专利名称：：用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种用于砂磨的新的光敏组合物。更具体地说，本发明涉及一种用于砂磨的光敏组合物，它具有优良的弹性、柔软性、碱的显影性、与基片的粘性、感光度和耐砂磨性，本发明还涉及用于砂磨具有光敏层的光敏膜。已知砂磨是一种在基片(如玻璃、石材、塑料、陶瓷、皮革和木材)表面形成图案的技术。通过砂磨形成图案是采用使用模版的方法实施的，在该方法中，将橡胶片、纸等置于基片上并用切割机等切割之，形成模版图案，随后用磨料打磨该基片，以选择性地研磨基片；或者是采用使用光掩模的方法实施的，在该方法中，在基片上形成光敏层，用影印法形成光掩模图案，随后用磨料进行打磨以选择性地研磨基片。第一种方法存在操作麻烦和工作效率低的问题。另一方面，第二种影印方法的工作效率高，能精密地进行加工，能有效地制造带有金属图案和绝缘图案的线路板，尤其能有效地制造等离子体显示板的金属布线图案或由陶瓷、荧光物质等制成的绝缘图案。目前提出的用于砂磨的光敏层用光敏组合物包括在端部具有烯键不饱和基团的聚氨酯预聚物、单官能的烯键不饱和化合物和聚合引发剂的可网印的组合物(参见JP-A-60-10242，本文中术语“JP-A”指“日本未经审查公布的专利申请”)，含有不饱和聚酯、不饱和单体和光致聚合引发剂的组合物(参见JP-A-55-103554)，以及含有聚乙烯醇和重氮树脂的组合物(参见JP-A-2-69754)。但是，由于这些光敏树脂组合物是液态的，因此难以操作并且膜的厚度难以控制。在JP-A-6-161098中提出过一种无上述缺点的用于砂磨的光敏组合物，该组合物主要包括在端部具有烯键不饱和基团的聚氨酯预聚物，并且其中掺杂纤维素衍生物以及聚合引发剂。尽管提出的组合物具有高的弹性、高柔软性并具有优良的碱显影性，同时在感光度和与基片的粘性方面优于常规的光敏组合物，但是在感光度、与基片的粘性和耐砂磨性方面仍不能令人满意。因此需要开发一种具有改进特性的砂磨用光敏组合物。本发明的目的是提供一种砂磨用光敏组合物，它具有优良的感光度、与基片的粘性和耐砂磨性，并具有优良的弹性、柔软性和碱显影性。本发明的另一个目的是提供一种光敏膜，它具有包括上述光敏组合物的光敏层。本发明人经不断研究，考虑到上述JP-A-6-161098所公开的光敏树脂组合物容易操作并在感光度、与基片的粘性和耐砂磨性方面优于常规的光敏树脂组合物，认为对该组合物进行改进可能是达到上述目的的捷径。在该思路下经过进一步研究，发现用特殊的纤维素化合物作为纤维素衍生物可极大地改进感光度、与基片的粘性和耐砂磨性。本发明就是在这个发现的基础上完成的。本发明涉及一种砂磨用的光敏组合物，它包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引发剂，和(C)至少一种纤维素衍生物，它选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素。本发明还涉及一种砂磨用光敏膜，它具有包括上述光敏组合物的光敏层。本发明砂磨用光敏组合物显示出优良的感光度、与基片的粘性和耐砂磨性，并具有高的弹性、柔软性和足够的碱显影性。本发明光敏膜容易定位，适合于精密加工。图1是本发明光敏膜的剖面示意图；图2(a)-(e)说明使用本发明光敏膜制造等离子体显示板的蚀刻方法的步骤。用作组分(A)的至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物(下面称之为聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物)是(a)由二元醇化合物和二异氰酸酯化合物反应制得的异氰酸酯(-NCO)封端的化合物与(b)具有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物的反应产物。作为组分(A)的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的分子中最好具有不小于4根氨基甲酸酯键。如果聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物中氨基甲酸酯键的数量小于4，其耐砂磨性会显著下降。用于制造聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的二元醇化合物包括在端部具有羟基的聚酯和聚醚。所述聚酯包括由内酯开环聚合获得的化合物，聚碳酸酯，由亚烷基二醇(如乙二醇、丙二醇、二甘醇、三甘醇和二丙二醇)和二元羧酸(如马来酸、富马酸、戊二酸和己二酸)缩合获得的聚酯。