专利名称：用于对离合器盘和最终产品进行冲压和去毛刺的装置和方法
用于对离合器盘和最终产品进^f亍冲压和去毛刺的装置和方法
背景技术：
1. 发明领域
本发明涉及用于渐进地对金属板条制成的金属离合器盘进行冲 压和去毛刺的装置和方法，并且还涉及所得的离合器盘。
2.
背景技术：
离合器盘传统上由金属板条冲压而成，并且具有环形形状，其 中花键位于沖压的离合器盘的外端或内端上。在这种沖压期间形成 于离合器盘上的毛刺在传统上通过振动工艺除去，其中冲压的离合 器盘放置在带有液体的钢或陶瓷介质中，之后进行足够时间的振动， 以除去毛刺。
美国专利6,212,930公开了其环形形状通过单个冲压步骤冲压而 成的离合器盘，其中在单个方向上的另一冲压步骤可除去位于内端 和外端的彼此相同的轴向面上的毛刺。
发明概要
本发明的一个目的是提供用于从金属板条中渐进地冲压出金属 离合器盘的改进的装置。
为了实现上述目的，根据本发明的用于从金属板条中渐进地冲 压出金属离合器盘的装置包括渐进式沖压工位，其用于从金属板条 中冲压出金属离合器盘坯件，^f吏其具有围绕中心轴线而延伸的通常 环形的形状，并且包括相对定向的轴向面以及内端和外端，所述内 端和外端的其中一端具有形成围绕中心轴线的通常圆形形状的花 4建，并且包括在 一 个轴向方向上沿着中心轴线而从该末端以及从其
中一个轴向面中延伸出来的第一毛刺，并且另一端具有围绕中心轴 线通常连续的圓形形状，并且包括在与第一毛刺相反的轴向方向上 沿着中心轴线而从该末端以及/人另 一 个轴向面中延伸出来的第二毛 刺。该装置还包括去毛刺工位，其包括去毛刺模组，所述去毛刺模 组具有环形花键形去毛刺沖头和平的去毛刺沖模，离合器盘坯件定 位在这两者之间，以便去毛刺沖头和去毛刺沖模彼此相向的相对运 动。花键形去毛刺冲头周边具有花键形去毛刺凸起，其将从一个花 键形末端和从一个轴向面中延伸出来的第一毛刺压平。平的去毛刺 沖模将从另 一端和从另 一轴向面中延伸出来的第二毛刺压平。
渐进式沖压工位包括第一成型模组，其包括用于从正在进行冲 压的离合器盘中除去圆形坯件的通常圆形的成型冲模和成型冲头， 从而提供离合器盘坯件的内端。冲压工位的第二成型模组包括用于 使离合器盘坯件与金属板条分开的成型冲模和成型冲头，从而提供 圆形的离合器盘坯件的外端。其中 一个成型模组的成型冲模和成型 冲头具有环形花键构形，用于4是供由此形成花键的末端。
在该装置的一个实施例中，第一成型模组的成型冲头和成型冲 模是圆形的，并且形成带有通常连续的圆形形状的离合器盘坯件的 内端。这个实施例具有第二模组的成型冲头和成型冲模，其设有环 形花键构形，用于提供带花键的离合器坯件的外端。
该装置的另 一 实施例具有第 一模组的成型沖头和成型冲模，其 设有环形花键构形，用于提供带花键的离合器盘坯件的内端。这个 实施例具有第二模组的成型冲头和成型冲模，其设有环形形状，并 将离合器坯件的外端冲压成带有通常连续的圓形形状。
去毛刺沖头的周边花键形去毛刺凸起凸起到足够的程度，以压 平第一毛刺，并利用环形花键构形减小轴向面之间的厚度。更具体 地说，在去毛刺之前，周边花键构形具有比离合器盘坯件的相对面
向的轴向面之间的厚度要薄大约5%至20%的厚度。另外，周边花键 构形^v其末端向内延伸0.010至0.060英寸范围内的量。
本发明的另 一 目的是提供一种用于从金属板条中渐进地冲压出 金属离合器盘的改进的方法。
为了实现刚才上述的目的，根据本发明用于从金属板条中渐进 地沖压出金属离合器盘的方法，其通过由金属板条渐进地冲压出金 属离合器盘坯件来执行，使其具有围绕中心轴线而延伸的通常环形 的形状，并且包括相对定向的轴向面以及内端和外端，所述内端和 外端的其中一端具有围绕中心轴线形成的通常圆形形状的花键，并 且包括在一个轴向方向上沿着中心轴线而从所述这一端以及从其中 一个轴向面中延伸出来的第 一毛刺，并且另 一端具有围绕中心轴线 通常连续的圆形形状，并且包括在与第一毛刺相反的轴向方向上沿 着中心轴线而从所述这个另 一端以及从另 一个轴向面中延伸出来的 第二毛刺。之后将离合器盘坯件定位在去毛剌模组的去毛刺工位中， 处于环形花键形去毛刺冲头和平的去毛刺冲模之间，以便去毛刺冲 头和去毛刺冲模彼此相向的相对运动，使得花键形去毛刺冲头的周 边花键形去毛刺凸起可压平从该一个花键形末端和一个轴向面中延 伸出来的第一毛刺，并形成周边花键构形，并且平的去毛刺冲模可 压平从另一端和另一轴向面中延伸出来的第二毛刺。
