专利名称：位移限制框架装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种位移限制框架装置，特别是涉及一种使用聚醚醚酮(PolyEtherEtherKetone，PEEK)做为材料的位移限制框架装置，供作为材料研磨时位移限制框架之用。
背景技术：
随着液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)在计算机、电视、以及移动电话等各种电子产品上应用的普及，使得液晶显示器重要组成元件之一的玻璃基板的需求量大增。其中又以制造彩色滤光片时所使用的玻璃基板数量最为庞大。
目前，彩色滤光片制造厂大多已将玻璃基板的研磨制作工艺加入该产线的制作工艺当中。研磨制作工艺的主要目的为改善玻璃基板的表面粗糙度及降低Tsuno Height。在研磨制作工艺中经常会使用的位移限制框架装置，其主要功能是限制玻璃基板的位移，使玻璃基板不会在研磨时因下定盘转动而偏移。然而位移限制框架装置本身的设计、制造、贴附位移限制框架的手法及材质都会影响到玻璃基板的破片发生情况。
如图1a的平面图及图1b的立体图所示的现有技术，位移限制框架装置多为ㄇ字形或L字形，图1a为一体成型，图1b为ㄇ字型。除了加工不良导致的尺寸精度不佳外，另有存放面积需求较宽以及进行贴附位移限制框架时对位不佳等问题。此外，由于贴附位移限制框架时的误差产生，玻璃基板卡着位移限制框架装置的情形因而增多，使玻璃基板的破片发生情况增加。此外，传统位移限制框架装置的材料为特多龙环氧树脂(TetronEpoxy)。此种材料易因与研磨液接触、材料使用时间、以及与玻璃基板的碰撞等因素造成损耗，进而使玻璃基板的破片发生情况增加。以上所述位移限制框架装置的设计及材质皆有改进的空间。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种位移限制框架装置，供与旋转机台配合使用，以减少被位移限制物的破损。
本发明的另一目的在于提供一种位移限制框架装置，供与旋转机台配合使用，具有长时间使用而不发生偏移现象的特性。
本发明的另一目的在于提供一种位移限制框架装置，供与旋转机台配合使用，具有较方便的使用性。
本发明的另一目的在于提供一种位移限制框架装置，供与旋转机台配合使用，以减少操作位移限制框架程序的时间，以增加产能。
本发明的另一目的在于提供一种使用聚醚醚酮做为材料的位移限制框架装置，供与旋转机台配合使用，具有较佳耐用性。
本发明的另一目的在于提供一种使用聚醚醚酮做为材料的位移限制框架装置，供与旋转机台配合使用，具有较佳的硬度，以减少受位移限制物卡住于本发明的位移限制框架装置的机率。
本发明的位移限制框架装置包括多个本体，每一本体包括主嵌合部及副嵌合部，其中主嵌合部及副嵌合部相对设置于本体的相对端部；其中，每一本体的主嵌合部与相邻本体的副嵌合部可分离地嵌合，且本体的副嵌合部与另一相邻本体的主嵌合部可分离地嵌合。多个本体共同于其间形成封闭位移限制边界。
每一该本体具有直线内侧边，该多个直线内侧边共同形成该封闭位移限制边界。每一本体的该直线内侧边与相对本体的该直线内侧边平行，且每一本体的该直线内侧边与相邻本体的该直线内侧边垂直。
本体具有定位装置，供可分离地定位于旋转机台上。定位装置包括定位孔或定位销。位移限制框架装置进一步包括底座，其中，底座包括底座定位部。
本体进一步包括定位装置，其中定位装置与底座定位部可分离地嵌合。直线内侧边具有夹具槽。封闭位移限制区域于二相邻直线内侧边交界位置具有凹槽。本体是由聚醚醚酮所制成。