内酯的例子有δ-戊内酯、ε-己内酯、β-丙内酯、α-甲基-β-丙内酯、β-甲基-β-丙内酯、α,α-二甲基-β-丙内酯、以及β,β-二甲基-β-丙内酯。所述聚碳酸酯包括由二元醇(如双酚A、氢醌或二羟基环己烷)与羰基化合物(如碳酸二苯酯、碳酰氯或丁二酸酐)反应获得的产物。聚醚的例子包括聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇和聚戊二醇。对于聚酯和聚醚，含有2,2-二羟甲基丙酸残基、2,2-二(2-羟乙基)丙酸残基或2,2-二(3-羟丙基)丙酸残基，尤其是2,2-二羟甲基丙酸残基的这类化合物是较好的，因为它们能使聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物在碱溶液中具有大的溶解度。聚酯或聚醚可单独使用或两种或多种混合使用。与二元醇化合物反应的二异氰酸酯化合物包括脂族或脂环族二异氰酸酯化合物，如二亚甲基二异氰酸酯、三亚甲基二异氰酸酯、四亚甲基二异氰酸酯、五亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、七亚甲基二异氰酸酯、2,2-二甲基戊烷-1,5-二异氰酸酯、八亚甲基二异氰酸酯、2,5-二甲基己烷-1,6-二异氰酸酯、2,2,4-三甲基戊烷-1,5-二异氰酸酯、九亚甲基二异氰酸酯、2,2,4-三甲基己烷二异氰酸酯、十亚甲基二异氰酸酯和异佛尔酮二异氰酸酯。它们可单独使用或两种或多种混合使用。与异氰酸酯封端的化合物的异氰酸酯基发生反应的带有羟基的(甲基)丙烯酸酯化合物包括丙烯酸羟甲酯、甲基丙烯酸羟甲酯、丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸3-羟丙酯、甲基丙烯酸3-羟丙酯、单丙烯酸乙二醇酯、单甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸甘油酯、单丙烯酸二季戊四醇酯和单甲基丙烯酸二季戊四醇酯。它们可单独使用或两种或多种混合使用。聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的重均分子量较好为1,000-30,000。如果重均分子量小于1,000，那么光敏组合物的固化膜的粘结力增强，硬度增大，从而降低耐砂磨性。如果重均分子量超过30,000，则光敏组合物的粘度增高，它会使涂覆性能和工作性能下降，形成的固化膜的电阻将会增高。按光敏组合物固体重量计，聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物的含量一般为50-90重量％。本发明光敏组合物至少含有一种纤维素衍生物作为组分(C)(下面称之为纤维素化合物)，该纤维素衍生物选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素和邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素。纤维素化合物的酸值宜为50-250mg/KOH，较好为80-200mg/KOH。如果酸值小于50mg/KOH，组合物的显影性将不足。如果酸值超过250mg/KOH，组合物的柔软性和防水性将下降。将纤维素化合物和丙烯酸或甲基丙烯酸共聚物组合使用可获得较好的酸值。与丙烯酸或甲基丙烯酸共聚的适用的共聚单体包括富马酸、马来酸、巴豆酸、肉桂酸、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、富马酸单甲酯、富马酸单乙酯、富马酸单丙酯、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯、马来酸单丙酯、山梨酸、丙烯酸羟甲酯、甲基丙烯酸羟甲酯、丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸2-羟丙酯、甲基丙烯酸2-羟丙酯、单丙烯酸乙二醇酯、单甲基丙烯酸乙二醇酯、丙烯酸甘油酯、甲基丙烯酸甘油酯、单丙烯酸二季戊四醇酯、单甲基丙烯酸二季戊四醇酯、丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、丙烯腈和甲基丙烯腈。其中较好的是丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯和甲基丙烯酸异丁酯。