在执行渐进的沖压过程中，第 一成型才莫组的成型冲头最初朝着 其成型冲模而移动，以便从正在进行冲压的离合器盘中除去圆形坯 件，从而提供离合器盘坯件的内端。然后使第二成型模组的成型冲 头朝着其成型冲模移动，以便使离合器盘坯件与金属板条分开。所 使用的其中一个成型模组的成型冲头和成型冲模具有环形花键构 形，用于提供由此形成花键的末端。
在该方法的一种实施方式中，第一成型模组的成型冲头和成型 冲模形成带有通常连续的圆形形状的离合器盘坯件的内端，并且第 二模组的成型冲头和成型冲模形成带花键的离合器坯件的外端。
在该方法的另一实施方式中，第一成型模组的成型冲头和成型 沖模形成带花键的离合器盘坯件的内端，并且第二模组的成型冲头
和成型冲模形成带有通常连续的圆形形状的离合器坯件的外端。
去毛刺模组的花键形去毛刺冲头和平的去毛刺冲模压平第 一 毛 刺，并且减小了周边花键构形处的轴向面之间的厚度。此外，去毛 刺模组的花键形去毛刺冲头和平的去毛刺冲模压平第 一毛刺，并且 减小了在周边花键构形处在轴向面之间的厚度，花键构形带有比相 对面向的离合器盘坯件的轴向面的剩余部分之间的厚度要薄大约5% 至20%的厚度。
另外，去毛刺模组的花键形去毛刺冲头和平的去毛刺沖模可压 平第一毛刺，并减小轴向面之间的厚度，使周边花键构形从其末端
向内延伸0.010至0.060英寸范围内的量。
本发明的另一目的是提供一种改进的冲压的金属板离合器盘。
为了实现上述目的，本发明的冲压的金属板离合器盘包括金属 板离合器盘冲压件，其具有围绕中心轴线而延伸的环形形状，并且 具有通常圆形的内端和外端，其中一个末端包括径向凸出的花键， 而另一端具有通常连续的圆形形状。该冲压件具有在其通常圆形的 内端和外端之间延伸的相对面向的轴向面。其中一个轴向面在具有 径向凸出的花键的末端处具有周边花键构形，并且该冲压件在周边 花键构形处具有在相对面向的轴向面之间的减小的厚度。另一轴向 面在另一圓形的末端处具有被压平的圆形形状的去毛刺的表面。
在一个实施例中，冲压件的外端包括径向凸出的花键，并且内 端具有通常连续的圓形形状。
在另一实施例中，冲压件的内端包括径向凸出的花键，并且外 端具有通常连续的圆形形状。
周边花键构形的减小的厚度比相对的轴向面的剩余部分之间的 厚度要薄大约5%至20%。
另外，周边花键构形从其末端向内延伸0.010至0.060英寸范围 内的量。
从以下对附图的详细说明并结合对优选实施例的详细描述，将
容易清楚本发明的目的、特征和优点。
附图简介
图la和lb是通过本发明的装置并且根据本发明的渐进冲压方法 构成的冲压的金属离合器盘的两个不同实施例的平面图，其中图la 的实施例在其外端具有花键，而图lb的实施例在其内端具有花键。
图2a和2b分别是图la和lb中所示的离合器盘的局部视图，但 是以放大比例显示的，从而更好地显示了在离合器盘的外端(图2a)和 内端(图2b)的周边花键构形。
图3a和3b分别是沿着图2a和2b的线3a-3a和3b-3b剖切，但 在作为离合器盘坯件而对其内端和外端进行冲压之后所显示的剖视 图，离合器盘坯件在去毛刺冲压操作之前具有反向的毛刺。
图4a和4b分别是与图3a和3b相似的截面图，但显示了在冲压 去毛刺操作已经除去毛刺之后的两个不同的离合器盘的实施例，其 中花键末端处的毛刺通过减小周边花键构形的厚度而净皮除去。
图5是渐进式冲压机的侧视图，该冲压装置提供了各实施例中 的离合器盘坯件冲压和去毛刺冲压。
