专利名称：等离子处理高阻隔膜工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及等离子处理包装阻隔膜工艺。
背景技术：
食品工业的高速发展对包装物阻氧、阻水汽、阻光的性能提出了更高要求，高阻隔膜的研究在近几年才逐渐被加以重视。目前国内高阻隔膜多采用PET/PE、PET/普通PET镀铝膜/PE、OPP/铝箔/PE通过干式复合或流延复合组合成一个多层膜，以达到高阻隔目的，由于采用多层复合，存在工序复杂成本高、生产过程污染大的缺点。
发明内容
本发明的目的是提供一种成本低、工艺简单、无污染、效率高的高阻隔膜生产工艺。
本发明的目的是这样实现的，可用PET、OPP、铝箔、PE薄膜作基材，第一步薄膜卷材上料并施加张力，第二步真空室抽真空，第三步设定并调整两种等离子惰性气体气源，第四步薄膜放卷进行等离子处理，第五步薄膜等离子沉积铝或二氧化硅并收卷即可。
本发明只是将薄膜卷材上料并施加张力，真空室抽真空，设定并调整两种等离子气源，薄膜放卷进行等离子处理，薄膜等离子沉积并收卷即可完成，具有生产成本低、生产工艺简单、产品质量可靠的优点，可替代进口，节省大量外汇，经济效益也很显著。
本发明无附图具体实施方式
实施例1，用PET作基材。第一步薄膜卷材上料并在镀膜机真空室内施加张力，第二步镀膜机真空室抽真空，第三步镀膜机设定并调整两种等离子气源，第四步薄膜在镀膜机真空室内放卷进行等离子处理，第五步薄膜等离子沉积一层铝并收卷即可。
实施例2，用PET作基材。第一步薄膜卷材上料并在镀膜机真空室内施加张力，第二步镀膜机真空室抽真空，第三步镀膜机设定并调整两种等离子气源，第四步薄膜在镀膜机真空室内放卷进行等离子处理，第五步薄膜等离子沉积一层二氧化硅并收卷即可。
实施例3，用PE作基材。第一步薄膜卷材上料并在镀膜机真空室内施加张力，第二步镀膜机真空室抽真空，第三步镀膜机设定并调整两种等离子气源，第四步薄膜在镀膜机真空室内放卷进行等离子处理，第五步薄膜等离子沉积一层二氧化硅并收卷即可。实施例1，用PET作基材。第一步薄膜卷材上料并在镀膜机内施加张力，第二步镀膜机真空室抽真空，第三步镀膜机设定并调整两种等离子气源，第四步薄膜在镀膜机真空室内放卷进行等离子处理，第五步薄膜等离子沉积一层铝并收卷即可。
实施例4，用OPP作基材第一步薄膜卷材上料并在镀膜机真空室内施加张力，第二步镀膜机真空室抽真空，第三步镀膜机设定并调整两种等离子气源，第四步薄膜在镀膜机真空室内放卷进行等离子处理，第五步薄膜等离子沉积一层铝并收卷即可。
权利要求
1.等离子处理高阻隔膜工艺，其特征在于可用PET、 OPP、铝箔、PE薄膜作基材，第一步薄膜卷材上料并施加张力，第二步真空室抽真空，第三步设定并调整两种等离子惰性气体气源，第四步薄膜放卷进行等离子处理，第五步薄膜等离子沉积铝或二氧化硅并收卷即可。
全文摘要
本发明涉及等离子处理包装阻隔膜工艺。本发明可用PET、OPP、铝箔、PE薄膜作基材，第一步薄膜卷材上料并施加张力，第二步真空室抽真空，第三步设定并调整两种等离子惰性气体气源，第四步薄膜放卷进行等离子处理，第五步薄膜等离子沉积铝或二氧化硅并收卷即可。本发明只是将薄膜卷材上料并施加张力，真空室抽真空，设定并调整两种等离子气源，薄膜放卷进行等离子处理，薄膜等离子沉积并收卷即可完成，具有生产成本低、生产工艺简单、产品质量可靠的优点，可替代进口，节省大量外汇，经济效益也很显著。
文档编号C23C14/20GK101092684SQ20061001437
公开日2007年12月26日 申请日期2006年6月20日 优先权日2006年6月20日
发明者田守文 申请人:天津市大阳工贸有限公司