专利名称：溅镀机真空腔抽真空装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种溅镀机，更具体地说涉及一种用于光盘的溅 镀机真空腔抽真空装置。
背景技术：
光盘生产中常用的镀膜方法主要有蒸镀和溅镀。二十世纪的前 50年，世界各国科技人员经过大量的试验研究基本建立了溅射理论。 在二十世纪的后50年里，薄膜技术获得了腾飞，这主要得益于真空技 术在镀膜方面的应用，使真空镀膜实现了产业化。由于有了理论基础
和成熟的工艺，各种镀膜设备也不断推陈出新。其中Leybold公司较 早的开发出各种镀膜设备，也包括用于光盘生产的真空溅镀机。之后， 广泛用于光盘的溅镀机还有德国Balzers和Singulus公司的溅镀机。
蒸镀是在真空中将金属加热蒸发产生金属蒸气，使其附着在基板 上凝聚成薄膜。蒸镀的基板材质没有限制，从纸、金属到陶磁都能使 用。蒸镀有加热式蒸镀，还有电子枪加热式及离子辅助式蒸镀。蒸镀 是光盘母盘制作中常用的方式之一。
溅镀是通过离子碰撞而获得薄膜的一种工艺，主要分为两类阴 极溅镀和射频溅镀。阴极溅镀一般用于溅镀导体如铝、银或半导体。 射频溅镀一般用于溅镀非导体如。溅镀主要利用辉光放电将氩气离子 撞击耙材表面；靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。同时 用强力磁铁将电子呈螺旋状运动，加速靶材周围的氩气离子化，使得 氩气离子对阴极靶材的撞击机率增加，形成雪崩式的状态，以此提高 溅镀速率。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜好。
为了确保溅镀质量，实行阴极溅镀时对环境有较高的要求。首先 要在真空环境条件下，高真空可以减少氧化物的产生；使用惰性工艺 气体，通常为氩气，作为离子介质撞击靶材；形成电场——耙材为阴
极，盘片为阳极；在真空腔内，用强力磁铁产生磁场；由于溅镀时产 生高热，须用冷却水对阴极进行及时冷却。
光盘的溅镀过程先将真空腔抽真空达到设定值，将盘片放入腔 内，真空腔内盘片会被抽真空至高真空范围。注入氩气到真空腔，这 时真空腔的真空度降低，此时对靶材(阴极)和盘片(阳极)之间施 以几百伏特的直流电压，使氩气在电场中被离子化，产生氩离子及自 由电子、在电场的作用下，带正电荷的氩离子向阴极(靶材)加速， 而自由电子向阳极加速，被加速的氩离子和自由电子撞向其他氩原 子，因动能转移使更多的氩原子被离子化，最后产生雪崩现象，等离 子体持续自行放电。大量氩离子撞击靶材表面，氩离子的动能转移至 耙材原子， 一部份转化成耙材原子的动能，当靶材原子获得足够动能， 它们会脱离靶材表面并自由地在溅镀腔内移动，最后覆盖于盘片及腔 内其他表面。而氩离子撞击靶材的另一部份动能转化为热，因此靶材 必须用冷却水冷却。为使盘片溅镀层的厚度均匀，靶材周围的磁场分 布会提高等离子体的一致性。
对于溅镀机而言，真空腔是必不可少的，在进行溅镀前，需要对 真空腔进行抽真空，因此需要抽真空装置，在溅镀完成后，则需要解 除真空腔的真空状态，即对真空腔进行充气，因此需要充气装置。
如图1所示，现有的溅镀机，其真空腔的抽真空装置，包括真空
腔l、高速分子泵2、油式真空泵3，所述真空腔l的出口连接高速 分子泵2，高速分子泵2的出口通过导管4连接油式真空泵3。
当异常停机或停电时，由于真空腔的真空度非常高，在真空腔的 负压作用下，油式真空泵内的真空油就会沿着导管被吸到高速分子泵 及真空腔腔内，造成高速分子泵损坏、真空腔被污染。
发明内容
本实用新型的目的是对现有技术进行改进，提供一种溅镀机真空 腔抽真空装置，可以避免油式真空泵内的真空油被吸到高速分子泵及 真空腔腔内，采用的技术方案如下
本实用新型的溅镀机真空腔抽真空装置，包括真空腔、高速分子 泵、油式真空泵，其特征在于还包括电磁阀，所述真空腔的出口连 接高速分子泵，高速分子泵的出口通过导管连接油式真空泵，导管中 部连接电磁阀。当异常停机或停电时，电磁阀就会打开，使得导管与 外界连通，这样油式真空泵内的压力与外界的大气压相同，油式真空 泵内的真空油就不会受到真空腔的负压作用，因此油式真空泵内的真 空油不会在真空腔的负压作用沿着导管被吸入高速分子泵，从而起到 保护高速分子泵的目的。
本实用新型对照现有技术的有益效果是，由于设有电磁阀，因此 当异常停机或停电时，电磁阀就会打开，让导管与外界连通，使得油 式真空泵的真空油不会沿着导管被吸入高速分子泵，能够有效地保护 高速分子泵，实际使用效果好、结构简单、易于实现。
图1是本实用新型现有技术的结构示意图； 图2是本实用新型优选实施例的结构示意图。
具体实施方式
如图2所示，本优选实施例中的溅镀机真空腔抽真空装置，包括
真空腔l、高速分子泵2、油式真空泵3、电磁阀5，所述真空腔l的 出口连接高速分子泵2，高速分子泵2的出口通过导管4连接油式真 空泵3，导管4中部连接电磁阀5。
当异常停机或停电时，电磁阀5就会打开，使得导管4与外界连 通，这样油式真空泵3内的压力与外界的大气压相同，油式真空泵3 内的真空油就不会受到真空腔1的负压作用，因此油式真空泵3内的 真空油不会在真空腔1的负压作用沿着导管4被吸入高速分子泵2， 从而起到保护高速分子泵2的目的。
权利要求1、一种溅镀机真空腔抽真空装置，包括真空腔、高速分子泵、油式真空泵，其特征在于还包括电磁阀，所述真空腔的出口连接高速分子泵，高速分子泵的出口通过导管连接油式真空泵，导管中部连接电磁阀。
专利摘要一种溅镀机真空腔抽真空装置，包括真空腔、高速分子泵、油式真空泵，其特征在于还包括电磁阀，所述真空腔的出口连接高速分子泵，高速分子泵的出口通过导管连接油式真空泵，导管中部连接电磁阀。本实用新型对照现有技术的有益效果是，由于设有电磁阀，因此当异常停机或停电时，电磁阀就会打开，让导管与外界连通，使得油式真空泵的真空油不会沿着导管被吸入高速分子泵，能够有效地保护高速分子泵，实际使用效果好、结构简单、易于实现。
文档编号C23C14/34GK201209163SQ20082013927
公开日2009年3月18日 申请日期2008年10月14日 优先权日2008年10月14日
发明者郭晓明 申请人:广东中唱一帆科技发展有限公司