陶瓷真空镀膜工艺方法

专利名称：陶瓷真空镀膜工艺方法
技术领域：
本发明涉及一种陶瓷真空镀膜工艺方法，它属于真空镀膜技术领域。
背景技术：
现有技术中，陶瓷的真空镀膜是一个技术难点，需要采用专门 的设备才可以完成。但是这类专门的设备价格昂贵，因此，使得陶瓷 的真空镀膜产品的价格夜非常昂贵。而且，现有的工艺中，都是采用 金属黄金白银作为原料来进行镀膜，从工艺上讲，这类镀膜技术需先 用印刷，人工涂层再用中温窑炉烧成，产生出有害气体危害周边环境。 这类涂层夜容易脱落，光亮度差，而且的涂层膜含有铅镉等有害人体 健康元素，不能保证使用的安全性；另外使用金属黄金白银作为镀膜 原料，其成本也比较高。

发明内容
本发明的目的在于提供一种工艺简单，加工成本低，镀膜质量好， 陶瓷真空镀膜工艺方法。
本发明的目的是这样实现的
一种陶瓷真空镀膜工艺方法，它包括如下工艺步骤-A:首先将日用陶瓷器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜 机的真空室挂件内，先通过磁控装置使得带磁性的钕棒产生偏压电流， 在电流40 48安倍,电压450 490伏安时产生正离子磁性体沉积粒
子使日用陶瓷器件表层带有磁层体；
B:在钛棒产生偏压电流的同时，加热真空室，使得真空室的温
度达到200 350。C之间，抽出真空室内气体达到真空度3 X 10—2Pa 5 X l(T3 Pa时，放入气压在1Mpa 1.2MPa的氩气气体或氮气气体450 ml 980ml ;
C:开启多弧钛靶在直流电流70 95安倍,直流电压450 490伏 安时产生离子电极电流与钛靶相脉冲撞击在真空室内与氮气气体相 反应而产生仿黄金色彩，与氩气气体相反应而产生白银色彩沉积粒子 于陶瓷表层而产生膜层，放开气体即可取出产品。
所述的优选工艺步骤为
A:首先将日用陶瓷器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜
机的真空室挂件内，先通过磁控装置将装有带磁性钛棒产生偏压电流,
在电流45安倍,电压480伏安时产生正离子磁性体沉积粒子使产品表 层带有磁层体；
B:在钛棒产生偏压电流的同时，加热真空室，使得真空室的温 度达到室温280度之间，抽出真空室内气体达到真空度4X l(T2Pa时， 放入气压在1Mpa 1.2MPa的氩气气体或氮气气体450 ml 980ml;
C:开启多弧钛靶在直流电流80安倍，直流电压470伏安时产生离 子电极电流与钛靶相脉冲撞击在真空室内氮气气体而产生仿黄金或 白银色彩沉积粒子于陶瓷表层而产生膜层，放开气体即可取出产品。 本发明不使用金属黄金白银作为镀膜原料，无任何公害，且能 使陶瓷表面更加耐磨,光亮，防腐蚀，耐酸碱盐,色彩亮度光滑,不容易脱 落，对人体无任何公害，无污染；本发明的加工时间短,操作方便，加工 成本低；可以一次性成型，无需其它护助工具，不会产生有害气体危害 周边环境。
具体实施例方式
下面结合实施例对本发明进行进一步的说明
实施例1
在本实施例中，加工镀银日用陶瓷器件，本发明包括如下的工艺 步骤
A:首先将日用陶瓷器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜 机的真空室挂件内，所述的具有磁控功能的真空多弧离子镀膜机为现 有技术。先通过磁控装置使得真空多弧离子镀膜机中的带磁性钛棒产 生偏压电流，在电流45安倍，电压480伏安时产生正离子磁性体沉积
粒子使日用陶瓷器件的表层带有磁层体；
B:在钛棒产生偏压电流的同时，加热真空室，使得真空室的温
度达到28(TC时，抽出真空室内气体，使得真空室内的真空度达到4 X 10—2Pa时，放入气压在1Mpa 1.2MPa的氩气气体450 ml 980ml;
C:开启多弧钛靶，多弧钛靶中的直流电流为80安倍，直流电压 为470伏安时，产生离子电极电流，该离子电极电流与钛靶相脉冲撞 击在真空室内的氩气气体而产生仿白银色彩沉积粒子于陶瓷表层而 产生膜层，放开气体即可取出产品。
按照本发明的工艺方法生产加工具有镀膜的日用陶瓷器件每 一次生产流程只需15 20分钟。
实施例2
在本实施例中，加工镀金日用玻璃器件，本发明包括如下的工艺 步骤
A:首先将日用玻璃器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜 机的真空室挂件内，所述的具有磁控功能的真空多弧离子镀膜机为现 有技术。先通过磁控装置使得真空多弧离子镀膜机中的带磁性钛棒产 生偏压电流，在电流40安倍,电压450伏安时产生正离子磁性体沉积 粒子使日用陶瓷器件的表层带有磁层体；B:在钛棒产生偏压电流的同时，加热真空室，使得真空室的温
