。为达到上述目的，本发明采用以下技术方案。本发明的组合物包含(a)0.05-10重量％的无机盐化合物；(b)3-30重量。/。的烷基二元醇(alkylglyco1series)或其衍生物；(c)3-30重量。/。的乙二醇单烷基醚类(ethyleneglycolmonoalkyletherseries)或其衍生物；(d)0.5-10重量°/。的沸点等于或高于16(TC的有机胺；以及(e)余量的水。下面详细说明本发明。本发明涉及PDP的介电层及障肋去除剂组合物，其能够最大限度地减少对银等电极层的损伤，且其渗透力及去除效率非常优秀。特别是，本发明的特点在于提供一种在等离子体显示器面板的制造工程中对烧结前基板介电层及障肋的去除中均能适用的综合性去除剂，因此可以大幅简化工艺过程。而且，本发明采用特定有机胺，其与纯水的混和性良好，沸点在160。C以上，且不是作业有害物质，而且经济实惠。因此去除介电层及障肋后能够最大限度地减少污染，具有环保效果。这种本发明的组合物包括无机盐化合物、烷基二元醇类(alkylglyco1series)或其衍生物、乙二醇单烷基醚类(ethyleneglycolmonoalkyletherseries)或其衍生物、特定有机胺及水。所述无机盐化合物在组合物中起到分裂及剥离介电层及障肋的作用。所述无机盐化合物是选自氢氧化钾(potassiumhydroxide)、乙酸钾(potassiumacetate)、石肖酸钾(potassiumnitrate)、碳酸钾(potassiumcarbonate)、焦磷酸钾(potassiumpyrophosphate)、油酸钾(potassiumoleate)、苯甲酸钾(potassiumbenzoate)、月桂酸钾(potassiumlaurate)、叔丁醇钾(potassiumtert-butoxide)、硫酸钾(potassiumsulfate)、山梨酸钾(potassiumsorbate)、氨基苯甲酸钾(potassiumaminobenzoate)、焦硫酸钾(potassiumdisulfate)、氰酸钾(potassiumcyanate)、硫it钾(potassiumsulfide)、二甲苯磺酸钠(sodiumxylenesulfonate)及氢氧化钠(sodiumhydroxide)中的至少一种化合物，特别可以优先采用氢氧化钾(potassiumhydroxide)。所述无机盐化合物的含量在总的组合物中占0.0510重量％，优选为0.15重量％，更优选为0.31重量％。此时若其含量低于0.05重量％，无法体现对介电层及障肋的分裂效果及剥离效果等相应功能，从而导致组合物作为介电层及障肋去除剂的效果明显下降。若其含量超过10重量％，由于总的组合物的黏度增加，从而将其应用到工艺中时会阻碍渗透效果，并且会影响设备，因此在经济效果层面上不可取。所述烷基二元醇类(alkylglycolseries)或其衍生物在组合物中起到稳定地溶解介电材料及障肋材料的作用。所述烷基二元醇类(alkylglycolseries)或其衍生物例如可以使用选自丁基乙二醇(butylglycol)、丁基二甘醇(butyldiglycol)、乙基二甘醇(ethyldiglycol)、丁基三甘醇(butyltriglycol)、甲基二甘醇(methyldiglycol)、甲基三甘醇(methyltriglycol)、甲基丙烯二甘醇(methylpropylenediglycol)及丁氧基乙二醇(butoxyglycol)中的至少一种化合物，特别可以优先使用乙基二甘醇(ethyldiglycol)。所述垸基二元醇类(alkylglycolseries)或其衍生物在总的组合物中占330重量°/。，优选为520重量％，更优选为815重量％。此时若其含量低于3重量％，无法体现对介电层及障肋的分裂效果及剥离效果等相应功能，从而导致组合物作为介电及障肋去除剂的效果明显下降。若其含量超过30重量％，由于总的组合物的黏度增加，从而将其应用到工艺中时会阻碍渗透效果，并且会影响设备，因此在经济效果层面上不可取。此外，本发明中的乙二醇单烷基醚类(ethyleneglycolmonoalkyletherseries)或其衍生物是和有机胺等其他成分的混和性优秀、溶解度高的极性溶剂。特别是，本发明采用沸点在18(TC以上的、且和水的混和性优秀的成分。本发明中的乙二醇单烷基醚类(ethyleneglycolmonoalkyletherseries)化合物可以采用选自乙二醇单甲醚(ethyleneglycolmonomethylether)、乙二醇单乙醚(ethyleneglycolmonoethylether)、乙二醇单丙醚(ethyleneglycolmonopropylether)及乙二醇单丁醚(ethyleneglycolmonobuthylether)中的至少一种，特别可以优先采用乙二醇单丁醚。