图1a为现有技术示意图；图1b为现有技术立体拆解示意图；图2a为本发明较佳实施例单一个本体立体示意图；图2b为本发明较佳实施例示意图；图2c为本发明较佳实施例立体拆解示意图；图3a及3b为本发明具有不同嵌合部的其它实施例示意图；图4a为本发明进一步包括定位孔定位装置的较佳实施例示意图；图4b为本发明进一步包括定位销定位装置的其它实施例示意图；图4c为本发明进一步包括第二定位装置的较佳实施例示意图；图4d及图4e为本发明具有不同构造定位装置的其它实施例示意图；图5为本发明进一步包括底座的较佳实施例示意图；图6a为本发明进一步包括夹具槽的较佳实施例示意图；图6b为本发明进一步包括夹具槽的较佳实施例立体示意图；图6c为本发明具有不同数量夹具槽的其它实施例示意图；图6d为本发明具有不同构造夹具槽的其它实施例示意图；图7a为本发明进一步包括凹槽的较佳实施例示意图；图7b为本发明进一步包括凹槽的较佳实施例立体示意图；图7c为本发明具有不同构造凹槽的其它实施例示意图。
主要元件符号说明100 第一本体111 第一嵌合部112 第二嵌合部113 第一接触面114 第四接触面115 第二接触面116 第五接触面117 第三接触面118 第六接触面120 第一定位装置160 第一直线内侧边200 第二本体
211 第四嵌合部212 第三嵌合部220 第二定位装置260 第二直线内侧边300 第三本体311 第六嵌合部312 第五嵌合部360 第三直线内侧边400 第四本体411 第七嵌合部412 第八嵌合部460 第四直线内侧边500 底座510 底座定位部600 封闭位移限制边界700 夹具槽800 凹槽具体实施方式
本发明提供一种位移限制框架装置，供与一旋转机台配合使用。以较佳实施例而言，位移限制框架装置提供限制玻璃研磨时的位移之用。然而在不同实施例中，位移限制框架装置也可提供限制其它材质对象研磨时的位移之用。
在较佳实施例中，本体组成位移限制装置，并定位于旋转机台上。受研磨的玻璃则置于位移限制装置所围成的封闭位移限制边界之内。
图2为本发明的位移限制框架装置的单一个本体的实施例示意图。在此实施例中，本发明的本体300为直柱状，具有较佳的收纳性。本发明的本体300的侧边360为真直，能减少组成的位移限制装置的误差。
本体300包括主嵌合部311及副嵌合部312。其中，主嵌合部311及副嵌合部312相对设置于本体300的相对端部。每一本体300的主嵌合部311与相邻本体300的副嵌合部312可分离地嵌合，且本体300的副嵌合312部与另一相邻本体300的主嵌合部311可分离地嵌合。
本发明的位移限制框架装置包括多个本体。该多个本体共同于其间形成封闭位移限制边界。在较佳实施例中，本发明的位移限制框架装置包括四个本体。然而在不同实施例中，为配合不同的研磨对象外型，也可采用不同数量的本体以围成不同形状的封闭位移限制边界。
在如图2b所示的较佳实施例中，上述多个本体包括有第一本体100、第二本体200、第三本体300及第四本体400。
第一本体100包括第一嵌合部111以及第二嵌合部112，第一嵌合部111及第二嵌合部112相对设置于第一本体100的相对端部。第二本体200包括第三嵌合部212以及第四嵌合部211，第三嵌合部212及第四嵌合部211相对设置于第二本体200的相对端部。
第三本体300包括第五嵌合部312以及第六嵌合部311，第五嵌合部312以及第六嵌合部311相对设置于第三本体300的相对端部，第五嵌合部312与第一嵌合部111可分离地嵌合，第六嵌合部311与第三嵌合部212可分离地嵌合。
第四本体400包括第七嵌合部411以及第八嵌合部412，第七嵌合部411以及第八嵌合部412相对设置于第四本体400的相对端部，第七嵌合部411与第二嵌合部112可分离地嵌合，第八嵌合部412与第四嵌合部211可分离地嵌合。
在如图2b所示的较佳实施例中，第一本体100、第二本体200、第三本体300、及第四本体400共同于其间形成封闭位移限制边界600。
