专利名称：镁合金蚀刻工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种金属表面处理工艺，特别是涉及一种镁合金表面处理工艺。
镁合金具有重量轻、比强度高、弹性模量小、抗电磁干扰、屏蔽性好、减 震能力强、加工性能好、导热性能好等优点，已经在国防、电子电器等方面得 到广泛应用。而在化学蚀刻加工方面，因其化学活性太强， 一般的金属蚀刻溶 液与其反应太快，使蚀刻反应无法控制，因此迫需开发一种适应于镁合金蚀刻 加工的新溶液及工艺。
鉴于以上问题，本发明的主要目的在于提供一种镁合金蚀刻溶液，该溶液 能够很好的控制蚀刻反应的进度，具有广泛的应用前景。
为达到上述目的，本发明提供的一种镁合金蚀刻溶液，其主要包括
蚀刻反应抑制剂 1 5 g/L。
其中，该溶液中还可添加适量整平剂、酸雾抑制剂等辅助试剂，以提高工 艺质量，而常用的酸雾抑制剂可选用0P-10。
而所述蚀刻反应抑制剂可优选为拧檬酸。
另该溶液随着硝酸的加入，可使该溶液兼具化学抛光的功效，使蚀刻后的 镁合金表面呈现出光亮的平面效果。
另外，本发明的另一目的则在于提供一种镁合金蚀刻方法，该方法工艺简 单，操作方便。
化学蚀刻是通过化学反应利用化学溶液的腐蚀作用将不需要的金属快速溶 解除掉的过程。
本发明提供的该种镁合金蚀刻方法，其步骤基本如下
1. 前处理，其主要包括脱脂、活化等步骤，其用以将初始镁合金工件进行
清洗、除油等表面清洁；
2. 涂布，该步骤可包括制作菲霖、曝光显影、制作网板、丝印等步骤，而
背景技术：
发明内容
硝酸 90 130g/L
硝酸钠 40 60 g/L 酒石酸 0. 5 3g/L
通常是将上述处理后的镁合金工件其表面涂覆感光胶，再按照加工图样进行感 光胶的曝光，而后进行显影及坚膜处理；
3. 蚀刻，利用上述配制的镁合金蚀刻溶液腐蚀该镁合金工件之暴露金属部
位；
4. 脱膜，待上述腐蚀到一定程度，再将其表面剩余的胶膜用溶解液去掉， 最后用水清洗干净而得到蚀刻加工工件产品。
本发明提供的镁合金蚀刻工艺，其蚀刻液通过加入蚀刻反应抑制剂，能够 很好的控制蚀刻反应进行的速度，并且该蚀刻液兼备化学抛光的作用，可使得 蚀刻后的镁合金表面呈现光亮的平面效果，另其加工工艺简单，操作方便，具 有广泛的应用前景。
具体实施例方式
实施例1
首先按照下述配方配制镁合金蚀刻溶液
硝酸 117g/L ;
硝酸钠 35g/L ;
酒石酸 0. 5g/L ;
柠檬酸 2g/L。
然后选一镁合金工件样品进行清洗、除油等表面清洁，进而在其表面涂覆 感光胶，再按照加工图样进行感光胶的曝光，而后进行显影及坚膜处理，处理 完之后则将该样品浸渍于上述配制的镁合金蚀刻溶液中，待腐蚀到一定程度， 再将其表面剩余的胶膜用碱性溶液去掉，最后用水清洗干净而得到产品，整个 过程在室温条件下进行，所得到的产品其蚀刻部位呈现光亮的平面效果。
实施例2
首先按照下述配方配制镁合金蚀刻溶液
硝酸 105g/L ;
硝酸钠 40g/L ;
酒石酸 lg/L ;
柠檬酸 3g/L ;
0P-10 2g/L。
然后选一镁合金工件样品进行清洗、除油等表面清洁，进而在其表面涂覆 感光胶，再按照加工图样进行感光胶的曝光，而后进行显影及坚膜处理，处理 完之后则将该样品浸渍于上述配制的镁合金蚀刻溶液中，待腐蚀到一定程度， 再将其表面剩余的胶膜用碱性溶液去掉，最后用水清洗干净而得到产品，整个 过程在室温条件下进行，所得到的产品其蚀刻部位呈现光亮的平面效果。
实施例3
首先按照下述配方配制镁合金蚀刻溶液
硝酸 130g/L ;
硝酸钠 30g/L ;
酒石酸 lg/L ;
柠檬酸 3g/L。
然后选一镁合金工件样品进行清洗、除油等表面清洁，进而在其表面涂覆 感光胶，再按照加工图样进行感光胶的曝光，而后进行显影及坚膜处理，处理 完之后则将该样品浸渍于上述配制的镁合金蚀刻溶液中，待腐蚀到一定程度， 再将其表面剩余的胶膜用碱性溶液去掉，最后用水清洗干净而得到产品，整个 过程在室温条件下进行，所得到的产品其蚀刻部位呈现光亮的平面效果。
以上具体实施方式
，是对本发明所作的详细说明。注意这些实施方式并非 用以限定本发明，对于本领域的熟练技术人员，在不背离本发明精神的情况下 所做出的改进和补充，应该视为在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种镁合金蚀刻溶液，其特征在于，主要包括硝酸90～130g/L；硝酸钠 40～60g/L；酒石酸 0.5～3g/L；蚀刻反应抑制剂 1～5g/L。
2. 根据权利要求1所述的镁合金蚀刻溶液，其特征在于，该溶液中还可添 加适量整平剂、酸雾抑制剂等辅助试剂，以提高工艺质量。
3. 根据权利要求2所述的镁合金蚀刻溶液，其特征在于，所述酸雾抑制剂 可选用0P-10。
4. 根据权利要求1所述的镁合金蚀刻溶液，其特征在于，所述蚀刻反应抑 制剂可优选为柠檬酸。5. —种镁合金蚀刻方法，其特征在于，主要步骤基本如下1. 前处理，其主要包括脱脂、活化等步骤，其用以将初始镁合金工件进行 清洗、除油等表面清洁；2. 涂布，进而将该镁合金工件其表面涂覆感光胶，再按照加工图样进行感 光胶的曝光，而后进行显影及坚膜处理；3. 蚀刻，利用上述配制的镁合金蚀刻溶液腐蚀该镁合金工件之暴露金属部位；4. 脱膜，待上述腐蚀到一定程度，再将其表面剩余的胶膜用溶解液去掉， 最后用水清洗干净而得到蚀刻加工工件产品。
全文摘要
本发明提供一种镁合金蚀刻工艺，其先将镁合金工件进行前处理，再在其表面涂覆感光胶，然后按照加工图样进行感光胶的曝光，而后进行显影及坚膜处理，之后则浸渍于蚀刻溶液中，该蚀刻溶液主要包括硝酸90～130g/L、硝酸钠40～60g/L、酒石酸0.5～3g/L、蚀刻反应抑制剂1～5g/L，蚀刻完成后则脱膜，得到产品。本发明提供的镁合金蚀刻工艺，其蚀刻液通过加入蚀刻反应抑制剂，能够很好的控制蚀刻反应进行的速度，并且该蚀刻液兼备化学抛光的作用，可使得蚀刻后的镁合金表面呈现光亮的平面效果，另其加工工艺简单，操作方便，具有广泛的应用前景。
文档编号C23F1/10GK101173358SQ20061012318
公开日2008年5月7日 申请日期2006年10月31日 优先权日2006年10月31日
发明者李三旭 申请人:佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司