专利名称：镀膜装置及其所使用的镀膜伞架遮罩的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种镀膜装置及其所使用的镀膜伞架遮罩。
背景技术：
当前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜，以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片 的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光通过镜片的能量损耗。又 如在某些滤光元件表面镀上一层滤光膜，可滤掉某一预定波段的光，制成各种各样的滤光片 。 一般地，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等 。Ichiki， M.等人在2003年5月发表于2003 Symposium on Design, Test, Integration and Packaging of MEMS/M0EMS的论文Thin film formation-a fabrication on non-planar surface by spray coating method中介绍了通过喷涂在非平面形成薄膜的方法。
蒸镀是一种物理气相沉积技术，即以物理的方式进行薄膜沉积。具体地，其通过离子束 或电子束对蒸镀材料进行加热，使蒸镀材料变成气态或离子态，而沉积在待镀工件表面以形 成一蒸镀材料膜层。
在对工件的某一面进行镀膜时，通常是将待镀工件固定于镀膜伞架上，蒸镀靶材设置于 镀膜伞架下方，通过蒸发而将靶材冲至镀膜伞架，从而对待镀工件的朝向镀膜伞架下方的一 面进行镀膜。然而，由于在蒸镀制程中，蒸镀源的离子在真空腔体内是以无序的方式运动， 其容易从固定式伞架的周围流动至伞架上方，附着在待镀工件的周缘及另一面从而污染待镀 工件。另外，为增加薄膜的附着力，蒸镀制程温度较高，如此容易导致待镀工件翘曲变形， 从而造成良率下降。
发明内容
有鉴于此，提供一种用于镀膜制程中，可防止待镀工件污染，及克服因制程加热而导致 工件变形问题的镀膜装置及其所使用的镀膜伞架遮罩实为必要。
本发明提供一种镀膜装置，其包括一个镀膜伞架，所述镀膜伞架具有多个容置通孔，所 述多个容置通孔用于容置待镀工件，所述镀膜装置还包括 一个镀膜伞架遮罩，用于罩住该 镀膜伞架，其包括一个第一罩体及一个第二罩体，所述第一罩体用于直接罩在该镀膜伞架上 ，其包括一个中空伞状支架，所述伞状支架包括多个支撑轴，所述每个支撑轴的内侧设置有 多个遮挡片，所述多个遮挡片与所述镀膜伞架的容置通孔相对应而设置，所述第二罩体用于罩住第一罩体，且其高度不小于第一罩体的高度。
本发明还提供一种如上所述的镀膜装置所使用的镀膜伞架遮罩，用于罩住所述镀膜伞架 ，其包括一个第一罩体及一个第二罩体，所述第一罩体用于直接罩在该镀膜伞架上，其包括 一个中空伞状支架，所述伞状支架包括多个支撑轴，所述每个支撑轴的内侧设置有多个遮挡 片，所述多个遮挡片与所述镀膜伞架的容置通孔相对应而设置，所述第二罩体用于罩住第一 罩体，且其高度不小于第一罩体的高度。
相较于现有技术，所述镀膜装置包括一镀膜伞架遮罩，用于罩住所述镀膜伞架，其中， 第一罩体直接罩在镀膜伞架上，且多个遮挡片对应镀膜伞架的多个容置通孔，可将待镀工件 的另一面遮住从而防止待镀工件的另一面遭到污染，另外多个遮挡片还可以压住待镀工件从 而避免加热后工件产生形变；另一方面，第二罩体将第一罩体及镀膜伞架罩在里面，从而防 止蒸镀源从侧面污染镀膜伞架及待镀工件，提高镀膜的洁净度。
图1是本发明实施例提供的镀膜装置的立体示意图。
图2是本发明实施例提供的镀膜装置的立体分解示意图。
具体实施例方式
下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。