适当地挑选纤维素化合物能进一步改进光敏组合物的感光度、粘性和耐砂磨性，能使砂磨以更令人满意的方式进行。按100重量份聚氨酯(甲基)丙烯酸酯化合物计，光敏组合物中纤维素化合物的含量较好为10-100重量份。作为组分(B)的光致聚合引发剂包括1-羟基环己基苯基酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基-1-乙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代-1-丙酮、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-1-丁酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙酮、2,4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、二苯甲酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基-1-丙酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羟基-2-甲基-1-丙酮、4-苯甲酰基-4’-甲基二甲硫醚、4-二甲氨基苯甲酸、4-二甲氨基苯甲酸甲酯、4-二甲氨基苯甲酸乙酯、4-二甲氨基苯甲酸丁酯、4-二甲氨基苯甲酸2-乙基己酯、4-二甲氨基苯甲酸2-异戊酯、2,2-二乙氧基苯乙酮、苄基二甲醛缩苯乙酮、苄基-β-甲氧基乙基乙缩醛、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(邻乙氧基羰基)肟、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、二(4-二甲氨基苯基)酮、4,4’-双二甲氨基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、苯偶酰、苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻异丁醚、苯偶姻丁醚、对二甲氨基苯乙酮、对叔丁基三氯苯乙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二苯并环庚酮(dibenzosuberone)、α,α-二氯-4-苯氧基苯乙酮和4-二甲氨基苯甲酸戊酯。这些引发剂可单独使用或两种或多种混合使用。按100重量份光敏组合物的固体含量计，光致聚合引发剂的用量为0.1-20重量份。如有必要，光敏组合物中还可含有可光致聚合的单体，以进一步改进感光度，并防止显影时固化膜的厚度下降或溶胀。适用的可光致聚合的单体包括单官能的单体，如丙烯酸、甲基丙烯酸、富马酸、马来酸、富马酸单甲酯、富马酸单乙酯、丙烯酸2-羟乙酯、甲基丙烯酸2-羟乙酯、乙二醇单甲醚丙烯酸酯和乙二醇单甲醚甲基丙烯酸酯；以及多官能单体，如三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、四羟甲基丙烷四丙烯酸酯、四羟甲基丙烷四甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯和二季戊四醇五丙烯酸酯。它们可单独使用或两种或多种混合使用。按100重量份聚氨酯(甲基)丙烯酸化合物计，可光致聚合单体的适宜的用量不超过20重量份。如果用量超过20重量份，光敏组合物的干膜会冷流，并且用紫外光固化的光敏组合物膜弹性下降，耐砂磨性变差。可将本发明光敏组合物溶解在溶剂中使用。适用的溶剂的说明性例子包括乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、乙酸2-甲氧基丁酯、乙酸3-甲氧基丁酯、乙酸4-甲氧基丁酯、乙酸2-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯、乙酸3-乙基-3-甲氧基丁酯、乙酸2-乙氧基丁酯和乙酸4-乙氧基丁酯。光敏组合物还可任选地含有染料、阻聚剂、控制电阻的导电物质(如碳粒和金属颗粒)、以及阴离子，阳离子或两性表面活性剂。根据用途可将砂磨用光敏组合物以液态涂布在基片上，或者网印在基片上。在需要精密加工的领域(如制造电子部件)中，最好用光敏膜的形式使用所述组合物，该光敏膜是将组合物涂布在挠性膜基片上，随后干燥而形成的。使用这种光敏膜能高精度定位地实施研磨加工。砂磨用光敏膜的一个例子示于图1。图1的光敏膜由挠性膜1、含有本发明光敏组合物的光敏层2和剥离膜3组成。