图6a和6b是平面图，其分别公开了两个不同的离合器盘的实施 例通过图5的渐进式冲压才几进^f亍冲压的方式。
图7a和7b分别显示了在初始冲压工位上进行的两个离合器.盘的 实施例的内端沖压。
图8a和8b分别显示了在外端沖压工位上进行的两个离合器盘的 实施例的外端沖压。
图9a和9b分别显示了两个离合器盘坯件的去毛刺沖压操作，从 而提供所得的离合器盘。
图10a和10b是如图9a和9b中所示的离合器盘左侧放大的局部 视图，但是以放大比例进行显示的，从而更好地显示了对带花键的 离合器盘末端进行去毛刺的方式。
优选实施例的详细描述
参看图la和lb，其分别显示了两个不同的冲压的金属板离合器 盘20a和20b的实施例。离合器盘20a,20b的实施例各由金属板冲压 而成，具有围绕中心轴线A而延伸的通常环形的形状，这在后文中 进行更全面地描述。在图la的实施例中，离合器盘20a具有通常连 续的圆形形状的内端22a，并具有带花键26a的外端24a，花键26a 在径*方向上向外凸出，在圆周方向上围绕中心轴线A而间隔开成 通常圆形形状。在图lb的实施例中，离合器盘20b具有带花键26b 的内端22b，花键26b围绕中心轴线A而间隔开，以限定通常圆形 形状，其中花键径向向内延伸，并且离合器盘20b还具有围绕中心 轴线A而延伸的通常连续的圆形形状的外端24b。如后文中更全面 地所述，离合器盘的实施例20a和20b各具有在其内端和外端22a,24a 和22b，24b之间延伸的相对面向的轴向面28a,30a和28b，30b。图3a 和3b以及图4a和4b显示了初始沖压形成内、外离合器盘坯件，以 及接下来用来提供去毛刺的方式，这在后文中进行更全面的描述。 本发明的离合器盘，用于构造离合器盘的装置，以及本发明的离合 器盘冲压方法都将以整体的方式进行描述，以便于理解本发明的所 有方面。
参看图5,渐进式冲压机32可操作地，执行渐进地从金属板条34 中冲压出离合器盘的步骤，金属板条34如箭头36所示从左向右移 动。渐进式冲压机32包括支撑在工厂地面40上的底座38,而且还 包括上边的冲压头42，其垂直地上下移动，以执行如箭头44所示的 沖压操作。渐进式冲压机32包括渐进冲压装置46,其用于渐进地对 金属离合器盘进行沖压和去毛剌。这种渐进冲压装置46包括渐进式 沖压工位，其/人左至右包括内端冲压工位48,空闲工位50，外端 沖压工位52，空闲工位54，去毛刺沖压工位56,空闲工位58,和 传送工位60，完成的离合器盘在传送工位60从金属板条34上取下，
以便进一步组装在离合器中，以便最终使用。
图5中所示的渐进式沖压^/L可操作地在如图6a所示的金属板条 34a上，或在如图6b所示的金属板条34b上执行冲压，从而分别提 供之前结合图la-4a和lb-4b所述的离合器盘的实施例。这些金属板 条各包括导孔62,机器的导销周期性地插入这些导孔62中，以确保 在渐进冲压期间实现恰当的对准。
参照图7a和7b，内端冲压工位48设有成型才莫组64a或64b，以 执行金属离合器盘的内端22a或22b(图la和lb)的冲压。如图7a中 所示，模组64a包括具有圆孔68a的下成型冲模66a，并且还包括圆 形形状的上冲头70a，其如箭头72所示向上和向下移动，以才是供对 金属板条34a的沖压，从而限定了如图la-3a和6a中所示的内端22a。 如图3a中所示的这种沖压导致了毛刺72a,其在向下的方向上沿着 离合器盘的中心轴线而从内端22a和轴向面28a中延伸出来。在图7b 所示的实施例中，内端成型模组64b包括具有圆孔68b的下成型冲 模66b，其设有环形花键构形74b。成型模组64b还包括通常圆形的 上冲头70b,其包括比下沖模66b中的花键构形74b略小尺寸的环形 花键构形76b。如箭头72所示的上沖头70b的垂直运动提供了对金 属板条34b的冲压，从而提供如图lb-3b和6b中所示的带花键的内 端22b。这种冲压还提供了带花键的内端22b，其带有在向下的方向 上沿着离合器盘的中心轴线而^v内端22b和轴向面28b中延伸出来 的毛刺72b。这样，图3a和3b中所示的实施例都具有在相同的方向 上沿着中心轴线而延伸出来的毛刺72a和72b，如图所示，其处于向 下的方向上。
