专利名称：：热喷涂粉末以及形成热喷涂涂层的方法
技术领域：
：本发明关于热喷涂粉末及形成热喷涂涂层的方法。
背景技术：
：在半导体装置或液晶装置的制造领域，普遍利用反应离子蚀刻装置，通过作为干法蚀刻中一种类型的等离子体蚀刻进行微制造。因此，在半导体装置制造设备和液晶装置制造设备中，在蚀刻过程中暴露于反应等离子体的构件可能受到腐蚀(损害)。如果通过等离子体腐蚀，从半导体装置制造设备或液晶装置制造设备中的构件生成了微粒，微粒会沉积在半导体装置使用的硅晶片上或液晶装置使用的玻璃衬底上。如果沉积微粒量很大或微粒的尺寸很大，就不能按计划进行微制造，由此导致装置产量降低并且出现质量缺陷，从而导致装置成本增加。考虑到这个问题，传统地，已经通过在构件上提供陶瓷热喷涂层防止了蚀刻过程中暴露于反应等离子体的构件的等离子体腐蚀(参见日本专利申请公开号2002-80954)。但是，现有的热喷涂涂层都不足以满足所需的抗等离子体腐蚀性能，从而仍需要改进。日本专利申请公开号2002-80954的实施例中，蚀刻速率是2到3nm/min。得到该蚀刻速率的蚀刻条件是等离子体输出(等离子体功率密度)较低，至多约200W(0.6W/cm2)(参见KITAMURA等的"由等离子体喷涂制备的陶瓷涂层的等离子体腐蚀特性"，材料处理，日本金属学会，第47巻第7期，1677页到1683页。)。相反的，在半导体装置制造设备和液晶装置制造设备的电流蚀刻工艺中，为縮短蚀刻处理时间，一般等离子体输出设定在l,OOOW或更大并且等离子体功率密度设在3W/cm2或更大。在上述很苛刻的蚀刻条件下，日本专利申请公开号2002-80954的热喷涂涂层不足以满足涉及抗等离子体腐蚀性所需的性能。
发明内容因此，本发明的第一目的是提供一种适合形成具有极好抗等离子体腐蚀性的热喷涂涂层的热喷涂粉末，以及形成热喷涂涂层的方法。根据本发明的第一方面，提供一种热喷涂粉末。所述热喷涂粉末包含原子量39或从59到70的任意稀土元素的氧化物组成的颗粒。所述颗粒的抗压强度是80MPa或更大。所述热喷涂粉末的体积比重与真比重的比率是0.15或更大。根据本发明的第二方面，提供一种通过等离子体喷涂上述热喷涂粉末形成热喷涂涂层的方法。从通过示例本发明的原理进行阐述的下述说明，本发明的其它方面和优点将变得很明显。具体实施例方式现在说明本发明的第一实施方式。根据本实施方式的热喷涂粉末，由原子量39或从59到70的任意稀土元素的氧化物组成的颗粒组成。"原子量39或从59到70的稀土元素"具体是钇(Y，原子量39)，镨(Pr，原子量59)，钕(Nd，原子量60)，钷(Pm，原子量61)，钐(Sm，原子量62)，铕(Eu，原子量63)，轧(Gd，原子量64)，铽(Tb，原子量65)，镝(Dy，原子量66)，钬(Ho，原子量67)，铒(Er，原子量68)，铥(Tm，原子量69)，以及镱(Yb，原子量70)。当热喷涂粉末的颗粒由原子量39或从59到68的任意稀土元素的氧化物组成，具体的是Y，Pr，Nd，Pm，Sm，Eu，Gd，Tb，Dy，Ho或Er，热喷涂粉末可形成热喷涂涂层，其涂层比当热喷涂粉末由原子量69或70，具体为Tm或Yb，的任意稀土元素的氧化物组成时，具有更好的抗等离子体腐蚀性。更具体的，当热喷涂粉末的颗粒由原子量60到66，具体是Nd，Pm，Sm，Eu，Gd，Tb或Dy中任意稀土元素的氧化物组成时，从热喷涂粉末可以形成热喷涂涂层，相比当热喷涂粉末由原子量39，59或67到70，具体为Y,Pr，Ho，Er，Tm或Yb的任意稀土元素的氧化物组成时，其涂层具有更好的抗等离子体腐蚀性。因此，热喷涂粉末中的颗粒较好地由来自原子量39或从59到70的稀土元素中的，原子量为39或从59到68的任意稀土元素氧化物组成，最好由原子量从60到66的任意稀土元素的氧化物组成。根据本发明的热喷涂粉末中颗粒的抗压强度必须等于或大于80MPa。