专利名称：蒸镀机的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种蒸镀机。
背景技术：
目前使用的蒸镀机主要是透过电子束将膜料蒸发，使材料沉积于被镀物上。而镀膜过程中会有以下的情形发生(1)当电子束持续对膜料进行蒸镀，坩锅在蒸镀腔内的位置固定不变，坩锅内的膜料相对镀膜伞架的高度会越来越低，造成蒸镀的时间越长电子束的能量需要越大，才能维持相同的镀率，因此，需额外设置一电子束功率控制器对电子束发射电子的功率进行控制；( 当膜料在坩锅内的高度越来越低时，电子束可能没有足够的能量使所述膜料进行蒸发。也即，越下面的膜料越不易被蒸发到。当换料时为维持膜料的洁净度，通常会全部换新，对于膜料的消耗很大，增加镀膜成本。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可提高膜料利用率的蒸镀机。一种蒸镀机，其包括一腔体、一膜料源、一蒸发源及一镀膜伞架。所述腔体包括一顶板及一与顶板相对的底板。所述镀膜伞架固设在所述腔体的顶板内侧。所述膜料源包括一坩埚座及一膜料。所述坩埚座开设有一收容所述膜料的收容槽。所述蒸镀机进一步包括一升降驱动组件、及一控制装置。所述升降驱动组件包括一固定板及一升降器。所述膜料源及所述蒸发源均固设在所述固定板上。所述固定板连接至所述升降器。所述升降器固定在所述腔体的底板上，并用于驱动所述固定板相对所述腔体的底板升降。所述控制装置设置在所述腔体内，与所述升降器电性连接，并用于控制所述升降器的升降量，以使所述收容槽内的所述膜料离所述镀膜伞架的高度始终保持不变。相对于现有技术，所述控制装置用于控制所述升降器的升降量，以使所述收容槽内的所述膜料离所述镀膜伞架的高度始终保持不变，因此，所述蒸发源可以在恒定功率下， 将膜料均勻蒸镀，提高膜料的利用率。。
图1为本发明实施方式提供的蒸镀机的示意图。
主要元件符号说明
蒸镀机100
腔体10
升降驱动组件20
膜料源30
蒸发源40
镀膜伞架50
控制装置60
顶板11
底板12
固定板22
升降器24
坩埚座32
膜料34
顶面322
底面324
收容槽320
承载孔51
待镀膜的基板200
重力传感器61
计算单元62
升降器控制单元63
驱动部241
升降部24具体实施例方式请参阅图1，本发明提供的蒸镀机100，其用于对待镀膜基板200进行蒸镀。所述蒸镀机100包括一腔体10、一升降驱动组件20、一膜料源30、一蒸发源40、一镀膜伞架50、 及一控制装置60。所述腔体10为一中空箱体，其包括一顶板11、一与顶板11相对的底板12。所述升降驱动组件20设置在所述腔体10的底板12上。该升降驱动组件20包括一固定板22及一升降器M。所述固定板22承载在所述升降器M上并可在所述升降器M 的驱动下相对所述底板12升降。具体地，所述升降器M包括一驱动部241及一可相对驱动部241升降的升降部M2。所述驱动部Ml固设在所述腔体10的底板12上。所述固定板22承载在所述升降部242上。所述升降器M可以为一汽缸或一升降马达。该升降器对用于驱动所述固定板22相对所述腔体10的底板12升降。所述膜料源30固定在所述固定板22上。该膜料源30包括一坩埚座32及一膜料 ；34。所述坩埚座32包括一顶面322及一与所述顶面322相对的底面324。所述坩埚座32 的顶面322开设有一由所述顶面322朝向所述底面324内凹的收容槽320。所述膜料34收容在所述收容槽320内。本实施方式中，所述膜料34选用Si02。所述蒸发源40固定在所述固定板22上，并与所述膜料源30相邻设置，该蒸发源 40用于使所述膜料源30发射的膜料加热至蒸汽状态。本实施方式中，所述蒸发源40为电子枪。所述镀膜伞架50固设在所述腔体10的顶板11内侧。该镀膜伞架50具有多个承载孔51，每个承载孔51内放置有一待镀膜的基板200。所述待镀膜的基板200可为光学镜片、金属基板等，本实施方式中，所述待镀膜的基板200为光学镜片。所述待镀膜的基板200 欲镀膜的表面朝向所述膜料源30及所述蒸发源40。
