专利名称：镀膜用的遮挡组件及其应用的镀膜装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种镀膜用的遮挡组件及其应用的镀膜装置。
背景技术：
由于利用薄膜制程技术所生产的半导体产品和精密机械产品具有较高的品质及较好的性能，因此，薄膜制程技术被广泛应用于半导体工业及精密机械，并获得了迅速的发展。一般地，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。Ichiki，M.等人在 2003 年 5 月发表于 2003 Symposium on Design，Test， Integration and Packagingof MEMS/MOEMS 的论文Thin film formation-a fabrication onnon-planar surface by spray coating method中介绍了通过喷涂在非球面透镜上形成薄膜的方法。对待镀膜产品的镀膜过程可通过镀膜装置实现。镀膜装置一般包括镀膜伞架、膜料源及修正板。所述镀膜伞架用于承载多个待镀膜产品。所述修正板安装在膜料源及镀膜伞架之间，用于调整待镀膜产品的镀膜厚度以及镀膜区域，其对于不同的待镀膜产品和镀膜条件具有不同的形状和结构。现有技术中，由于修正板只能通过人工的方式或另行制造、 安装其它型号的修正板的方式来调节修正板的形状和结构，因此，不但降低了生产效率，而且提高了生产成本，不利于工业生产的进行。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可根据待镀膜产品及镀膜条件自动调整形状的镀膜用的遮挡组件及其应用的镀膜装置。一种镀膜用的遮挡组件，其包括一个支撑板、第一活动叶片阵列、第二活动叶片阵列。所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别设置在所述支撑板相对的两侧边上。 所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别包括多个活动叶片。所述遮挡组件进一步包括多个驱动组件及多个控制单元。所述多个活动叶片分别与所述多个驱动组件连接。所述多个控制单元分别与所述多个驱动组件电性连接，用于控制所述驱动组件的运动，以改变所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列的形状。—种镀膜装置，其用于对待镀膜基板进行蒸镀，所述镀膜装置包括一腔体、一膜料源、一蒸发源、一镀膜伞架，所述腔体包括一顶板及一与顶板相对的底板，所述镀膜伞架固设在所述腔体的顶板内侧，所述膜料源及所述蒸发源设置在所述腔体的底板上，所述膜料源包括一坩埚座及一膜料，所述坩埚座用于收容所述膜料。所述镀膜装置进一步包括设置在所述镀膜伞架与所述膜料源之间的遮挡组件。所述遮挡组件包括一个支撑板、第一活动叶片阵列、第二活动叶片阵列。所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别设置在所述支撑板相对的两侧边上。所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别包括多个活动叶片。所述遮挡组件进一步包括多个驱动组件及多个控制单元。所述多个活动叶片分别与所述多个驱动组件连接。所述多个控制单元分別与所述多个驱动组件电性连接，用于控制 所述驱动组件的运动，以改变所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列的形状。相对于现有技木，本发明的遮挡组件包括多个驱动组件及多个控制単元。遮挡组 件可以根据待镀膜基板的镀膜要求，通过所述控制单元分别控制对应的驱动组件来改变所 述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列的形状，从而调整、改变遮挡组件对待镀膜基板 的遮挡面积。因此，本发明的镀膜遮挡组件可在不同待镀物品的不同镀膜要求下使用。
图1为本发明实施方式提供的镀膜装置的示意图；图2为图1中的镀膜装置的遮挡组件的第一状态立体组装示意图；图3为图1中的镀膜装置的遮挡组件的第二状态立体组装示意图。主要元件符号说明镀膜装置100待镀膜基板200腔体10膜料源20蒸发源30镀膜伞架40遮挡组件50顶板11底板12第一侧板13坩埚座22膜料24顶面222底面224收容槽220承载孔41支撑板51第一活动叶片阵列52第二活动叶片阵列53驱动组件54控制单元55第一侧边511第二侧边512活动叶片520马达541驱动齿轮542齿条543
限位件544