抗压强度越高，当热喷涂粉末从粉末给料器输送到热喷涂装置时，或当输送给热喷涂装置的热喷涂粉末充入到热喷涂用热源诸如热喷涂火焰中时，在连接粉末给料器和热喷涂装置的管内，抑制热喷涂粉末颗粒碎裂的效果更好。如果在热喷涂之前，热喷涂粉末的颗粒碎裂，在热喷涂过程中形成极易被热源过热的微小颗粒，由此在热喷涂过程中趋向发生"喷溅(spitting)"现象。术语"喷溅"指过度熔化的热喷涂粉末的沉积物从热喷涂装置的热喷涂喷嘴内壁掉落并喷溅到热喷涂对象的现象。如果在热喷涂过程中发生碎裂，得到的热喷涂涂层的质量，包括抗等离子体腐蚀性会恶化。并且，因为热喷涂粉末中颗粒碎裂所形成的微小颗粒重量很轻，在热喷涂过程中容易从热源喷出，因此可能不能被热源充分加热。如果由于不能充分加热而未熔化或软化的这些微粒混在热喷涂涂层中，热喷涂涂层的颗粒间的粘结强度降低，从而得到的热喷涂涂层的质量包括抗等离子体腐蚀性会恶化。在这点上，只要热喷涂粉末中颗粒的抗压强度是等于或大于80MPa，热喷涂粉末中颗粒的碎裂可以被更好的抑制，因此可以得到具有极好抗等离子体腐蚀性的热喷涂涂层。为了进一步改进热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性，热喷涂粉末中颗粒的抗压强度较好是等于或大于90MPa，最好是等于或大于lOOMPa。虽然不特别限定热喷涂粉末中颗粒抗压强度的上限值，较好的是等于或小于250MPa，更好是等于或小于200MPa，最好是等于或小于190MPa。根据本发明的热喷涂粉末的体积比重与真比重的比率必须为等于或大于0.15。因为该比率增加，热喷涂粉末的流动性增加，使得在热喷涂过程中热喷涂粉末的供应稳定。另外，热喷涂粉末形成的热喷涂涂层中细孔的数量大幅减少，从而降低了热喷涂涂层的孔隙率。在这点上，只要热喷涂粉末的体积比重与真比重的比率是等于或大于0.15，热喷涂过程中热喷涂粉末的波动被很好的抑制，并且热喷涂粉末形成的热喷涂涂层的细孔数量也可以被大幅降低，因此，可以得到具有极好抗等离子体腐蚀性的热喷涂涂层。为进一步改进热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性，热喷涂粉末的体积比重与真比重的比率比较好的是等于或大于0.17，更好的是等于或大于0.20，最好的是等于或大于0.25。虽然不特别限定热喷涂粉末的体积比重与真比重之比的上限值，比较好的是等于或小于0.45,更好的是等于或小于0.40。根据本实施方式的热喷涂粉末的平均颗粒尺寸比较好的是等于或大于5pm，更好的是等于或大于8pm，最好的是等于或大于l(Him。因为热喷涂粉末的平均颗粒尺寸增加，热喷涂粉末的流动性增加，使得在热喷涂过程中热喷涂粉末的供应稳定。更具体的，更好地抑制了热喷涂粉末的供给量周期性增加或降低的波动的发生。当热喷涂粉末供给量由于波动而增加，因未被热源充分加热而未熔化或软化的颗粒可能混在热喷涂涂层中，或可能发生喷溅。因此，如果在热喷涂过程中发生热喷涂粉末的波动，不但抗等离子体腐蚀性降低，而且得到的热喷涂涂层还会变得不均匀。在这点上，只要热喷涂粉末的平均颗粒尺寸是等于或大于5pm，更具体的是等于或大于8pm，甚至等于或大于l(Htm，热喷涂过程中热喷涂粉末的波动被很好的抑制，从而使热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性进一步提高。根据本实施方式的热喷涂粉末的平均颗粒尺寸较好的是等于或小于40pm，更好的是等于或小于37pm，最好的是等于或小于35pm。因为热喷涂粉末的平均颗粒尺寸减小，热喷涂粉末形成的热喷涂涂层中细孔的数量大幅减少，从而降低了热喷涂涂层的孔隙率。低孔隙率的热喷涂涂层具有高的抗等离子体腐蚀性。在这点上，只要热喷涂粉末的平均颗粒尺寸是等于或小于40Mm，或更具体的是等于或小于37Mm，甚至等于或小于35pm，热喷涂粉末形成的热喷涂涂层的细孔数量被大幅减少，从而使得热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性进一步提高。