外端沖压工位52设有如图8a中所示的第二成型模组78a，以及 如图8b中所示的第二成型才莫组78b，从而提供对金属离合器盘的外 端的冲压和成形。
图8a中所显示的第二成型模组78a具有下冲冲莫80a,其包括通 常圆形的开口 82a，开口 82a包括环形花键构形84a。这种下圆形开
口 82a接收外部带花键的嵌入件86a,其可垂直地在圆孔中移动，并 且通过气体弹簧88支撑着而抵4元向下的运动。第二成型模组78a还 包括通常圓形的上冲头90a,其具有环形花键构形92a，其略微小于 下沖^^莫圆形开口 82a的花4定构形84a。如箭头94所示的上冲头92a 相对于它们之间的金属板条34a的垂直运动，则对金属离合器盘的带 花键的外周边24a(图la)进行冲压，并且如图3a中所示，形成毛刺 94a,其在与之前所述通过内端冲压成形的毛刺72a相反的方向上， 沿着中心轴线而从外端24a和轴向面30a中延伸出来。在冲压外端期 间，气体弹簧88容许下冲才莫嵌入件86a向下移动，以便与金属板条 34a分开，之后将分开的离合器坯件向上移动回到金属板条开口中， 以便沿着渐进式沖压机前进方向随之一起运动。
如图8b中所示，当用于冲压内部带花键的离合器盘时，外端冲 压工位52包括第二模组78b,其具有包括连续的圆形开口 82b的下 沖模80b。嵌入件86b被支撑在下冲模的圆形开口 82b中进行垂直运 动，并且按照与之前结合图8a实施例所述相同的方式受到气体弹簧 88的支撑。图8b中所显示的第二成型模组78b还包括比下冲模开口 82b略小的连续圆形形状的上冲头90b。如箭头94所示的上冲头90b 的垂直运动提供了离合器盘与金属板条34b的分离，并且这样做时 形成了从外端24b和轴向面30b中延伸出来的毛刺94b，如图3b中 所示。在这种分离期间，图8b中所示的嵌入件86b向下移动，之后 使分开的离合器盘坯件向上移动回到金属板条34b中，以便进一步 前进。
在对离合器盘外端进行冲压，以便在图5所示的沖压工位52上 形成离合器盘坯件之后，不管其是否是如图6a中所示的外部带花键 的类型，还是图6b中所示的内部带花键的类型，沖压的金属板条都 移动至空闲工位54，之后移动到去毛刺工位56,在此处进一步的冲 压将除去分别如图3a和3b中所示的毛刺72a和94a或72b和94b。 这种去毛刺通过分别如图9a,10a和9b,10b中所示的去毛刺才莫组96a
或96b来执行。这些去毛刺才莫组96a和96b各包括环形花键形去毛刺 冲头98a或98b和平的去毛刺冲模100a或100b,其用于除去分别如 图3a和3b中所示的毛刺72a, 94a或72b, 94b，从而提供如图la和4a 或lb和4b中所示的所得的离合器盘结构。
在图9a中所示的去毛刺模组实施例96a中，冲头98a定位在上 边位置，并且如箭头102所示垂直移动，其中平的去毛刺冲模100a 定位在板条34a以下的下边位置，用于使离合器盘坯件移动到去毛刺 工位，以便进行去毛刺操作。更具体地说，去毛刺的上沖头98a在这 个实施例中包括通常圆环形形状的花键形去毛刺凸起104a，其压平 图3a中所示的外端毛刺94a，并减小轴向面28a和30a之间的厚度， 以形成图la和2a中最佳显示的周边花键构形106a。花键形去毛刺 凸起104a向外延伸超出图10a中所示的离合器盘坯件的外端，从而 确保即使在去毛刺沖压期间没有对准也能形成周边花键构形106a。 此外，平的去毛刺的下冲才莫100a除去图3a中所示的内端毛刺72a, 从而使所得的离合器盘将其图3a中所示的内端毛刺72a如图4a中所 示被压平了。这样，离合器盘20a是在两个步骤中渐进地冲压而成的， 所述这两个步骤在相对面向的方向上形成毛刺，之后通过去毛刺冲 头和平的去毛刺冲模的进 一 步的第三次冲压而除去毛刺，去毛刺冲 头和平的去毛刺冲才莫彼此相对，并从彼此相反的方向进行冲压，以 完成离合器盘，而不需要任何进一步的处理。
