专利名称：研磨装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及半导体领域的制造设备，具体地说，涉及一种研磨装置。
技术背景一般研磨装置包括研磨头、供气体流动的孔轴以及控制气体流向、大小的 控制器。研磨头内的橡胶压膜将晶圓压在位于旋转台上的研磨垫上。在晶圆的 研磨过程中，常常会发生研磨头破损的现象，即压膜与晶圆发生严重碰撞，就 会产生大量碎片。产生的碎片在孔轴真空环路的压力作用下，进入孔轴，进而 被吸入控制器内。当控制器吸入一定量的碎片后，就会无法正常工作，导致研 磨装置发生当机警报。为了减少上述情况的出现， 一般孔轴进行定期清洗，但 是因为条件的限制，无法彻底洗干净。如果清洗孔轴后，研磨装置仍然发出警 报，则需要更换控制器，常常一周就需要更换一次，这样不仅增加了工作人员 的工作负荷，降低工作效率，而且增加了生产成本。有鉴于此，需要提供一种新的研磨装置。实用新型内容本实用新型解决的技术问题是提供一种保护控制器的研磨装置。 为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种研磨装置，其包括研磨头、 控制器以及连接研磨头和控制器的孔轴，孔轴具有气体流通管道，控制器控制 孔轴内气体在气体流通管道内的流动状况，该研磨装置在孔轴上安装有过滤器， 其可将研磨头产生的碎片过滤掉。其中该过滤器可拆卸地安装在孔轴上。与现有技术相比，本实用新型研磨装置通过在孔轴上设置过滤器将产生的碎片过滤掉，有效保护控制器不受损坏；过滤器比控制器容易拆卸，降低了成 本和工作负担。
图l本发明研磨装置的结构示意图。
具体实施方式
通过
以下结合附图对本实用新型一实施例进行描述，可以进一步理解本实 用新型的目的、具体结构特征和优点。请参阅图1,本实施例研磨装置1包括研磨头10、供气体流动的孔轴12以 及控制气体流向、大小的控制器13。研磨头10呈倒置的桶状，内部固定有支架 11。支架上具有橡胶压膜110，该压膜110中间部分呈拱形，两端压在待研磨晶 圆2的上面。晶圆2的待研磨表面与研磨垫3接触，该研磨垫3放置在旋转台4 上。该研磨装置1在孔轴12上安装有过滤器14,其可随时拆卸。在研磨过程中， 如果晶圆或者压膜发生破损，产生的碎片受到孔轴12真空环路的吸力，沿图中 箭头朝向控制器13移动，在移动过程中被过滤器14过滤掉，避免进入控制器 13,提高了控制器13的使用寿命。过滤器14结构简单，成本相对控制器13低， 因此更换过滤器14相较现有技术的更换控制器13,有效减低成本。而且更换过 滤器14比较方便，降低了工作人员的工作负荷，提高了工作效率。
权利要求1.一种研磨装置，其包括研磨头、控制器以及连接研磨头和控制器的孔轴，孔轴具有气体流通管道，控制器控制孔轴内的气体在气体流通管道内的流动状况，其特征在于该研磨装置在孔轴上安装有过滤器。
2. 如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于该过滤器可拆卸地安笨在孔轴 上。
专利摘要本实用新型公开了一种研磨装置，涉及半导体领域的制造设备。该研磨装置包括研磨头、控制器以及连接研磨头和控制器的孔轴，孔轴具有气体流通管道，控制器控制孔轴内的气体在气体流通管道内的流动状况，该研磨装置在孔轴上安装有过滤器，其可将研磨头产生的碎片过滤掉。而且该过滤器可拆卸地安装在孔轴上。与现有技术相比，本实用新型研磨装置通过在孔轴上设置过滤器将产生的碎片过滤掉，有效保护控制器不受损坏，过滤器比控制器成本低，更换过滤器比更换控制器，可有效降低了生产成本。
文档编号B24B37/04GK201115930SQ20072007381
公开日2008年9月17日 申请日期2007年8月20日 优先权日2007年8月20日
发明者周海锋, 王大帮, 蔡宗成, 高喜峰 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司