根据本发明的热喷涂粉末的颗粒可以是稀土氧化物的粒化烧结颗粒或熔化压碎颗粒，或由稀土氢氧化物通过沉积方法或溶胶凝胶法(sol-gelmethod)生产的稀土氧化物颗粒。但是，最好是粒化烧结颗粒。相比熔化压碎颗粒，粒化烧结颗粒由于其在生产过程中的高球度和杂质的低污染而具有流动性好的优点。通过粒化烧结原材料粉末生产出粒化烧结颗粒。得到的产物被破碎成更小的颗粒，并且如果需要，进行分级。通过将熔化的原材料冷却至凝固，然后压碎，如果需要，将成品进行分级，生产出熔化压碎颗粒。以下将详细说明粒化烧结颗粒的生产。在粒化和烧结方法中，首先从原料粉末生产出粒状粉末，然后烧结该粒状粉末。得到的产物被破碎成更小的颗粒，并且如果需要，进行分级生产所述粒化烧结颗粒。原材料粉末可以是原子量39或从59到70的任意稀土元素的氧化物粉末，或是上述稀土元素中任意一种单质的粉末，或是上述稀土元素任意的氢氧化物的粉末。原材料粉末也可以是两种或三种这些粉末的混合物。如果在原材料粉末中包含上述任意稀土元素的单质或氢氧化物，在粒化和烧结过程中，这种物质最终转化成稀土氧化物。在粒化和烧结过程中，原材料粉末的颗粒互相粘结，从而增加了颗粒尺寸。因为这个原因，原材料粉末的平均颗粒尺寸最好是组成粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸的0.9倍或更小。具体的，原材料粉末的平均颗粒尺寸较好的是等于或小于5.4pm,更好的是等于或小于2.7pm，甚至更好的是等于或小于1.8nm，并且最好的是等于或小于1.1pm。从原材料粉末生产粒状粉末可通过下述方式进行在合适的分散介质中混合原材料粉末，可选地加入粘结剂，然后对得到的浆料进行喷雾造粒；或者，通过滚动造粒(tumbling-granulating)或压縮造粒从原材料粉末直接生产出粒化粉末。可在空气、氧气氛、真空或惰性气氛中进行粒化粉末的烧结。但是，当原材料中包含任意稀土元素的单质或氢氧化物时，因为这种物质会转化成稀土氧化物，最好在空气中进行。电炉或煤气炉可用于粒化粉末的烧结。为得到高抗压强度的烧结颗粒，烧结温度较好的是1,200到1,700°C，更好的是1,300至U1,700°C，甚至更好的是1，400到1,700°C，最好是1,500到1,700°C。为得到高抗压强度的烧结颗粒，保持在最高温度的时间较好的是30分钟到10小时，更好的是1到5小时。如果热喷涂粉末中的颗粒是粒化烧结颗粒，组成粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸较好的是等于或小于6pm，更好的是等于或小于3pm，甚至更好的是等于或小于2pm，最好的是等于或小于1.2pm。热喷涂粉末形成的热喷涂涂层通常呈现层状结构。因为组成粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸减小，热喷涂涂层的层间区域的宽度尺寸变的更小。层间区域包含大量的晶体缺陷。因为热喷涂涂层的等离子体腐蚀最先从热喷涂涂层的缺陷部生成，包含小宽度尺寸层间区域的热喷涂涂层倾向具有更好的抗等离子体腐蚀性。在这点上，只要包含粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸是等于或小于2pm，更具体的是等于或小于1.5pm，甚至更具体的是等于或小于1.2|_im，或甚至迸一步具体的是等于或小于1.0|im，热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性可以进一步提高。