请参阅图1及图2，本发明实施例提供一种镀膜装置100，其包括一个镀膜伞架200及一个 镀膜伞架遮罩300。所述镀膜伞架遮罩300，用于罩住所述镀膜伞架200。
所述镀膜伞架200具有多个容置通孔201，用于容置待镀工件(图未示)。所述多个容置 通孔201大小相同，且排列整齐。所述镀膜伞架200的形状为伞状。镀膜时，蒸镀源设置于镀 膜伞架200的下方，且蒸镀源从镀膜伞架200的下方向上进行镀膜。
所述镀膜伞架遮罩300包括一个第一罩体10及一个第二罩体20。所述第一罩体10直接罩 在镀膜伞架200上，所述第二罩体20用于罩住第一罩体10。
所述第一罩体10包括一个中空伞状支架12。所述伞状支架12包括多个支撑轴14。所述多 个支撑轴14呈对称分布于伞状支架12上。在本实施例中，所述支撑轴14的数量设置为8个。 所述每个支撑轴14的内侧均设置有多个遮挡片16，所述每个遮挡片16均设置为通过一个连接 轴18而连接悬挂于支撑轴14的内侧。所述连接轴18的可以设置为可活动的连接于支撑轴14上 ，从而使遮挡片16的角度具有一定的灵活度。在本实施例中，所述多个遮挡片16大小相同且 对称分布于所述第一罩体10上。所述每个遮挡片16的形状设置为与所述镀膜伞架200的用于 容置待镀工件的容置通孔201的形状相同，并且其排列方式与镀膜伞架200的容置通孔201的
5排列相对应。镀膜时，蒸镀源从镀膜伞架200的下方向上进行镀膜，则待镀工件的朝向镀膜 伞架200的下方的那个面会被镀膜，而另一个面不会镀到。此第一罩体10的设置可以使待镀 工件的另一个面被遮挡片16遮住，从而保证另一面不会被蒸镀源污染。另一方面，由于镀膜 时的温度很高，常加热到170至200度，而待镀工件如为镜片，其材质通常为塑胶、玻璃等， 在高温下很容易产生应力形变，而导致待镀工件产生翘曲等，造成良率下降。此遮挡片16的 设置同时也可以压制住待镀工件，从而避免其发生翘曲。
所述第二罩体20用于罩住第一罩体10。所述第一罩体10的高度为hl，所述第二罩体的高 度为h2，所述第二罩体20的高度h2不小于第一罩体10的高度hl，如此，可以将第一罩体10完 全罩于第二罩体20内。所述第二罩体20的形状可设置为圆桶状或伞状等。本实施例中，该第 二罩体20的形状为圆桶状，其内部为中空结构，且顶部设置有一个十字形支撑架22。当然， 所述第二罩体20的顶部也可以设置为中空伞状。所述支撑架22的中心设置有一个螺栓24。而 第一罩体10的伞状支架12的顶部中心设置有一个螺孔122。所述第二罩体20和第一罩体10的 螺栓24和螺孔122可以相互配合，并使第二罩体20和第一罩体10固定连接。当然，所述第一 罩体10和第二罩体20之间也可以使用其他连接方式固定。例如，所述第二罩体20的底侧边缘 可以设置数个搭扣结构，当第二罩体20罩到第一罩体10的外部后，可使用搭扣来将第一罩体 10和第二罩体20固定。
所述第一罩体IO、第二罩体20及所述镀膜伞架200的底面均为圆形，且其底面直径相当 。优选的，所述第一罩体10的底面直径略大于镀膜伞架200的底面直径，而第二罩体20的底 面直径略大于第一罩体10的底面直径。这样，第一罩体10可将镀膜伞架200罩住，而第二罩 体20可将第一罩体10及镀膜伞架200都罩住。如此，可以使蒸镀源离子不会直接冲击到镀膜 伞架200及第一罩体10的周缘，从而防止蒸镀源从侧面污染镀膜伞架200及待镀工件，提高镀 膜的洁净度。
所述第一罩体10及第二罩体20的材料可以选自铜、铝及不锈钢等。
本实施例所提供的镀膜装置100在使用时，先将第一罩体10罩在镀膜伞架200上，并将多 个遮挡片16对齐镀膜伞架200的容置通孔201，此时，容置通孔201内已经放置好了待镀工件 。然后，将第二罩体20罩在第一罩体10及镀膜伞架200上，再将螺栓24拧在螺孔122内，并使 第二罩体20和第一罩体10固定紧密。此时，即可以将罩有镀膜遮罩100的镀膜伞架200进行后 续镀膜制程。
