一种激光通道微型刻蚀装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及激光装备领域，特别是关于一种激光通道微型刻蚀装置。
【背景技术】
[0002]蚀刻技术属于感光化学技术领域，是用光刻腐蚀加工薄形精密金属制品的一种方法。其基本原理是利用化学感光材料的光敏特性，在基体金属基片两面均匀涂敷感光材料采用光刻方法，将胶膜板上栅网产显形状精确地复制到金属基片两面的感光层掩膜上通过显影去除未感光部分的掩膜，将裸露的金属部分在后续的加工中与腐蚀液直接喷压接触而被蚀除，最终获取所需的几何形状及高精度尺寸的产品技术蚀刻技术。
[0003]现在，研究证实在激光应用技术上激光刻蚀的基本特征是自发辐射光子不断产生，同时射向工作物质，再激发工作物质产生很多新光子(受激辐射)。光子在传播中一部分射到反射镜上，另一部分则通过侧面的透明物质跑掉。光在反射镜的作用下又回到工作物质中，再激发高能级上的粒子向低能级跃迀，而产生新的光子。在这些光子中，不在沿谐振腔轴方向运动的光子。就不与腔内的物质作用。沿轴方向运动的光子，经过谐振腔中的两个反射镜多次反射，使受激辐射的强度越来越强。促使高能级上的粒子不断地发出光来。如果光放大到超过光损耗时(衍射、吸收、散射等损失)产生光的振荡，使积累在沿轴方向的光，从部分反射镜中射出这就形成激光。
[0004]又有，在谐振腔的反馈过程中，我们了解到光只能沿谐振腔的轴向传播，因此激光具有很高的方向性。又由于谐振腔中两个反射镜之间距离不同，光在腔内不断地反射，得到加强。而其它波长的光在腔内很快被衰减掉，谐振腔就可以选择一固定波长，说明激光具有单色性。而激光的亮度高是由光放大产生的。
[0005]目前，在激光刻蚀技术上的研究和发展正处于初级阶段，尤其是类似激光通道刻蚀装置的发展进程缓慢，因而有必要提出一种激光通道微型刻蚀装置。
【发明内容】
[0006]本发明所要解决的技术问题是，提供一种激光通道微型刻蚀装置，能够适应激光刻蚀技术发展，实现激光刻蚀装置的简单实用，技术发展。
[0007]本发明的目的通过以下技术方案实现:
一种激光通道微型刻蚀装置，包括电路总成，全反光镜，Q-Switch、晶体腔、反光镜、功率计、Shtter、光纤親合器。
[0008]具体结构上，全反光镜与Q-Switch相连接、Q-Switch与晶体腔相连接并处于全反光镜和晶体腔之间、晶体腔与反光镜连接并处于Q-Switch与反光镜之间、反光镜与功率计连接并处于晶体腔与功率计之间、功率计与Shtter连接并处于反光镜与Shtter之间、Shtter与光纤耦合器连接并处于功率计与光纤偶合器之间，光纤耦合器与光纤连接并处于Shtter与光纤之间，电路总成是为该种激光通道微型刻蚀装置提供的连接电路。该连接电路为本领域范围内技术人员可见可实现的方式。
[0009]进一步的，所述反光镜选用反光率为70%~80%之间的反光镜。
[0010]进一步的，所述晶体腔内的晶体为YAG晶体。
[0011]进一步的，所述晶体腔内的光源为LED光源。
[0012]进一步的，为了实现该一种激光通道微型刻蚀装置对能量的控制，所述Q-Switch分X轴和Y轴。
[0013]本发明相较于现有技术的有益效果是:提供一种激光通道微型刻蚀装置，能够适应激光刻蚀技术发展，实现激光刻蚀装置的简单实用，技术发展。
【附图说明】
[0014]图1是本发明的一种激光通道微型刻蚀装置的结构原理图。
[0015]图2是本发明的一种激光通道微型刻蚀装置在900mm/s速率下的刻蚀效果图。
[0016]图3是本发明的一种激光通道微型刻蚀装置的500mm/s速率下的刻蚀效果图。
[0017]图4是本发明的一种激光通道微型刻蚀装置的100mm/s速率下的刻蚀效果图。
[0018]
【具体实施方式】
[0019]为了便于本领域技术人员理解，下面将结合附图以及实施例对本发明作进一步详细描述。
[0020]如图1所示出的，一种激光通道微型刻蚀装置，包括电路总成，全反光镜1，Q-Switch2、晶体腔3、反光镜4、功率计5、Shtter6、光纤耦合器7、光纤8。