对于内端带花键的实施例，去毛刺通过图9b中所示的去毛刺模 组98b来执行，其中环形花键形去毛刺冲头98b处于金属板条34b 以下的下面位置，而平的去毛剌冲模100b处于金属板条以上的上边 位置。在图10b中所示的这种结构中，周边花键形去毛刺凸起104b 定位在离合器盘坯件的带花键的内端附近，以除去图3b中所示的毛 刺72b，并且平的去毛刺上沖才莫100b压平图3b中所示的毛刺94b, 使得所得的离合器盘具有图lb和4b中所示的结构，其带有在轴向 面28b和30b之间的厚度减小的环形的周边花键构形。这种周边花
键形去毛刺凸起104b径向向内延伸足够的程度，以确保在去毛刺冲 压期间即使存在任何不对准，也能完成花键构形106b的沖压。这样， 离合器盘20b如同离合器盘34a —样是在两个步骤中渐进地冲压而成 的，这两个步骤在相对面向的方向上形成毛刺，之后通过去毛刺冲 头和平的去毛刺冲模的进一步的第三次冲压而除去毛刺，去毛刺冲 头和平的去毛刺沖才莫彼此相对，并从彼此相反的方向进行冲压，以 完成离合器盘，而不需要任何进一步的处理。
周边花键形去毛刺凸起104a或104b压平从带花键的离合器盘坯 件末端24a或22b延伸出来的毛刺94a或72b，这就为周边花键构形 提供了与去毛刺之前相比较，要比在离合器盘坯件的相对面向的轴 向面28a，28b或30a,30b之间的厚度薄大约5%至20%的厚度。通过 为花键形去毛刺提供周边花键构形106a或106b，去毛刺可在较小的 冲压压力下同时仍能确保除去毛刺的条件下执行。此外，周边花键
构形106a或106b从其末端向内延伸0.010至0.060英寸范围内的量， 其是与离合器盘直径、对准公差和花键尺寸等等相关的量。不管周 边花键构形是如图la,2a和4a所示成形在外端，或是如图lb,2b或4b 所示形成于内端，周边花^:构形106a或106b都减小了各花键顶部、 各花键面以及在相邻花键之间延伸的花键根部的厚度，从而在去毛 刺期间，毛刺的除去可在不需要过大压力的条件下完成，这是因为 各花键的中心部分不受冲压，并且在轴向面之间仍保持原始厚度。
虽然已经详细描述了用于实施本发明的优选实施例和模式，但 是本发明所涉及的领域中的熟练技术人员应该认识到如所附权利要 求所限定的实施本发明的备选方式。
权利要求
1.一种用于从金属板条中渐进地冲压出金属离合器盘的装置，包括渐进式冲压工位，其用于从所述金属板条冲压出金属离合器盘坯件，使其具有围绕中心轴线而延伸的通常环形的形状，并且包括相对定向的轴向面以及内端和外端，所述内端和外端的其中一端具有形成了围绕所述中心轴线的通常圆形形状的花键，并且包括在一个轴向方向上沿着所述中心轴线而从所述这一端以及从其中一个所述轴向面中延伸出来的第一毛刺，并且另一端具有围绕所述中心轴线的通常连续的圆形形状，并且包括在与所述第一毛刺相反的轴向方向上沿着所述中心轴线而从所述另一端以及从另一轴向面中延伸出来的第二毛刺；和去毛刺工位，其包括具有环形花键形去毛刺冲头和平的去毛刺冲模的去毛刺模组，所述离合器盘坯件定位在所述环形花键形去毛刺冲头和平的去毛刺冲模之间，用于所述去毛刺冲头和去毛刺冲模彼此相向的相对运动，所述花键形去毛刺冲头具有周边花键形去毛刺凸起，其压平从所述一个花键形末端和从所述一个轴向面中延伸出来的所述第一毛刺，并且所述平的去毛刺冲模压平从所述另一端和从所述另一轴向面中延伸出来的所述第二毛刺。
2. 根据权利要求1所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的装置， 其特征在于，所述渐进式冲压工位包括第一成型模组，其包括用于从正在进行冲压的离合器盘中除去 圆形坯件的通常圆形的成型冲模和成型冲头，从而提供所述离合器 盘坯件的内端；第二成型;f莫组，其包括用于使所述离合器盘坯件与所述金属板 条分开的成型冲模和成型冲头，从而提供所述离合器盘坯件的圆形 的外端； 其中一个所述成型模组的成型冲模和成型冲头具有环形花键构 形，用于提供因此形成的带花键的末端。