进一步，如果组成粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸是2pm或更小，每个原始颗粒被热源彻底的熔化，作为颗粒间粘接，也就是层间粘接强化的结果，使得热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性进一步提高。根据本实施方式的热喷涂粉末的自然堆积角较好的是等于或小于50°，更好的是等于或小于48。，最好的是等于或小于47。。因为自然堆积角减小，热喷涂粉末的流动性提高，使得得到的热喷涂涂层的均匀性提高。因此，通过将自然堆积角规定为等于或小于50。，更具体的是等于或小于48。，最具体的是等于或小于47°，热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性进一步提高。根据本实施方式的热喷涂粉末中组成颗粒的稀土氧化物在100°C时的标准生成吉布斯自由能(standardGibbsenergyofformation)最好为等于或小于-l,685kJ/mo1。"标准生成吉布斯自由能"指的是元素在标准状态形成元素化合物时的标准自由能。热力学上，具有负值的化合物可以说比其组成元素更稳定。这明确意味着标准生成吉布斯自由能的负值的绝对值越大，化合物在热力学上更稳定。这样的化合物具有高的抗等离子体腐蚀性。在这点上，只要热喷涂粉末中组成颗粒的稀土氧化物在100°C时的标准生成吉布斯自由能是等于或小于-l,685kJ/mo1，热喷涂粉末得到的热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性可以进一步提高。根据本实施方式的热喷涂粉末中组成颗粒的稀土氧化物的稀土元素较好的是具有等于或大于0.865nm，更好的是等于或大于0.895nm，最好的是等于或大于0.910nm的六配位的三价离子半径。一般地，因为随着原子量增加，电子量增加，为了保留电子，离子尺寸增加，从而离子半径增加。但是，在原子量从57(La)至l」71(Lu)的镧系元素(lanthanide)离子的情况下，情况是相反的，所以随原子量增加离子半径减小。这种现象称为"镧系收縮(lanthanidecontraction)"。这是由于原子量的增加，也就是(+)核电荷的增加，不能被4f轨道的同样增加的电子充分阻挡，从而外层电子云被逐步拉向核子。并且，4f轨道在5s、5p和5d轨道内,外场的影响很小。因此，可以说4f轨道是隔离的电子系统。也就是，事实上离子半径减小意味着外层5s、5p和5d轨道的电子被拉向镧系原子的核子。因此，在与氧原子结合形成氧化物陶瓷的情况下，当被拉向核子，或换句话说，当离子半径减小时，镧系元素的外层电子更难有助于与氧原子结合。因此。氧化物陶瓷的抗等离子体腐蚀性降低。在这点上，只要热喷涂粉末中组成颗粒的稀土氧化物的稀土元素的六配位的三价离子半径是等于或大于0.865nm，或更具体的是等于或大于0.895nm，或甚至更具体的是等于或大于0.910nm，从热喷涂粉末得到的热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性可以进一步提高。根据本实施方式的热喷涂粉末的真比重比较好的是等于或大于5，更好的是等于或大于7。随着真比重增加，热喷涂涂层的抗离子轰击性提高，这使热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性提高。在这点上，只要真比重是等于或大于5，或更具体的是等于或大于7，从热喷涂粉末得到的热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性可以进一步提高。对应本实施方式的热喷涂粉末，通过等离子体热喷涂或其它热喷涂方法使用在形成热喷涂涂层的应用中。利用等离子体热喷涂，相比其它热喷涂方法，可以从热喷涂粉末形成具有更高抗等离子体腐蚀性的热喷涂涂层。因此，最好由等离子体热喷涂进行对应本实施方式的热喷涂粉末的热喷涂。