所述乙二醇单烷基醚类(ethyleneglycolmonoalkyletherseries)或其衍生物的含量在总的组合物占330重量％，优选为520重量％，更优选为815重量％。此时若其含量低于3重量％，无法体现对介电层及障肋的分裂效果及剥离效果等相应功能，从而导致组合物作为介电及障肋去除剂的效果明显下降。若其含量超过30重量％，由于总的组合物的黏度增加，从而将其应用到工艺中时会阻碍渗透效果，并且会影响设备，因此在经济效果层面上不可取。此外，在本发明的组合物中，有机胺是和纯水的混和性优秀、沸点为16CTC以上的化合物。尤其是，本发明的特点在于所采用的有机胺是未被规定为作业环境检测物质、管制对象有害物质、暴露标准设定物质的化合物。作为这种有机胺例如可以采用3-氨基-l-丙醇(3-amino-l-propanol)或双(2-甲氧基乙基)胺(bis(2-methoxyethyl)amine)，特别可以使用3-氨基-l-丙醇。所述有机胺的含量在总的组合物中占0.510重量％，优选为210重量%，更优选为38重量％。此时若其含量低于0.5重量％，无法体现对介电层及障肋的分裂效果及剥离效果等相应功能，从而导致组合物作为介电及障肋去除剂的效果明显下降。若其含量超过10重量％，由于总的组合物的黏度增加，从而将其应用到工艺中时会阻碍渗透效果，并且会影响设备，因此在经济效果层面上不可取。所述水在组合物中起到稳定无机碱离子活性并防止无机盐被析出的作用。本发明中的水优选为通过离子交换树脂过滤的纯水，更优选为电阻率为18MQ以上的超纯水。所述水可在去除剂组合物中以余量包含。另一方面，本发明可把具有上述组合及成分的剥离剂组合物应用到等离子体显示器面板的不良介电层及障肋去除工序中，从而制造等离子体显示器面板。因此，本发明可以同时有效地去除不良介电层及障肋，从而可以把工程中使用过的昂贵的玻璃面板重新回收使用在介电层及障肋形成工序中。即，本发明介电层及障肋去除剂组合物可以同时去除在PDP制造工程中形成的以下五种物质(l)在ITO上经过曝光显影形成的前基板电极；(2)在经过烧结的前基板电极上面干燥的前基板介电层；(3)经过曝光显影形成的后基板电极；(4)在经过烧结的后基板电极上面干燥的后基板介电膏；以及(5)在经过烧结的后基板介电层上面干燥的障肋材料膏。此时，除了使用本发明中介电层及障肋去除剂组合物外，等离子体显示器面板的制造方法对于本领域的技术人员来说是非常熟悉的内容，因此本发明并不限制PDP的制造方法。所以在此省略具体的制造方法。本发明的介电层及障肋去除剂组合物可以防止由银等金属制成的电极层受到损伤，且其渗透力及去除效率非常优秀，因此可作为介电层及障肋去除用的综合性去除剂来使用。而且，本发明采用和纯水的混和性良好、并未被规定为作业环境检测物质、管制对象有害物质、暴露标准设定物质的有机胺，因此对环保方面具有非常优秀的改善效果。具体实施例方式下面，参照以下实施例对本发明进行更加详细的说明。当然，以下实施例只是用来说明本发明的一些示例，本发明的保护范围并不局限于以下实施例。在以下实施例及比较例中，若没有特殊说明，百分比和混合比均以重量为准。按照表l所示的含量比例，由氢氧化钾(potassiumhydroxide,KOH)、乙基二甘醇(ethyldiglycol，EDG)、乙二醇单丁醚(ethyleneglycolmonobutylether,BDG)、双(2-甲氧基乙基)胺(bis(2-methoxyethyl)amine)、3-氨基-1-丙醇7(3-amino-l-pr叩anol)及水制备实施例17的介电层及障肋去除剂组合物。<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>[比较例18]按照表2所示的含量比例，由乙基二甘醇(ethyldiglycol，EDG)、乙二醇单丁醚(ethyleglycolmonobutylether，BDG)、1-(2-羟乙基)哌嗪(HEP:l-(2-Hydroxyethyl)piperazine)、单乙醇胺(monoethanolamine,MEA)、1-氨基-2-丙醇(l-amino-2-propano1，MIPA)及水制备比较例18的障肋去除剂组合物。<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>[实验例]制备试片(1)在ITO上曝光显影形成的前基板电极(A型试片)用沉积法在前玻璃基板上形成透明导电膜一ITO后，在其上面曝光、显影形成前基板电极，以制备A型试片。