专利名称：一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及陶瓷薄膜制备装置，具体是一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是这样的即一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，包括机架、机架上部设置的真空反应室、射频电源、真空泵组、升降机构、带有质量流量计的气瓶组及与气瓶组连接的气体管路和接在气路中的电磁阀；其特征在于真空反应室的顶部具有带法兰的罩盖，罩盖的顶部与升降机构的提升端连接；罩盖内具有带升降机构的阳极板，其极端通过导线接射频电源，阳极板的下面设置有带小孔的分流管外接气体管路；真空反应室的底部安装有由加热板支撑的电热丝，加热板上面由绝缘座支撑有温度缓冲板，由其支撑加工工件极板，其极端通过导线接射频电源；在机架内具有充气阀和真空规管分别与真空反应室底部连接；真空反应室底部由带蝶阀的抽气管外接出机架与真空泵组连接。
本实用新型由于所述结构而具有以下的优点1、真空反应室的空间大，其内径为900mm～2500mm，加工高度为200mm～1500mm，满足小工件的大批量加工及大型工件的加工；2、设置有加热板、加热丝、温度缓冲板及温度传感器，与高精度的PID温度控制系统相配合，精确控制温度，增强了工件表层的活性，缩短了加工时间，提高了装置的生产效率，降低了加工成本；3、真空系统设置在机架外，真空泵组与蝶阀单独成一体系，操作简单，故障率低，维修容易；4、设置有带升降阳极板，连续可调，使加工工件质量稳定，重复性好；5、设置有带小孔的气体分流管，在工作气体形成等离子后，均匀地渗入工件，保证了加工工件的均匀性；6、在气体管路上设置有电磁阀，当发生意外时，能够及时地关闭工作气体，避免危险发生；
7、设置有气柜，气瓶设置在气柜内，当气瓶发生泄漏时，排风系统将泄漏气体排到室外，从而保证了操作人员的人身安全。与高精度的操作控制系统配合使用，用于制备具有优良力学性能及催化性能的各种新型纳米陶瓷薄膜材料。
附图
中1、气柜；2、气瓶；3、质量流量计；4、电磁阀；5、气体管路；6、射频电源；7、机架；8、真空反应室；9、带法兰盘带底板的圆筒；10、带发兰盘的罩盖；11、升降机构；12、充气阀；13、真空规管；14、加热板；15、加热丝；16、绝缘座；17、温度缓冲板；18、加工工件极板；19、带螺旋升降的极板；20、气体分流管；21、温度传感器；22、蝶阀；23、抽气管路；24、真空泵组。
权利要求1.一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，包括机架、机架上部设置的真空反应室、射频电源、真空泵组、升降机构、带有质量流量计的气瓶组及与气瓶组连接的气体管路和接在气路中的电磁阀；其特征在于真空反应室的顶部具有带法兰的罩盖，罩盖的顶部与升降机构的提升端连接；罩盖内具有带升降机构的阳极板，其极端通过导线接射频电源，阳极板的下面设置有带小孔的分流管外接气体管路；真空反应室的底部安装有由加热板支撑的电热丝，加热板上面由绝缘座支撑有温度缓冲板，由其支撑加工工件极板，其极端通过导线接射频电源；在机架内具有充气阀和真空规管分别与真空反应室底部连接；真空反应室底部由带蝶阀的抽气管外接出机架与真空泵组连接。
2.根据权利要求1所述的工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，其特征在于阳极板(19)的顶部固定有螺杆或螺套与罩盖(10)内顶的螺套或螺杆配合构成阳极板螺旋升降机构。
3.根据权利要求1所述的工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，其特征在于在真空反应室筒壁上设置有温度传感器(21)。
4.根据权利要求1所述的工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，其特征在于气瓶组(2)设置在气柜(1)内。
5.根据权利要求1所述的工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，其特征在于气体分流管(20)为螺旋环状。
专利摘要一种工件表层纳米陶瓷薄膜制备装置，其特征是真空反应室的顶部具有带法兰的罩盖，罩盖的顶部与升降机构的提升端连接；罩盖内具有带升降机构的阳极板，其极端通过导线接射频电源，阳极板的下面设置有带小孔的分流管外接气体管路；真空反应室的底部安装有由加热板支撑的电热丝，加热板上面由绝缘座支撑有温度缓冲板，由其支撑加工工件极板，其极端通过导线接射频电源；在机架内具有充气阀和真空规管分别与真空反应室底部连接；真空反应室底部由带蝶阀的抽气管外接出机架与真空泵组连接。具有真空反应室空间大，设置有加热机构、真空泵组设置在机架外，设置有可升降阳极板，设置气体分流管，在气体管路上设置有电磁阀，气瓶设置在气柜内等特点。
文档编号C23C16/513GK2587886SQ0224511
公开日2003年11月26日 申请日期2002年12月10日 优先权日2002年12月10日
发明者贾文峰, 梅国苹, 罗雄超 申请人:贾文峰