本实用新型涉及一种用于切割坩埚的排气工装,属于加工工装技术领域。
背景技术:
化学气相沉积(以下简称为cvd)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。目前cvd技术领域中定制化坩埚种类多,规格也是多种多样,其中坩埚切割的工装制备属于本领域中的一个难点,这是由于坩埚端面是封闭的,且坩埚是层结构易损坏,工装和内衬要同时安装进坩埚内,坩埚内气体无法排出,致使坩埚不能与工装紧密贴合,机床切割时容易发生晃动,进而导致坩埚的切割合格率低。
技术实现要素:
针对现有技术的不足,本实用新型提供一种用于切割坩埚的排气工装,保证工装与坩埚紧密贴合,提高坩埚的切割合格率。
本实用新型的技术方案如下:
一种用于切割坩埚的排气工装,包括主体,主体为圆柱体,主体一端中心位置处设置有夹持位,夹持位为圆柱体结构,夹持位直径小于主体直径,主体内设有通孔,通孔贯穿主体和夹持位。
优选的,通孔设置于主体的中心位置,保证通孔不会被内衬遮挡,保持排气通畅。
优选的,主体直径为10-300mm,高度为10-500mm。
优选的,通孔直径为3-70mm。
工装使用时,将主体和内衬一起安装进坩埚内,坩埚内的压缩气体随通孔排出,工装与坩埚紧密贴合,然后将夹持位夹持在机床上,进行稳定切割。
本实用新型的有益效果在于:
1、本实用新型通过通孔排出坩埚内产生的压缩气体,保证工装与坩埚紧密贴合,提高坩埚的切割合格率。
2、本实用新型设有夹持位,方便将工装夹持到机床上。
附图说明
图1为本实用新型的主视图;
图2为本实用新型的剖视图;
其中:1、主体;2、通孔;3、夹持位。
具体实施方式
下面通过实施例并结合附图对本实用新型做进一步说明,但不限于此。
实施例1:
如图1-2所示,本实施例提供一种用于切割坩埚的排气工装,包括主体1,主体1为圆柱体,主体1一端中心位置处设置有夹持位3,保证切割出坩埚的同心度,夹持位3为圆柱体结构,夹持位3直径小于主体直径,主体1内设有通孔2,通孔2贯穿主体1和夹持位3,保证气体的通畅排出,主体1直径为10mm,高度为10mm,通孔直径为3mm。
工装使用时,将主体1和内衬一起安装进坩埚内,坩埚内的压缩气体随通孔排出,工装与坩埚紧密贴合,然后将夹持位夹持在机床上,进行稳定切割,保障产品质量。
实施例2:
一种用于切割坩埚的排气工装,结构如实施例1所述,不同之处在于,主体1直径为120mm,高度为270mm,通孔2的直径为15mm,夹持位3直径为80mm,长度80mm。
实施例3:
一种用于切割坩埚的排气工装,结构如实施例2所述,不同之处在于,通孔2设置于主体1的中心位置,保证通孔2不会被内衬遮挡,保持排气通畅,通孔2直径为40mm,减轻了工装重量,方便固定安装,加强气流的排出。
实施例4:
一种用于切割坩埚的排气工装,结构如实施例1所述,不同之处在于,主体1直径为10mm,高度为22mm,通孔2的直径为5mm,夹持位3的直径9mm,长度为30mm。
实施例5:
一种用于切割坩埚的排气工装,结构如实施例1所述,不同之处在于,主体1直径为300mm,高度为200mm,通孔2直径为50mm,夹持位3的直径为100mm,长度为80mm。
实施例6:
一种用于切割坩埚的排气工装,结构如实施例1所述,不同之处在于,主体1直径为300mm,高度为500mm,通孔2直径为70mm。
1.一种用于切割坩埚的排气工装,其特征在于,包括主体,主体为圆柱体,主体一端中心位置处设置有夹持位,夹持位为圆柱体结构,夹持位直径小于主体直径,主体内设有通孔,通孔贯穿主体和夹持位。
2.如权利要求1所述的用于切割坩埚的排气工装,其特征在于,通孔设置于主体的中心位置。
3.如权利要求1所述的用于切割坩埚的排气工装,其特征在于,主体直径为10-300mm,高度为10-500mm。
4.如权利要求1所述的用于切割坩埚的排气工装,其特征在于,通孔直径为3-70mm。