挠性膜1是支承砂磨用光敏层的基片，它的厚度较好为15-125微米。该挠性膜包括合成树脂(如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯等)的膜。聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜由于其挠性而是较好的。光敏层2较好是用涂布机、刮条涂覆机、辊涂机、帘流涂覆机等将光敏树脂组合物在溶剂中的溶液涂覆在挠性膜1上至涂层的干厚度达到10-100微米而制得。剥离膜3是对使用前的光敏层2实施稳定保护的膜层，它具有适中的剥离性能，以便在使用前不会脱落但使用时容易剥离。厚度为15-125微米、上面涂布硅氧烷或再经烘烤的PET膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜等是较好的剥离膜。可在挠性膜和光敏层之间施加水溶性树脂层，以防止光敏层受氧影响而不易感光，并防止在将掩模图案与光敏层接触用于曝光时掩模图案粘附在光敏层上。水溶性树脂层最好如下制得将5-20重量％水溶性聚合物(如聚乙烯醇或部分皂化的聚醋酸乙烯酯)的水溶液涂布在挠性膜上至涂层的干厚度为1-10微米，随后进行干燥。水溶性聚合物的水溶液较好含有乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等以改进挠性和剥离性能。在制备水溶性聚合物的水溶液时，加入甲醇、乙二醇单甲醚、丙酮或水性消泡剂可改进粘度、消泡沫性能等。使用本发明光敏膜的常用方法示于制备等离子体显示板的图2(a)-(e)。如图2(a)所示，剥离膜3已从光敏膜上被剥去，露出的光敏层2最好通过热压与含有绝缘层4、导电图案5和支承体6的基片紧密接触。热压是通过预热基片，将干膜置于基片上并压制而成的。随后除去挠性膜1。如图2(b)所示，将具有规定掩模图案的掩模7与露出的光敏层2接触，用低压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、弧光等、氙灯等的紫外光透过掩模辐照该膜。受激激光、X-射线和电子束也像紫外光一样适用。辐照后，除去掩模7并进行显影。为进行显影，可使用通用的碱性显影剂。可用于碱性显影剂中的碱包括碱金属(如锂、钠和钾)的氢氧化物、碳酸盐、碳酸氢盐、磷酸盐或焦磷酸盐；伯胺，如苯甲胺和丁胺；仲胺，如二甲胺、二苄胺和二乙醇胺；叔胺，如三甲胺、三乙胺和三乙醇胺；环胺，如吗啉、哌嗪和吡啶；多胺，如乙二胺和六亚甲基二胺；氢氧化铵化合物，如氢氧化四甲铵、氢氧化四乙铵、氢氧化三甲基苄基铵和氢氧化三甲基苯基苄基胺；氢氧化锍化合物，如氢氧化三甲基锍、氢氧化二乙基甲基锍和氢氧化二甲基苄基锍；胆碱和含硅酸盐的缓冲溶液。通过显影，光敏层2的未受照部分被除去，如图2(c)所示仅留下光敏层的受照部分(固化树脂层9)。显影后，通过砂磨蚀刻绝缘层4，如图2(d)所示形成与固化树脂层9相一致的图案。适用于砂磨的磨粒包括粒径为2-500微米玻璃小球或无机颗粒(如SiC、SiO2、Al2O3或ZrO)。用碱水溶液(通常使用无机或有机碱溶液)溶解除去基片上残留的固化树脂层9，如图2(e)所示在基片表面上形成蚀刻的图案。下面将参照实施例更详细地描述本发明，但应理解本发明不受这些实施例的限制。除非另有说明，所有的百分数和份均是以重量计算的。实施例1将20份具有丙烯酸(acrylic)端基的含羰基的聚氨酯丙烯酸酯(UV-9532EA,NipponSyntheticChemicalIndustryCo.,Ltd制，重均分子量(Mw)24,000；酸值27；含30％乙酸乙酯作为溶剂)、30份含羰基的聚氨酯丙烯酸酯(SR-6138AE,DaicelChemicalIndustries,Ltd.；Mw:10,000；含20％乙酸乙酯作为溶剂)和60份邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素(HPMCAP,Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd制)的25％甲乙酮溶液混合在一起。在该混合物中进一步混入1份2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、0.005份N-亚硝基苯基羟胺铝盐、0.1份孔雀绿(HodogayaChemicalCo.,Ltd制)和20份甲乙酮并搅拌，制得用于砂磨的光敏组合物。使用涂布机将生成的光敏组合物涂覆在20微米厚的PRT膜上，干燥后形成干厚度为30微米的光敏层。