第一本体100具有第一直线内侧边160，第二本体200具有第二直线内侧边260，第三本体300具有第三直线内侧边360，第四本体400具有第四直线内侧边460。第一直线内侧边160、第二直线内侧边260、第三直线内侧边360、及第四直线内侧边460共同形成封闭限制边界600。
在如图2b所示的较佳实施例中，第一直线内侧边160与第二直线内侧边260平行，第三直线内侧边360与第四直线内侧边460平行，且第三直线内侧边360及第四直线内侧边460与第一直线内侧边160及第二直线内侧边260垂直。
图2c为图2b所示实施例的立体拆解图。其中，各嵌合部的构造可依需求加以调整。在如图2c所示的较佳实施例中，同一本体的二嵌合部分别位于前端侧边及后端端部，在如图3a所示的较佳实施例中，同一本体的二嵌合部分别位于前端及后端的相同位置。
一嵌合部以多个接触面与另一嵌合部接触嵌合。在如图2b所示的较佳实施例中，以第一本体100为例，第一嵌合部111以第一接触面113、第二接触面115、以及第三接触面117与第五嵌合部312接触嵌合。第二嵌合部112以第四接触面114、第五接触面116、以及第六接触面118与第七嵌合部411接触嵌合。
在如图2b所示的较佳实施例中，各接触面互相垂直。然而在如图3b所示的另一实施例中，各接触面之间具有特定角度，以形成凸出楔型构造，具有较不易脱出的特性。
第一本体100具有一第一定位装置120，供可分离地定位于旋转机台(未绘示)上。在如图4a所示的较佳实施例中，定位装置120包括定位孔，以配合旋转机台上的定位销。然而在如图4b所示的实施例中，定位装置120则包括定位销，以配合旋转机台上的定位孔。
第一定位装置120供与第一本体100定位于旋转机台上，进而使位移限制框架装置定位于旋转机台上。同理，位移限制框架装置的第二本体200、第三本体300、或第四本体400也可具有相同或类似的定位装置，以加强定位效果。在如图4c所示的较佳实施例中，第二本体200进一步具有第二定位装置220。
在较佳实施例中，第一定位装置120及第二定位装置220均为穿透本体的圆形孔洞。然而在不同实施例中，第一定位装置120及第二定位装置220的数量与构造可依需求而有不同。如图4d所示的实施例，第一定位装置120及第二定位装置220分为未穿透本体的二个圆形凹槽。如图4e所示的实施例，定位装置120及第二定位装置220则分别为穿透本体的矩形孔洞。
如图5所示的较佳实施例，本发明的位移限制框架装置进一步包括底座500，其中，底座500包括底座定位部510。如图5所示，第一定位装置120及第二定位装置220与底座定位部510可分离地嵌合。
在如图6a所示的较佳实施例中，第一直线内侧边160、第二直线内侧边260、第三直线内侧边360、及第四直线内侧边460进一步分别具有夹具槽700，图6b为图6a所示较佳实施例的立体图。
夹具槽700供夹爪(未绘示)伸入，以将被位移限制物(未绘示)自本发明的位移限制框架装置取出之用。因此，夹具槽700的构造、位置、数量，都可对应夹爪的设计及实际需求而有不同。在如图6a所示的较佳实施例中，各直线内侧边的夹具槽700各为多个矩形沟槽，在如图6c所示的实施例中，各直线内侧边的夹具槽700各为单一个矩形沟槽，在如图6d所示的实施例中，各直线内侧边的夹具槽700各为单一个半圆形沟槽。
如图7a所示的较佳实施例中，本发明的位移限制框架装置的位移限定边界600于第一直线内侧边160与第三直线内侧边360交界位置、第三直线内侧边360与第二直线260交界位置、第二直线内侧边260与第四直线内侧边460交界位置、以及第四直线内侧边460与第一直线内侧边160交界位置进一步分别具有凹槽800。
图7b为图7a所示较佳实施例的立体图。其中，凹槽800供以防止本发明的位移限制框架装置于分离受位移限制物时卡住受位移限制物而造成破片。因此，凹槽之构造可因实际需求而有不同，在如图7a所示的较佳实施例中，各凹槽各为一个矩形沟槽，在如图7c所示的另一实施例中，各凹槽各为一个圆弧形沟槽。