具体实施例方式请参阅图1，本发明实施方式所提供的镀膜装置100，其用于对待镀膜基板200进行蒸镀。所述镀膜装置100包括一腔体10、分别容纳于所述腔体10内的一膜料源20、一蒸发源30、一镀膜伞架40、及一遮挡组件50。所述腔体10为一中空箱体，其包括一顶板11、一与顶板11相对的底板12及多块连接所述顶板11及底板12的第一侧板13。所述膜料源20固定在所述腔体10的底板12上。该膜料源20包括一坩埚座22 及一膜料24。所述坩埚座22包括一顶面222及一与所述顶面222相对的底面224。所述坩埚座22的顶面222开设有一由所述顶面222朝向所述底面224内凹的收容槽220。所述膜料M收容在所述收容槽220内。所述蒸发源30固定在所述底板12上，并与所述膜料源20相邻设置，该蒸发源30 用于使所述膜料源20内的膜料对加热至蒸汽状态。本实施方式中，所述蒸发源30为电子枪。所述镀膜伞架40固设在所述腔体10的顶板11上。该镀膜伞架40具有多个承载孔41，每个承载孔41内放置有一待镀膜基板200。所述待镀膜基板200可为光学镜片、金属基板等，本实施方式中，所述待镀膜基板200为光学镜片。其欲镀膜的表面朝向所述膜料源20及所述蒸发源30。所述遮挡组件50固设在所述腔体10的第一侧板13上，且位于所述蒸发源30与所述镀膜伞架40之间。请一并参考图2、图3，该遮挡组件50包括一个支撑板51、第一活动叶片阵列52、第二活动叶片阵列53、多个驱动组件M及多个控制单元55。所述第一活动叶片阵列52与第二活动叶片阵列53分别设置在所述支撑板51相对的两侧边上，并可分别在所述驱动组件M的驱动下相对所述支撑板51运动。所述支撑板51为一方形平板，其包括一第一侧边511及一与所述第一侧边511相对的第二侧边512，所述第一活动叶片阵列52与第二活动叶片阵列53分别设置在所述第一侧边511及第二侧边512上。本实施方式中，所述第一活动叶片阵列52与第二活动叶片阵列53分别包括七个相互邻接的活动叶片520。所述多个驱动组件M的数量与所述活动叶片520的数量相对应。本实施方式中， 所述多个驱动组件讨的数量为十四个。每个驱动组件讨包括一马达Ml、一驱动齿轮M2、 一齿条543及一限位件M4。所述驱动齿轮542安装于马达541上，并在马达541的驱动下转动。所述齿条543设置在所述支撑板51上且其摆放位置分别垂直于所述第一侧边511 及第二侧边512。所述齿条M3的一端分别与一对应的活动叶片520相连接。所述限位件 544为两个限位条。所述两个限位条分别垂直于所述第一侧边511及第二侧边512且彼此间隔设置，用于容置对应的齿条M3，使所述齿条M3在所述马达Ml的驱动下，在所述限位条内沿垂直所述第一侧边511及第二侧边512的方向运动，以带动与所述齿条543相连接的活动叶片520运动。所述控制单元55分别连接至对应的驱动组件M的马达Ml。所述控制单元55根据不同的镀膜要求，例如待镀膜基板200的种类、待镀膜基板200在镀膜伞架40上的位置、膜料M的种类等，存储有对应的各马达541所需走的步数，以根据待镀膜基板200的镀膜要求改变各第一活动叶片阵列52与第二活动叶片阵列53的形状。可以理解的是，所述多个驱动组件M、活动叶片520的数量并不限于为十四个，其可根据设计需求设置，并不限于本实施方式。本发明的遮挡组件50包括多个驱动组件M及多个控制单元55。遮挡组件50可以根据待镀膜基板200的镀膜要求，通过所述控制单元55分别控制所述对应的驱动组件M 来改变所述第一活动叶片阵列52与第二活动叶片阵列53的形状，从而调整、改变遮挡组件 50对待镀膜基板200的遮挡面积。因此，本发明的镀膜遮挡组件50可在不同待镀物品的不同镀膜要求下使用。可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种镀膜用的遮挡组件，其包括一个支撑板、第一活动叶片阵列、第二活动叶片阵列，所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别设置在所述支撑板相对的两侧边上， 所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别包括多个活动叶片，其特征在于所述遮挡组件进一步包括多个驱动组件及多个控制单元，所述多个活动叶片分别与所述多个驱动组件连接，所述多个控制单元分别与对应的驱动组件电性连接，用于控制对应的驱动组件运动，以改变所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列的形状。
2.如权利要求1所述的遮挡组件，其特征在于所述支撑板为一方形平板，包括一第一侧边及一与所述第一侧边相对的第二侧边，所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别设置在所述第一侧边及第二侧边上。