3. 根据权利要求2所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的装置，其特征在于所述第 一成型模组的成型沖头和成型沖模是圆形的，并且形成 带有通常连续的圆形形状的所述离合器盘坯件的内端；和所述第二模组的成型冲头和成型冲模具有环形花键构形，用于 提供带花键的所述离合器坯件的外端。
4. 根据权利要求2所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的装置， 其特征在于所述第 一模组的成型冲头和成型冲模具有环形花键构形，用于 提供带花键的所述离合器盘坯件的内端；和所述第二成型模组的成型沖头和成型冲模是圆形的，并且提供 带有通常连续的圆形形状的所迷离合器坯件的内端。
5. 根据权利要求1所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的装置， 其特征在于，所述去毛刺冲头的所述周边花键形去毛刺凸起凸出足 够的程度，以压平所述第一毛刺，并减小带周边花键构形的所述轴 向面之间的厚度。
6. 根据权利要求5所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的装置， 其特征在于，在去毛刺之前，.;.所述周边花键构形具有比所述离合器 盘坯件的所述相对面向的轴向面之间的厚度要薄大约5%至20%的厚 度。
7. 根据权利要求5所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的装置， 其特征在于，所述周边花键构形从其末端向内延伸0.010至0.060英 寸范围内的量。
8. 根据权利要求5所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的装置， 其特征在于，在去毛刺之前，所述周边花键构形具有比所述离合器 盘坯件的所述相对面向的轴向面之间的厚度要薄大约5%至20%的厚 度；和其中，所述周边花键构形从其末端向内延伸0.010至0.060英寸 范围内的量。
9. 一种用于从金属板条中渐进地沖压出金属离合器盘的方法， 包括从所述金属板条中渐进地冲压出金属离合器盘坯件，使其具有 围绕中心轴线而延伸的通常环形的形状，并且包括相对定向的轴向 面以及内端和外端，所述内端和外端的其中一端具有形成了围绕所 述中心轴线的通常圆形形状的花键，并且包括在一个轴向方向上沿 着所述中心轴线而从所述这一端以及从其中一个所述轴向面中延伸 出来的第 一毛刺，并且另 一端具有围绕所述中心轴线的通常连续的 圆形形状，并且包括在与所述第一毛刺相反的轴向方向上沿着所述 中心轴线而从所述另 一端以及从另 一轴向面中延伸出来的第二毛 刺；和将所述离合器盘坯件定位在去毛刺模组中的去毛刺工位，处于 环形花键形去毛刺冲头和平的去毛刺冲模之间，以便所述去毛刺冲 头和去毛刺冲模彼此相向的相对运动，使得所述花键形去毛刺冲头 的周边花键形去毛刺凸起压平乂人所述一个花键形末端和所述一个轴 向面中延伸出来的第一毛刺，并形成周边花键构形，并且所述平的 去毛刺沖模压平从所述另 一端和所述另 一轴向面中延伸出来的第二 毛刺。
10. 根据权利要求9所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的方 法，其特征在于使第 一成型模组的成型冲头最初朝着其成型冲模而移动，以便 从正在进行沖压的离合器盘中移除圓形坯件，从而提供所迷离合器 盘坯件的内端；使第二成型模组的成型沖头朝着其成型冲模移动，以便使所述 离合器盘坯件与所述金属板条分开；和 所使用的其中 一个所述成型模组的成型冲头和成型冲模具有环 形花键构形，用于提供因此形成的带花键的末端。