度达到200。C时，抽出真空室内气体，使得真空室内的真空度达到5 X10—3 Pa时时，放入气压在1Mpa 1.2MPa的氮气气体450 m1 980ml;
C:开启多弧钛耙，多弧钛靶中的直流电流为70安倍，直流电压
为450伏安时，产生离子电极电流，该离子电极电流与钛靶相脉冲撞 击在真空室内的氮气气体而产生仿黄金色彩沉积粒子于陶瓷表层而 产生膜层，放开气体即可取出产品。
实施例3
在本实施例中，加工镀金日用陶瓷器件，本发明包括如下的工艺
步骤
A-首先将日用陶瓷器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜
机的真空室挂件内，所述的具有磁控功能的真空多弧离子镀膜机为现 有技术。先通过磁控装置使得真空多弧离子镀膜机中的带磁性钛棒产
生偏压电流，在电流48安倍，电压490伏安时产生正离子磁性体沉积 粒子使日用陶瓷器件的表层带有磁层体；
B:在钛棒产生偏压电流的同时，加热真空室，使得真空室的温 度达到35(TC时，抽出真空室内气体，使得真空室内的真空度达到3 X l(T2 Pa时，放入气压在1Mpa 1.2MPa的氮气气体450 ml 980ml;
C:开启多弧钛靶，多弧钛靶中的直流电流为95安倍，直流电压 为490伏安时，产生离子电极电流，该离子电极电流与钛靶相脉冲撞 击在真空室内的氮气气体而产生仿黄金色彩沉积粒子于陶瓷表层而 产生膜层，放开气体即可取出产品。
权利要求
1. 一种陶瓷真空镀膜工艺方法，其特征在于它包括如下工艺步骤A首先将日用陶瓷器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜机的真空室挂件内，先通过磁控装置使得带磁性的钛棒产生偏压电流，在电流40～48安倍，电压450～490伏安时产生正离子磁性体沉积粒子使日用陶瓷器件表层带有磁层体；B在钛棒产生偏压电流的同时，加热真空室，使得真空室的温度达到200～350℃之间，抽出真空室内气体达到真空度3×10-2Pa～5×10-3Pa时，放入气压在1Mpa～1.2MPa的氩气气体或氮气气体450ml～980ml；C开启多弧钛靶在直流电流70～95安倍，直流电压450～490伏安时产生离子电极电流与钛靶相脉冲撞击在真空室内与氮气气体相反应而产生仿黄金色彩，与氩气气体相反应而产生白银色彩沉积粒子于陶瓷表层而产生膜层，放开气体即可取出产品。
2、如权利要求1中所述的陶瓷真空镀膜工艺方法，其特征在于 所述的优选工艺步骤为A:首先将日用陶瓷器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜机 的真空室挂件内，先通过磁控装置使得带磁性的钛棒产生偏压电流， 在电流45安倍，电压480伏安时产生正离子磁性体沉积粒子使日用陶 瓷器件表层带有磁层体，B:在钛棒产生偏压电流的同时，加热真空室，使得真空室的温 度达到室温280度之间，抽出真空室内气体达到真空度4X l(T2Pa时， 放入气压在1Mpa 1.2MPa的氩气气体或氮气气体450ml 980ml ; C-开启多弧钛靶在直流电流80安倍，直流电压470伏安时产生离子电极电流与钛靶相脉冲撞击在真空室内与氮气气体相反应而产生 仿黄金色彩,与氩气气体相反应而产生白银色彩沉积粒子于陶瓷表层 而产生膜层，放开气体即可取出产品。
全文摘要
一种陶瓷真空镀膜工艺方法，它属于真空镀膜技术领域，它包括如下工艺步骤A将日用陶瓷器件放入具有磁控功能的真空多弧离子镀膜机的真空室挂件内，在电流40～48安倍，电压450～490伏安时产生正离子磁性体沉积粒子；B加热真空室，使得真空室的温度达到200～350℃之间，抽出真空室内气体达到真空度3×10^-2Pa～5×10^-3Pa时，放入气压在1Mpa～1.2MPa的氩气气体或氮气气体450ml～980ml；C开启多弧钛靶在直流电流70～95安倍，直流电压450～490伏安时产生离子电极电流与钛靶相脉冲撞击在真空室内与氩气气体或氮气气体相反应而产生仿黄金或仿银色色彩，沉积在器件表面。本发明工艺简单，环保无毒，适合加工日用陶瓷或玻璃产品。
文档编号C23C14/46GK101205603SQ20061015796
公开日2008年6月25日 申请日期2006年12月22日 优先权日2006年12月22日
发明者黄俊瑞 申请人:深圳市祥源工贸有限公司