3.如权利要求2所述的遮挡组件，其特征在于每个所述驱动组件包括一马达、一驱动齿轮及一齿条，所述驱动齿轮安装于马达上，并在马达的驱动下转动，所述齿条设置在所述支撑板上且所述齿条的摆放位置分别垂直于所述第一侧边及第二侧边，所述齿条的一端分别与对应的叶片相连接，所述齿条在马达的带动下沿垂直所述第一侧边及第二侧边的方向运动。
4.如权利要求3所述的遮挡组件，其特征在于每个所述驱动组件进一步包括一限位件，所述限位件为两个限位条，所述两个限位条分别垂直于所述第一侧边及第二侧边且彼此间隔设置，用于容置对应的齿条，使所述齿条在所述马达的驱动下，在所述限位条内沿垂直所述第一侧边及第二侧边的方向运动。
5.一种镀膜装置，用于对待镀膜基板进行蒸镀，所述镀膜装置包括一腔体、一膜料源、 一蒸发源、一镀膜伞架及一遮挡组件，所述腔体包括一顶板及一与顶板相对的底板，所述镀膜伞架固设在所述腔体的顶板内侧，所述膜料源及所述蒸发源设置在所述腔体的底板上， 所述膜料源包括一坩埚座及一膜料，所述坩埚座用于收容所述膜料，所述遮挡组件包括一个支撑板、第一活动叶片阵列、第二活动叶片阵列，所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别设置在所述支撑板相对的两侧边上，所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别包括多个活动叶片，其特征在于所述遮挡组件进一步包括多个驱动组件及多个控制单元，所述多个活动叶片分别与所述多个驱动组件连接，所述多个控制单元分别与对应的驱动组件电性连接，用于控制对应的驱动组件运动，以改变所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列的形状。
6.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于所述支撑板为一方形平板，包括一第一侧边及一与所述第一侧边相对的第二侧边，所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别设置在所述第一侧边及第二侧边上，每个所述驱动组件包括一马达、一驱动齿轮及一齿条，所述驱动齿轮安装于马达上，并在马达的驱动下转动，所述齿条设置在所述支撑板上且所述齿条的摆放位置分别垂直于所述第一侧边及第二侧边，所述齿条的一端分别与对应的活动叶片相连接，所述齿条在马达的带动下沿垂直所述第一侧边及第二侧边的方向运动。
7.如权利要求6所述的镀膜装置，其特征在于所述控制单元根据各个不同的待镀膜基板的镀膜要求，存储有对应的各马达所需走的步数，所述控制单元根据待镀膜基板的镀膜要求改变各第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列的形状。
8.如权利要求6所述的镀膜装置，其特征在于每个所述驱动组件进一步包括一限位件，所述限位件为两个限位条，所述两个限位条分别垂直于所述第一侧边及第二侧边且彼此间隔设置，用于容置对应的齿条，使所述齿条在所述马达的驱动下，在所述限位条内沿垂直所述第一侧边及第二侧边的方向运动。
9.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于所述蒸发源与所述膜料源相邻设置，该蒸发源用于使所述膜料源发射的膜料加热至蒸汽状态。
10.如权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于所述腔体进一步包括垂直连接所述顶板及底板的第一侧板，所述遮挡组件固设在所述第一侧板上。
全文摘要
一种镀膜用的遮挡组件，其包括一支撑板、一第一活动叶片阵列、一第二活动叶片阵列。所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别设置在所述支撑板相对的两侧边上。所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列分别包括多个活动叶片。所述遮挡组件进一步包括多个驱动组件及多个控制单元。所述多个活动叶片分别与所述多个驱动组件连接。所述多个控制单元分别与所述多个驱动组件电性连接，用于控制对应的驱动组件运动，以改变所述第一活动叶片阵列与第二活动叶片阵列的形状。本发明还涉及应用该遮挡组件的镀膜装置。
文档编号C23C14/04GK102443759SQ20101050314
公开日2012年5月9日 申请日期2010年10月11日 优先权日2010年10月11日
发明者吴佳颖, 廖名扬 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司