本实施方式得到以下优点。根据本实施方式的热喷涂粉末中，热喷涂粉末的粒化烧结颗粒由原子量39或从59到70的任意稀土元素的氧化物组成，热喷涂粉末中颗粒的抗压强度是等于或大于80MPa，并且热喷涂粉末的体积比重与真比重之比是等于或大于0.15。因此，由本实施方式的热喷涂粉末形成的热喷涂涂层具有极好的抗等离子体腐蚀性，换个说法，本实施方式的热喷涂粉末适合形成具有极好抗等离子体腐蚀性的热喷涂涂层。上述实施方式可作如下修改。热喷涂粉末可以包含原子量39或从59到70的任意稀土元素氧化物组成的两种或更多种不同颗粒。热喷涂粉末可以包含原子量39或从59到70的任意稀土元素氧化物组成的颗粒之外的成分。但是，原子量39或从59到70的任意稀有元素氧化物组成的颗粒之外的成分含量最好是尽可能小。具体的，该含量较好的是小于10%，更好的是小于5%，更好的是小于1%。热喷涂粉末中的颗粒可以包含原子量39或从59到70的任意稀土元素氧化物之外的成分。但是，原子量39或从59到70的任意稀土元素氧化物之外的成分含量最好是尽可能小。具体的，该含量比较好的是小于10%，更好的是小于5%，更好的是小于1%。接下去，将结合实施例和比较例详细说明本发明。制备了由稀土氧化物的粒化颗粒、粒化烧结颗粒或熔化压碎颗粒组成的实施例1到9和比较例1到6的热喷涂粉末。表格1列出了各热喷涂粉末的详细情况。表格1中"稀土氧化物类型"一栏示出了各热喷涂粉末包含的稀土氧化物的分子式。表格1中"抗压强度"一栏示出了检测出的各热喷涂粉末中颗粒的抗压强度。具体的，本栏示出的各热喷涂粉末中颗粒的抗压强度cr[MPa]根据公式(5=2.8xL/;t/d2计算。在该公式中，"L"表示临界负载[N]，"d"代表热喷涂粉末的平均颗粒尺寸[mm]。临界负载是在给颗粒施加以恒定比率增加的压缩负载，硬度计位移量突然增加时压縮负载的大小。用Shimadzu公司生产的微压縮测试机"MCTE-500"来测量临界负载。表格1中"体积比重"和"真比重"栏分别示出了根据日本工业标准JISZ2504检测的各热喷涂粉末的体积比重和真比重。表格1中"体积比重/真比重"一栏示出了利用各热喷涂粉末测量出的体积比重和真比重计算出的体积比重与真比重的比率。表格1中的"平均颗粒尺寸"一栏示出了各热喷涂粉末的平均颗粒尺寸，利用Horiba有限公司生产的激光衍射/散射颗粒尺寸检测设备"LA-300"测量。热喷涂粉末平均颗粒尺寸代表当热喷涂粉末颗粒的累积体积，从最小的颗粒尺寸起达到热喷涂粉末中所有颗粒的累积体积的50%或更高时最后累积颗粒的颗粒尺寸。表格1中的"颗粒类型"一栏示出了各热喷涂粉末的颗粒类型。在该栏中，"粒化"表示粒化颗粒，"粒化烧结"表示粒化烧结颗粒，并且"熔化和压碎"表示熔化压碎颗粒。表格1中的"平均原始颗粒尺寸"一栏示出了利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)检测的组成各热喷涂粉末的粒化颗粒或粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸的结果。具体的，这代表由下述方法测得的定直径(Feret直径)的平均值从各热喷涂粉末中随机选取10个颗粒，然后从所选10个颗粒的每一个中随机选取50个原始颗粒，并且检测各热喷涂粉末的全部500个原始颗粒。"定直径"是夹住颗粒并平行延伸的两个假想线之间的距离。表格1中"自然堆积角"一栏示出了各热喷涂粉末的自然堆积角，通过TsutsuiRikagakuKikai)有限公司生产的A.B.D—粉末特性测量仪"A.B.D-72'表格l中"AG"—栏示出了组成各热喷涂粉末的稀土元素在100。C时标准生成吉布斯自由能。表格1中"离子半径"一栏示出了组成各热喷涂粉末的稀土氧化物中稀土元素的六配位的三价离子半径。表格2示出了通过热喷涂实施例1到9与比较例1到6的热喷涂粉末形成具有厚度为20(Vm的热喷涂涂层的热喷涂条件。