[0021]具体结构上，全反光镜1与Q_Switch2相连接、Q_Switch2与晶体腔3相连接并处于全反光镜1和晶体腔3之间、晶体腔3与反光镜4连接并处于Q-Switch6与反光镜4之间、反光镜4与功率计5连接并处于晶体腔3与功率计5之间、功率计5与Shtter6连接并处于反光镜4与Shtter6之间、Shtter6与光纤親合器7连接并处于功率计5与光纤偶合器7之间，光纤耦合器7与光纤8连接并处于Shtter6与光纤8之间，电路总成是为该种激光通道微型刻蚀装置提供的连接电路。该连接电路为本领域范围内技术人员可见可实现的方式。
[0022]进一步的，所述反光镜4选用反光率为70%~80%之间的反光镜。
[0023]进一步的，所述晶体腔3内的晶体为YAG晶体。
[0024]进一步的，所述晶体腔3内的光源为LED光源。
[0025]进一步的，为了实现该一种激光通道微型刻蚀装置对能量的控制，所述Q-Switch6分X轴和Y轴。
[0026]对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其它的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0027]如图2所示出的，是在一个具体的实施例中采用发明所公开的一种激光通道微型刻蚀装置选择在900mm/s速率下，对ΙΤ0薄膜玻璃进行刻蚀后的刻蚀效果图。
[0028]如图3所示出的，是在一个具体的实施例中采用发明所公开的一种激光通道微型刻蚀装置选择在500mm/s速率下，对ΙΤ0薄膜玻璃进行刻蚀后的刻蚀效果图。
[0029]如图4所示出的，是在一个具体的实施例中采用发明所公开的一种激光通道微型刻蚀装置选择在100mm/S速率下，对ΙΤ0薄膜玻璃进行刻蚀后的刻蚀效果图。
[0030]此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种激光通道微型刻蚀装置，包括电路总成，其特征在于，还包括全反光镜(1)，Q-Switch (2)、晶体腔(3)、反光镜(4)、功率计(5)、Shtter (6)、光纤耦合器(7)、光纤(8)；具体而言，全反光镜(1)与Q-Switch (2)相连接、Q-Switch (2)与晶体腔(3)相连接并处于全反光镜(1)和晶体腔(3)之间、晶体腔(3)与反光镜(4)连接并处于Q-Switch (6)与反光镜(4)之间、反光镜(4)与功率计(5)连接并处于晶体腔(3)与功率计(5)之间、功率计(5)与Shtter (6)连接并处于反光镜(4)与Shtter (6)之间、Shtter (6)与光纤親合器(7)连接并处于功率计(5)与光纤偶合器(7)之间，光纤耦合器(7)与光纤(8)连接并处于Shtter (6)与光纤(8)之间。2.按照权利要求1所述的一种激光通道微型刻蚀装置，其特征在于，所述反光镜(4)选用反光率为70%~80%之间的反光镜。3.按照权利要求1或2所述的一种激光通道微型刻蚀装置，其特征在于，所述晶体腔(3)内的晶体为YAG晶体。4.按照权利要求1或2所述的一种激光通道微型刻蚀装置，其特征在于，所述晶体腔(3)内的光源为LED光源。5.按照权利要求1所述的一种激光通道微型刻蚀装置，其特征在于，所述Q_Switch(6)分X轴和Y轴。
【专利摘要】本发明提供一种激光通道微型刻蚀装置，包括电路总成，全反光镜，Q-Switch、晶体腔、反光镜、功率计、Shtter、光纤耦合器。具体结构上，全反光镜与Q-Switch相连接、Q-Switch与晶体腔相连接并处于全反光镜和晶体腔之间、晶体腔与反光镜连接并处于Q-Switch与反光镜之间、反光镜与功率计连接并处于晶体腔与功率计之间、功率计与Shtter连接并处于反光镜与Shtter之间、Shtter与光纤耦合器连接并处于功率计与光纤偶合器之间，光纤耦合器与光纤连接并处于Shtter与光纤之间，电路总成是为该种激光通道微型刻蚀装置提供的连接电路。能够适应激光刻蚀技术发展，实现激光刻蚀装置的简单实用，技术发展。
【IPC分类】B23K26/362
【公开号】CN105234559
【申请号】CN201510723682
【发明人】张秀平
【申请人】泉州黄章智能科技有限公司
【公开日】2016年1月13日
【申请日】2015年11月1日