专利名称：镀膜机的真空度测量结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜机，尤其涉及一种镀膜机得真空度测量结构。
背景技术：
目前，镀膜机真空室的真空度高低是直接影响所镀制薄膜的质量关键因素之一。 特别是精密度要求高的光学和电子元件的镀膜，对镀膜机真空室的真空度提出了更高的要求。因为只有在高真空度下，残余气体分子量少且不易和反应气体结合发生化学反应，分子的自由程大，因而能减低薄膜的非化学计量比的缺陷，使膜层结合得更牢固，从而提高薄膜的质量，进而有利于提高各类光学元件和电子器件的可靠性。因此，镀膜机真空室内真空度的测量就显得尤为重要。镀膜机的抽真空管道一般设置在镀膜机腔体的顶部。而目前，如图I所示，测量镀膜机真空室内的真空度，一般是在镀膜机腔体I顶部靠近抽真空管2位置设置真空测量点， 并用电离真空计3来控制真空度。而当设备在对镀膜机腔体I内抽真空时，往往是靠近抽真空管2的位置气体先被抽完，而位于腔体底部的气体会慢被抽到，这样的话就会变成为腔体内上部和下部的真空度有差别。而电离真空计显示的是腔体顶部的真空度，当我们通过底部来对真空室充入氧气时以调整真空度时，则用腔体顶部的电离真空计来控制真空度在2X10—2帕，而此时电离真空计显示的真空度是腔体顶部的真空度，这时底部的真空可能还在更低一些，可能要有5X10_2帕左右，这样会对成膜造成一定影响。膜料被充入过多的氧气后，会影响膜料的光学性能，降低膜料的折射率，这样就达不到所需要光学曲线，或者说光学曲线会有次峰、截止深度达不到等等，导致镀出不良的产品。因此，如何准确的测量镀膜机真空室内的真空度，是本实用新型要研究的问题。
发明内容本实用新型提供一种镀膜机的真空度测量结构，其目的是解决现有技术中镀膜机真空室内真空度测量不准确的问题。为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是一种镀膜机的真空度测量结构， 包括镀膜机腔体、与镀膜机腔体内部连通的抽真空管及电离真空计；所述抽真空管的端口位于镀膜机腔体的上部；所述电离真空计位于镀膜机腔体的底部，并与其连通。上述技术方案中的有关内容解释如下I、上述方案中，所述电离真空计是基于一定条件下，待测气体的压力与气体电离产生的离子流呈正比关系的原理制作的真空测量仪器。它由电离规管和电路组成，通过测量气体在控制条件下电离所产生的离子流来测定压力的一种真空计。由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点由于本实用新型将电离真空计设置在镀膜机腔体的底部，当通过底部来对腔体内充入氧气时以调整真空度时，此时电离真空计显示的真空度是腔体底部的真空度，这样能保证腔体内的真空度准确，不会充入过多的氧气。从而不影响膜料的光学性能、膜料的折射率，避免了不良品的镀出。
附图I为现有技术结构示意图；附图2为本实用新型结构示意图。以上附图中1、镀膜机腔体；2、抽真空管；3、电离真空计。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述实施例如图2所示，一种镀膜机的真空度测量结构，包括镀膜机腔体I、与镀膜机腔体I内部连通的抽真空管2及电离真空计3 ;所述抽真空管2的端口位于镀膜机腔体I的上部；所述电离真空计3位于镀膜机腔体I的底部，并与其连通。将电离真空计3设置在镀膜机腔体I的底部，当对通过镀膜机腔体I的底部来对腔体充入氧气时以调整真空度时，此时电离真空计显示的真空度是镀膜机腔体I底部的真空度，这样能保证腔体内的真空度准确，不会充入过多的氧气。从而不影响膜料的光学性能、膜料的折射率，避免了不良品的镀出。上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。 凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1. 一种镀膜机的真空度测量结构，包括镀膜机腔体(I)、与镀膜机腔体a)内部连通的抽真空管(2)及电离真空计(3);所述抽真空管(2)的端口位于镀膜机腔体(I)的上部；其特征在于所述电离真空计(3)位于镀膜机腔体(I)的底部，并与其连通。
专利摘要一种镀膜机的真空度测量结构，包括镀膜机腔体、与镀膜机腔体内部连通的抽真空管及电离真空计；所述抽真空管的端口位于镀膜机腔体的上部；所述电离真空计位于镀膜机腔体的底部，并与其连通。本实用新型解决了现有技术中镀膜机真空室内真空度测量不准确的问题。
文档编号C23C14/56GK202347093SQ20112041699
公开日2012年7月25日 申请日期2011年10月28日 优先权日2011年10月28日
发明者朱文斌 申请人:苏州灵菱照明镀膜科技有限公司