对得到的热喷涂涂层抗等离子体蚀刻腐蚀性进行评估。具体的，首先，各热喷涂涂层的表面利用平均颗粒尺寸0.06pm的硅胶进行镜面抛光。抛光后的热喷涂涂层的部分表面被聚酰亚胺胶带遮盖住，然后热喷涂涂层的整个表面在表格3所示的条件下进行等离子体蚀刻。之后，利用KLA-公司生产的台阶测量装置"Alpha-step"测量被遮部分和未遮部分之间的台阶高度，通过测量的台阶高度除以蚀刻时间计算出蚀刻速率。表格1中"抗等离子体腐蚀性"一栏示出了当在表格3的条件下进行等离子体蚀刻时，根据蚀刻速率评估的热喷涂涂层抗等离子体腐蚀性。在该栏中，字母"E(极好)"表示热喷涂涂层蚀刻速率与比较例1的热喷涂涂层蚀刻速率之比小于0.75，字母"G(好)"表示该比等于或大于0.75且小于0.80，字母"F(中等)"表示该比大于等于0.80且小于0.90，字母"P"(差)表示该比等于或大于0.90。<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>_表格2_<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>__蚀刻设备ULVAC有限公司生产的反应离子蚀刻设备"NLD-800"蚀刻气体CF4，02蚀刻气体流量CF40.054L/分，020.005L/分处理室压力1Pa等离子体功率400W等离子体暴露区直径100mm每热喷涂涂层单位面积的等离子体功率5.1W/cm2蚀刻时间1小时如表格1所示，与比较例1至6的热喷涂涂层相比，实施例1至9的热喷涂涂层的抗等离子体腐蚀性更高。权利要求1.一种热喷涂粉末，包括由原子量39或从59到70的任意稀土元素的氧化物组成的颗粒，其中所述颗粒的抗压强度等于或大于80MPa，以及其中所述热喷涂粉末的体积比重与真比重的比率等于或大于0.15。2.如权利要求1所述的热喷涂粉末，其特征在于，所述颗粒由原子量从60到66的任意稀土元素的氧化物组成。3.如权利要求1所述的热喷涂粉末，其特征在于，所述颗粒的抗压强度是100至U250MPa。4.如权利要求1所述的热喷涂粉末，其特征在于，所述热喷涂粉末的体积比重与真比重的比率是0.25到0.45。5.如权利要求1至4中任一项所述的热喷涂粉末，其特征在于，所述颗粒是粒化烧结颗粒，并且组成所述粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸等于或小于6pm。6.如权利要求1至4中任一项所述的热喷涂粉末，其特征在于，其中所述热喷涂粉末的自然堆积角等于或小于50°。7.如权利要求1至4中任一项所述的热喷涂粉末，其特征在于，组成所述颗粒的稀土氧化物中含有的稀土元素的六配位的三价离子半径等于或大于0.865nm。8.如权利要求1至4中任一项所述的热喷涂粉末，其特征在于，组成所述颗粒的稀土氧化物在100°C时的标准生成吉布斯自由能等于或小于-1,685kJ/mol。9.如权利要求1至4中任一项所述的热喷涂粉末，其特征在于，所述热喷涂粉末的平均颗粒尺寸是5到40nm。10.如权利要求1至4中任一项所述的热喷涂粉末，其特征在于，所述热喷涂粉末的真比重等于或大于5。11.一种由权利要求1至4中任一项所述的热喷涂粉末通过等离子体热喷涂形成热喷涂涂层的方法。全文摘要一种热喷涂粉末，包含原子量39或从59到70的任意稀土元素氧化物组成的颗粒。所述颗粒的抗压强度是等于或大于80MPa。热喷涂粉末的体积比重与真比重的比率是等于或大于0.15。所述颗粒最好是粒化烧结颗粒。组成粒化烧结颗粒的原始颗粒的平均颗粒尺寸最好是等于或小于6μm。文档编号C23C4/10GK101173344SQ20071016727公开日2008年5月7日申请日期2007年10月31日优先权日2006年10月31日发明者伊部博之,北村顺也,青木功申请人:福吉米株式会社