所述控制装置60设置在所述腔体10内，并电性连接至所述升降器24，用于控制所述升降器M的升降量。该控制装置60包括一重力传感器61、一计算单元62、及一升降器控制单元63。所述重力传感器61设置在所述坩埚座32的收容槽320的底端，用于感测所述收容槽320内的所述膜料34的重量。所述计算单元62电性连接至所述重力传感器61， 用于计算消耗的所述膜料；34在收容槽320的高度。由于所述收容槽320的体积、所述膜料 34的密度都一定，因此，随着所述膜料34重量的减小，便可计算出消耗的所述膜料34在收容槽320的高度。所述升降器控制单元63电性连接至所述计算单元62，所述升降器控制单元63用于根据所述计算单元62计算出的消耗的所述膜料34在收容槽320的高度来驱动所述升降器M带动所述固定板22升高同样的高度，以使所述收容槽320内的所述膜料34 离所述镀膜伞架50的高度始终保持不变。所述控制装置用于控制所述升降器的升降量，以使所述收容槽内的所述膜料离所述镀膜伞架的高度始终保持不变，因此，所述蒸发源可以在恒定功率下，将膜料均勻蒸镀， 提高膜料的利用率。可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种蒸镀机，其包括一腔体、一膜料源、一蒸发源及一镀膜伞架，所述腔体包括一顶板及一与顶板相对的底板，所述镀膜伞架固设在所述腔体的顶板内侧，所述膜料源包括一坩埚座及一膜料，所述坩埚座开设有一收容所述膜料的收容槽，其特征在于所述蒸镀机进一步包括一升降驱动组件、及一控制装置，所述升降驱动组件包括一固定板及一升降器，所述膜料源及所述蒸发源均固设在所述固定板上，所述固定板连接至所述升降器，所述升降器固定在所述腔体的底板上，并用于驱动所述固定板进行相对所述腔体的底板升降，所述控制装置设置在所述腔体内，与所述升降器电性连接，并用于控制所述升降器的升降量，以使所述收容槽内的所述膜料离所述镀膜伞架的高度始终保持不变。
2.如权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于所述坩埚座包括一顶面及一与所述顶面相对的底面，所述收容槽是由所述坩埚座的顶面朝向所述底面内凹而成，所述膜料收容在所述收容槽内。
3.如权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于所述蒸发源为电子枪。
4.如权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于所述蒸发源与所述膜料源相邻设置，该蒸发源用于使所述膜料源发射的膜料加热至蒸汽状态。
5.如权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于该镀膜伞架具有多个承载孔，每个承载孔内放置有一待镀膜的基板。
6.如权利要求2所述的蒸镀机，其特征在于所述控制装置包括一重力传感器、一计算单元、及一升降器控制单元，所述重力传感器设置在所述坩埚座的收容槽的底端，用于感测所述收容槽内的所述膜料的重量，所述计算单元电性连接至所述重力传感器，用于计算消耗的所述膜料在收容槽的高度，所述升降器控制单元用于根据所述计算单元计算出的消耗的所述膜料在收容槽的高度来驱动所述升降器带动所述固定板升高同样的高度。
7.如权利要求1所述的蒸镀机，其特征在于所述升降器包括一驱动部及一相对驱动部升降的升降部，所述驱动部固设在所述腔体的底板上，所述固定板承载在所述升降器的升降部上并在所述升降器的驱动下相对所述底板升降。
全文摘要
一种蒸镀机，其包括一腔体、一离子发射源、一蒸发源及一镀膜伞架。腔体包括一顶板及一与顶板相对的底板。镀膜伞架固设在所述腔体的顶板内侧。离子发射源包括一坩埚座及一膜料。所述坩埚座开设有一收容所述膜料的收容槽。所述蒸镀机进一步包括一升降驱动组件及一控制装置。升降驱动组件包括一固定板及一升降器。离子发射源及蒸发源均固设在所述固定板上。固定板连接至升降器。升降器固定在所述腔体的底板上，并用于驱动所述固定板进行相对所述腔体的底板升降。控制装置设置在所述腔体内，与升降器电性连接，并用于控制升降器的升降量，以使收容槽内的膜料离镀膜伞架的高度始终保持不变。
文档编号C23C14/30GK102312200SQ201010213000
公开日2012年1月11日 申请日期2010年6月30日 优先权日2010年6月30日
发明者吴佳颖, 廖名扬 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司