在较佳实施例中，本发明的位移限制装置是以聚醚醚酮(PolyEtherEtherKetone，PEEK)做为材料。可减少因与研磨液接触、材料使用时间、以及与玻璃基板的碰撞等因素造成的损耗，进而减少玻璃基板的破片发生情况。
本发明结合上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是，已揭露的实施例并未限制本发明的范围。相反地，包括于所要求保护的精神及范围的修改及均等设置均包括于本发明的范围内。
权利要求
1.一种位移限制框架装置，供与一旋转机台配合使用，该位移限制框架装置包括一第一本体，包括一第一嵌合部及一第二嵌合部，其中该第一嵌合部及该第二嵌合部相对设置于该第一本体的相对端部；一第二本体，设置于该第一本体的对侧，该第二本体包括一第三嵌合部及一第四嵌合部，其中该第三嵌合部及该第四嵌合部相对设置于该第二本体的相对端部；一第三本体，包括一第五嵌合部及一第六嵌合部，其中该第五嵌合部及该第六嵌合部相对设置于该第三本体的相对端部，其中该第五嵌合部与该第一嵌合部可分离地嵌合，该第六嵌合部与该第三嵌合部可分离地嵌合；以及一第四本体，包括一第七嵌合部及一第八嵌合部，其中该第七嵌合部及该第八嵌合部相对设置于该第四本体的相对端部，其中该第七嵌合部与该第二嵌合部可分离地嵌合，该第八嵌合部则与该第四嵌合部可分离地嵌合；其中，该第一本体、该第二本体、该第三本体及该第四本体共同于其间形成一封闭位移限制边界。
2.如权利要求1所述的位移限制框架装置，其中该第一本体具有一第一直线内侧边，该第二本体具有一第二直线内侧边，该第三本体具有一第三直线内侧边，该第四本体具有一第四直线内侧边，其中该第一直线内侧边、该第二直线内侧边、该第三直线内侧边及该第四直线内侧边共同形成该封闭位移限制边界。
3.如权利要求2所述的位移限制框架装置，其中该第一直线内侧边与该第二直线内侧边平行，该第三直线内侧边与该第四直线内侧边平行，且该第三直线内侧边及该第四直线内侧边与该第一直线内侧边及该第二直线内侧边垂直。
4.如权利要求1所述的位移限制框架装置，其中该第一本体具有一定位装置，供可分离地定位于该旋转机台上。
5.如权利要求4所述的位移限制框架装置，其中该定位装置包括一定位孔或一定位销。
6.如权利要求1所述的位移限制框架装置，该位移限制框架装置进一步包括一底座，其中该底座包括一底座定位部。
7.如权利要求6所述的位移限制框架装置，该第一本体进一步包括一定位装置，其中该定位装置与该底座定位部可分离地嵌合。
8.如权利要求2所述的位移限制框架装置，其中该第一直线内侧边、该第二直线内侧边、该第三直线内侧边及该第四直线内侧边进一步分别具有一夹具槽。
9.如权利要求2所述的位移限制框架装置，其中该封闭位移限制边界于该第一直线内侧边与该第三直线内侧边交界位置、该第三直线内侧边与该第二直线内侧边交界位置、该第二直线内侧边与该第四直线内侧边交界位置、以及该第四直线内侧边与该第一直线内侧边交界位置进一步分别具有一凹槽。
10.如权利要求1所述的位移限制框架装置，其中该第一本体、该第二本体、该第三本体及该第四本体分别由聚醚醚酮所制成。
全文摘要
本发明公开一种位移限制框架装置，供与一旋转机台配合使用。位移限制框架装置主要包括多个本体。每一本体包括一主嵌合部及一副嵌合部，其中主嵌合部及副嵌合部相对设置于本体的相对端部。每一本体的主嵌合部与相邻本体的副嵌合部可分离地嵌合，且同一本体的副嵌合部与另一相邻本体的主嵌合部可分离地嵌合。该多个本体共同于其间形成一封闭位移限制边界。
文档编号B24B9/06GK1830625SQ20061007543
公开日2006年9月13日 申请日期2006年4月14日 优先权日2006年4月14日
发明者周安正, 黄琇泽, 魏仲立, 黄世名, 韩嘉铭 申请人:友达光电股份有限公司