使用橡胶辊将20微米厚的聚乙烯膜粘合在所述光敏层上，注意避免留下气泡，形成光敏膜。将聚乙烯膜从光敏膜上剥去，用橡胶辊将露出的光敏层层压在预热至80℃的玻璃基片上。剥去PET膜，将线条宽度为50、45、40、35、30、25、20、15和10微米的试验图案掩模与该露出的光敏层紧密接触。将光敏层置于超高压汞灯发出的能量为200mJ/cm2的紫外光下。将温度保持在30℃的0.2％碳酸钠水溶液以1.5kg/cm2的喷射压力喷射30秒以形成图案。如此形成的最小线条宽度为30微米，这表示图案层与基片的粘性。用Stouffer21-级片剂(21-steptablet)(StoufferGraphicArtsEquipmentCo.)测得的感光度为6-级。如下评价图案的耐砂磨性从光敏膜上剥去聚乙烯膜，用橡胶滚筒将露出的光敏层层压在预热至80℃的玻璃基片上。除去PET膜，将露出的光敏层的整个表面置于照射能量为200mJ/cm2的光线下进行照射，并用距其80mm喷砂压力为2kg/cm2的喷砂嘴喷出的玻璃小球#800(S4#800,FuiiSeisakusyo制)对其进行砂磨。磨料研磨而使固化树脂层消失所需的时间为100秒。实施例2用相同于实施例1的方法制得砂磨用光敏膜，但是用邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素(HPMCP,Shin-EtsuChemicalCo.,Ltd.制)的25％甲乙酮溶液代替邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素的25％甲乙酮溶液。用实施例1相同方法测得的粘性、感光度和耐砂磨性分别为30微米、5.5-级和100秒。比较例1用相同于实施例1的方法制得砂磨用光敏膜，但是用邻苯二甲酸乙酸纤维素(KC-71,WakoPureChemicalIndustries,Ltd制)的25％甲乙酮溶液代替邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素的25％甲乙酮溶液。用实施例1相同方法测得的粘性、感光度和耐砂磨性分别为45微米、4-级和70秒。本发明砂磨用光敏组合物显示出优良的感光度、与基片的粘性和耐砂磨性以及高的弹性、柔软性和足够的碱显影性。另外，含层压的光敏组合物的光敏膜容易定位，适用于电子部件的精密加工。尽管结合具体的实施例对本发明进行了详细描述，但是显然本领域的普通技术人员可对它们进行各种变化和改进而不偏离本发明的精神和范围。权利要求1．一种砂磨用的光敏组合物，它包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引发剂，和(C)至少一种纤维素衍生物，它选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素。2．如权利要求1所述的光敏组合物，其特征在于所述纤维素衍生物选自邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素中的至少一种。3．如权利要求1所述的光敏组合物，其特征在于按100重量份至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物计，所述至少一种纤维素衍生物的含量为10-100重量份。4．如权利要求1所述的光敏组合物，其特征在于所述纤维素衍生物的酸值为50-250mg/KOH。5．一种砂磨用的光敏膜，它包括上面依次为砂磨用的光敏层和剥离膜的挠性膜，其中所述光敏层包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)光致聚合引发剂，和(C)至少一种纤维素衍生物，它选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素。全文摘要公开了一种砂磨用的光敏组合物和具有包括该组合物的光敏层的光敏膜。所述光敏组合物包括至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,光致聚合引发剂,和选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素的至少一种纤维素衍生物。该组合物显示出优良的与基片粘性、高感光度和高耐砂磨性。文档编号H01J11/34GK1220415SQ9812340公开日1999年6月23日申请日期1998年10月14日优先权日1997年10月14日发明者水泽龙马,中里俊二,带谷洋之申请人:东京応化工业株式会社