(2)在经过烧结的前基板电极上面干燥的前基板介电层(B型试片)在40(TC温度下烧结部分所述A型试片，并在其上面覆盖介电膏后将其干燥，以制备B型试片。(3)经过曝光、显影的后基板电极(C型试片)用沉积法在后玻璃基板上面形成透明导电膜一ITO后，在其上面曝光、显影形成后基板电极，以制备C型试片。(4)在经过烧结的后基板电极上面干燥的后基板介电膏(D型试片)在40(TC温度下烧结部分所述C型试片，并在其上面覆盖介电膏后将其干燥，以制备D型试片。(5)在经过烧结的后基板介电层上面干燥的障肋膏(E型试片)通过由增塑剂制成的障肋转印纸(transferpaper)在部分所述D型试片上覆盖一定厚度的障肋材料后将其干燥，以制备E型试片。检测基于介电层及障肋去除剂的去除时间在100ml烧杯中分别加入实施例及比较例的去除剂组合物100g后，将温度固定在40°C，并于各去除剂组合物中浸渍试片后，检测去除介电层及障肋所需时间。其检测结果如下表3所示。[表3]项目时间(秒)试片A试片B试片C试片D试片E实施例14511040115115实施例24011035120120实施例34511540120125实施例44010540120115实施例545115401251259<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table>由上表3可知，和使用比较例17时相比，在使用本发明的实施例17的介电层及障肋去除剂组合物的情况下，能够同时有效地去除介电层电极及障肋材料。特别是，和比较例5及8的胺相比，本发明中的有机胺对介电层和障肋的去除性能更加优秀，而且在经济效果方面上，具有很高的价格竞争力。相反，比较例17的介电质材料电极和障肋去除效果不佳。尤其是由于比较例2没有包含胺，其去除性能明显下降。比较例8中杂胺的渗透力较低，其对介电层及障肋的去除效果不佳。从上述结果可知，本发明的介电层及障肋去除剂组合物针对PDP制造工程中经过曝光、显影形成在ITO上的前基板电极(A型试片)、在经过烧结的前基板电极上面干燥的前基板介电层(B型试片)、经过曝光显影的后基板电极(C型试片)、在经过烧结的后基板电极上面干燥的后基板介电膏(D型试片)、在经过烧结的后基板介电层上面干燥的障肋膏(E型试片)的去除性能非常优秀，因此可以在PDP制造工程中有效使用。权利要求1、一种等离子体显示器面板的介电层及障肋去除剂组合物，其特征在于包含a)0.05-10重量％的无机盐化合物；b)3-30重量％的烷基二元醇或其衍生物；c)3-30重量％的乙二醇单烷基醚类或其衍生物；d)0.5-10重量％的沸点等于或高于160℃的有机胺；及e)余量的水。2、根据权利要求1所述的去除剂组合物，其特征在于，所述无机盐化合物是选自氢氧化钾、乙酸钾、硝酸钾、碳酸钾、焦磷酸钾、油酸钾、苯甲酸钾、月桂酸钾、叔丁醇钾、硫酸钾、山梨酸钾、氨基苯甲酸钾、焦硫酸钾、氰酸钾、硫化钾、二甲苯磺酸钠及氢氧化钠中的至少一种化合物。3、根据权利要求1所述的去除剂组合物，其特征在于，所述垸基二元醇或其衍生物是选自丁基乙二醇、丁基二甘醇、乙基二甘醇、丁基三甘醇、甲基二甘醇、甲基三甘醇、甲基丙烯二甘醇及丁氧基甘醇中的至少一种化合物。4、根据权利要求1所述的去除剂组合物，其特征在于，所述乙二醇单烷基醚类或其衍生物是选自乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丙醚及乙二醇单丁醚中的至少一种化合物。5、根据权利要求1所述的去除剂组合物，其特征在于，所述有机胺是3-氨基-l-丙醇或双(2-甲氧基乙基)胺。6、根据权利要求15中任何一项所述的去除剂组合物，其特征在于，所述组合物用于去除等离子体显示器面板的介电层及障肋。全文摘要本发明涉及等离子体显示器面板用的介电层及障肋去除剂组合物，特别涉及包含以下物质的去除剂组合物(a)0.05～10重量％的无机盐化合物；(b)3～30重量％的烷基二元醇或其衍生物；(c)3～30重量％的乙二醇单烷基醚类或其衍生物；(d)0.5～10重量％的沸点等于或者高于160℃的有机胺；及(e)余量的水。该组合物不损坏介电层下部的电极层，且其渗透性及去除性能非常优秀，可以同时去除介电层及障肋。文档编号H01J9/00GK101661857SQ200910160899公开日2010年3月3日申请日期2009年7月31日优先权日2008年8月25日发明者尹锡壹,张斗瑛,朴善周,权五焕,许舜范,辛成健,郑世桓,郑宗铉,金柄郁申请人:株式会社东进世美肯