相较于现有技术，所述镀膜装置包括一镀膜伞架遮罩，所述镀膜伞架遮罩可罩在所述镀 膜伞架上，其中，第一罩体罩在镀膜伞架上，且多个遮挡片对应镀膜伞架的多个容置通孔，
6可将待镀工件的另一面遮住从而防止待镀工件的另一面遭到污染，另外多个遮挡片还可以压 住待镀工件从而避免加热后工件产生形变；另一方面，第二罩体将第一罩体及镀膜伞架罩在 里面，从而防止蒸镀源从侧面污染镀膜伞架及待镀工件，提高镀膜的洁净度。
可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它 各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种镀膜装置，其包括一个镀膜伞架，所述镀膜伞架具有多个容置通孔，所述多个容置通孔用于容置待镀工件，其特征在于，所述镀膜装置还包括一个镀膜伞架遮罩，用于罩住该镀膜伞架，其包括一个第一罩体及一个第二罩体，所述第一罩体用于直接罩在该镀膜伞架上，其包括一个中空伞状支架，所述伞状支架包括多个支撑轴，所述每个支撑轴的内侧设置有多个遮挡片，所述多个遮挡片与所述镀膜伞架的容置通孔相对应而设置，所述第二罩体用于罩住第一罩体，且其高度不小于第一罩体的高度。
2.如权利要求l所述的镀膜装置，其特征在于，所述多个遮挡片的 形状设置为与所述镀膜伞架的容置通孔的形状相同。
3.如权利要求l所述的镀膜装置，其特征在于，所述多个遮挡片大小相同且对称分布于所述第一罩体。
4.如权利要求l所述的镀膜装置，其特征在于，所述多个遮挡片的 每一个遮挡片为通过连接轴而悬挂于相应的支撑轴的内侧，且每个遮挡片的连接轴可活动地 与相应的支撑轴连接。
5.如权利要求l所述的镀膜装置，其特征在于，所述第一罩体、第 二罩体与所述镀膜伞架的底面直径相当。
6. 一种如权利要求l所述的镀膜装置所使用的镀膜伞架遮罩，用于罩 住所述镀膜伞架，其特征在于，其包括一个第一罩体及一个第二罩体，所述第一罩体用于直 接罩在该镀膜伞架上，其包括一个中空伞状支架，所述伞状支架包括多个支撑轴，所述每个 支撑轴的内侧设置有多个遮挡片，所述多个遮挡片与所述镀膜伞架的容置通孔相对应而设置 ，所述第二罩体用于罩住第一罩体，且其高度不小于第一罩体的高度。
7.如权利要求6所述的镀膜伞架遮罩，其特征在于，所述多个遮挡 片的形状设置为与所述镀膜伞架的容置通孔的形状相同。
8.如权利要求6所述的镀膜伞架遮罩，其特征在于，所述多个遮挡 片大小相同且对称分布于所述第一罩体。
9.如权利要求6所述的镀膜伞架遮罩，其特征在于，所述多个遮挡 片的每一个遮挡片为通过连接轴而悬挂于相应的支撑轴的内侧，且每个遮挡片的连接轴可活 动地与相应的支撑轴连接。
10.如权利要求6所述的镀膜伞架遮罩，其特征在于，所述第一罩体 、第二罩体与所述镀膜伞架的底面直径相当。
全文摘要
本发明提供一种镀膜装置，其包括一个镀膜伞架，所述镀膜伞架具有多个容置通孔，所述多个容置通孔用于容置待镀工件，所述镀膜装置还包括一个镀膜伞架遮罩，用于罩住该镀膜伞架，其包括一个第一罩体及一个第二罩体，所述第一罩体用于直接罩在该镀膜伞架上，其包括一个中空伞状支架，所述伞状支架包括多个支撑轴，所述每个支撑轴的内侧设置有多个遮挡片，所述多个遮挡片与所述镀膜伞架的容置通孔相对应而设置，所述第二罩体用于罩住第一罩体，且其高度不小于第一罩体的高度。所述镀膜伞架遮罩可防止待镀工件被污染以及可以克服因制程加热而导致工件变形问题。
文档编号C23C14/24GK101538699SQ200810300610
公开日2009年9月23日 申请日期2008年3月17日 优先权日2008年3月17日
发明者张庆州, 王仲培 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司