11. 根据权利要求10所迷的用于渐进地冲压金属离合器盘的方法，其特征在于所述第一成型模组的成型冲头和成型冲模形成带有通常连续的 圓形形状的所述离合器盘坯件的内端；和所述第二模组的成型冲头和成型沖模形成带花键的所述离合器 坯件的外端。
12. 根据权利要求10所迷的用于渐进地冲压金属离合器盘的方 法，其特征在于所述第一成型模组的成型沖头和成型冲模形成带花键的所述离 合器盘坯件的内端；和所述第二模组的成型冲头和成型沖模形成带有通常连续的圆形 形状的所述离合器坯件的外端。
13. 根据权利要求9所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的方 法，其特征在于，所述去毛刺才莫组的花键形去毛刺冲头和平的去毛 刺冲模压平所述第 一毛刺，并减小在所述周边花键构形处的所述轴 向面之间的厚度。
14. 根据权利要求13所迷的用于渐进地冲压金属离合器盘的方 法，其特征在于，所述去毛刺才莫组的花键形去毛刺冲头和平的去毛 刺沖模压平所述第 一毛刺，并且减小了在所述周边花键构形处的所 述轴向面之间的厚度，所述周边花键构形带有比所述离合器盘坯件 的所述相对面向的轴向面的剩余部分之间的厚度要薄大约5%至20% 的厚度。
15. 根据权利要求9所述的用于渐进地冲压金属离合器盘的方 法，其特征在于，所述去毛刺才莫组的所述花键形去毛刺冲头和平的 去毛刺沖模压平所述第 一毛刺，并减小了所述轴向面之间的厚度， 其中所述周边花键构形从其末端向内延伸0.010至0.060英寸范围内的量。
16. 根据权利要求9所述的用于渐进地沖压金属离合器盘的方 法，其特征在于，所述去毛刺才莫组的花键形去毛刺冲头和平的去毛刺冲模压平所述第 一毛刺，并且减小了在所述周边花键构形处的轴向 面之间的厚度，所述周边花键构形的厚度比所述离合器盘坯件的所述相对面向的轴向面的剩余部分之间的厚度要薄大约5%至20%;和 形成所述周边花键构形，其从其末端向内延伸0.010至0.060英 寸范围内的量。
17. —种冲压的金属板离合器盘，包括金属板离合器盘冲压件，其具有围绕中心轴线而延伸的环形形 状，并且具有通常圓形的内端和外端，所述内端和外端的其中一端 包括径向凸出的花键，而另一端具有通常连续的圆形形状；所述沖压件具有在其通常圆形的内端和外端之间延伸的相对面 向的轴向面；其中一个所述轴向面在具有所述径向凸出的花键的所述末端处 具有周边花键构形，并且所述冲压件在所述周边花键构形处具有在 所述相对面向的轴向面之间的减小的厚度；和另一轴向面在另一圆形的末端处具有圆形形状的净支压平的去毛 刺的表面。
18. 根据权利要求17所迷的冲压的金属板离合器盘，其特征在 于，所述沖压件的外端包括所述径向凸出的花键，并且所述内端具 有所述通常连续的圆形形状。
19. 根据权利要求17所述的沖压的金属板离合器盘，其特征在 于，所述沖压件的内端包括所述径向凸出的花键，并且所述外端具 有所述通常连续的圓形形状。
20. 根据权利要求17所述的冲压的金属板离合器盘，其特征在 于，所迷周边花键构形的减小的厚度处于比所述相对的轴向面的剩 余部分之间的厚度要薄大约5%至20%的范围内。
21.根据权利要求17所迷的冲压的金属板离合器盘，其特征在 于，所述周边花键构形从其末端向内延伸0.010至0.060英寸范围内 的量。
全文摘要
经过冲压且去毛刺的离合器盘(20a，20b)通过渐进冲压装置(46)来提供，其使用方法执行离合器盘坯件的两步冲压步骤以及第三次去毛刺冲压步骤，该第三次去毛刺冲压步骤通过相反方向上的接触而除去相对轴向面上的毛刺。
文档编号B21D53/00GK101102858SQ200580044242
公开日2008年1月9日 申请日期2005年10月25日 优先权日2004年10月26日
发明者J·P·巴杜尔 申请人:米恩斯工业公司