专利名称：玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及研磨系统，尤其涉及一种玻璃研磨机。
背景技术：
在玻璃生产中，很难一次性生产出表面足够规则的玻璃。往往需要进行二次加工，在二次加工中往往要通过研磨系统对表面进行打磨。在使用现有的玻璃研磨机时，需要及时给研磨平台供给研磨料。而且研磨料的供给力度、纯度、湿度、浓度会影响研磨效果。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，本实用新型改进了研磨料供给系统的结构，可有效控制研磨料的供给压力。本实用新型所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统包括一机架，所述机架上设有一研磨平台，所述研磨平台可转动连接在所述机架上，所述研磨平台上设有用于进行研磨工作的研磨盘，所述研磨盘连接一驱动其转动的研磨动力系统；玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统还包括一控制系统，所述控制系统包括一微型处理器系统，所述微型处理器系统连接所述研磨动力系统，其特征在于，玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统还包括一研磨料供给系统，所述研磨料供给系统设有一供料泵；所述供料泵的控制端连接所述微型处理器系统；所述研磨平台上方设有研磨料投放口，所述研磨料供给系统连接所述研磨料投放口 ；所述研磨料投放口下方设有一整流罩，所述整流罩采用锥形罩体，所述锥形罩体的顶部位于所述研磨料投放口下方，所述锥形罩体罩在所述研磨平台上方，且所述锥形罩体下方的外径小于所述研磨平台内径。本实用新型通过所述微型处理器系统控制供料泵的泵压，进而控制研磨料的供给压力。同时，本实用新型设有锥形罩体，锥形罩体可有效控制研磨料的供给速度和浓度。[0011 ] 所述研磨料投放口处设有一压力传感器，所述压力传感器连接所述微型传感器系统。进而将研磨料投放口处的压力信息传送给所述微型处理器系统，微型处理器系统根据压力信息调整供料泵，实现闭环控制。所述压力传感器可以位于所述研磨料投放口，或者位于所述锥形罩体的顶部。作为一种优选方案，所述机架上设有一机械臂，所述机械臂上设有一玻璃吸盘；所述机械臂为一至少具有水平旋转、上下移动自由度的机械臂；所述研磨盘位于所述机械臂水平旋转覆盖范围以内。本实用新型可以利用机械臂移动玻璃，自动化程度高，人工成本低。而且生产效率高。所述机械臂设有机械臂动力系统，所述微型处理器系统连接所述机械臂动力系统。所述微型处理器系统通过控制所述机械臂动力系统控制所述机械臂，从而控制机械臂所连接的所述玻璃吸盘，进而通过所述玻璃吸盘抓取待研磨玻璃板，并将所述待研磨玻璃板放置到指定位置。所述机械臂上设有21个玻璃吸盘，各个吸盘分别通过转轴连接在所述机械臂上，并通过所述转轴连接一电动机。通过电动机驱动玻璃吸盘转动，进行研磨。所述玻璃吸盘下方设有一压力传感器，所述压力传感器设有一承压部件，所述承压部件的一端抵住所述待研磨玻璃板；所述压力传感器连接所述微型处理器系统，进而将待研磨玻璃板上的压力变化传送给微型处理器系统，微型处理器系统根据压力变化控制和调整机械臂对玻璃吸盘施加的压力。所述玻璃吸盘通过一转轴连接在所述机械臂上，并通过所述转轴连接一电动机，通过电动机驱动所述玻璃吸盘转动。通过使玻璃吸盘转动，使待研磨玻璃板同时实现多种模式的复合式研磨。所述研磨动力系统设有一电机，所述电机通过一变速箱连接所述研磨盘，所述电机通过一变频器连接电源系统。通过变速箱稳定转速，通过变频器精确控制和调整电机转速。
图1为本实用新型的电路结构框图。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示进一步阐述本实用新型。参照图1，玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统包括机架、控制系统、研磨料供给系统等。控制系统包括微型处理器系统5，微型处理器系统5连接研磨动力系统
Io机架上设有一研磨平台，研磨平台可转动连接在机架上，研磨平台上设有用于进行研磨工作的研磨盘，研磨盘连接一驱动其转动的研磨动力系统。研磨盘上还可以设有研磨花纹。研磨料供给系统设有一供料泵2，供料泵2的控制端连接微型处理器系统5，研磨平台上方设有研磨料投放口，研磨料供给系统连接研磨料投放口 ；研磨料投放口下方设有一整流罩，整流罩采用锥形罩体，锥形罩体的顶部位于研磨料投放口下方，锥形罩体罩在研磨平台上方，且锥形罩体下方的外径小于研磨平台内径。本实用新型通过微型处理器系统5控制供料泵2的泵压，进而控制研磨料的供给压力。同时，本实用新型设有锥形罩体，锥形罩体可有效控制研磨料的供给速度和浓度。研磨料投放口处设有一压力传感器3，压力传感器3连接微型传感器系统。进而将研磨料投放口处的压力信息传送给微型处理器系统5，微型处理器系统5根据压力信息调整供料泵2，实现闭环控制。压力传感器3可以位于研磨料投放口，或者位于锥形罩体的顶部。作为一种优选方案，机架上设有一机械臂，机械臂上设有一玻璃吸盘；机械臂为一至少具有水平旋转、上下移动自由度的机械臂；研磨盘位于机械臂水平旋转覆盖范围以内。本实用新型可以利用机械臂移动玻璃，自动化程度高，人工成本低。而且生产效率高。机械臂设有机械臂动力系统4，微型处理器系统5连接机械臂动力系统4。微型处理器系统5通过控制机械臂动力系统4控制机械臂，从而控制机械臂所连接的玻璃吸盘，进而通过玻璃吸盘抓取待研磨玻璃板，并将待研磨玻璃板放置到指定位置。机械臂上设有2 8个玻璃吸盘，各个吸盘分别通过转轴连接在机械臂上，并通过所述转轴连接一电动机。通过电动机驱动玻璃吸盘转动，进行研磨。玻璃吸盘下方设有一压力传感器3，压力传感器3设有一承压部件，承压部件的一端抵住待研磨玻璃板；压力传感器3连接微型处理器系统5，进而将待研磨玻璃板上的压力变化传送给微型处理器系统5，微型处理器系统5根据压力变化控制和调整机械臂对玻璃吸盘施加的压力。玻璃吸盘通过一转轴连接在机械臂上，并通过转轴连接一电动机，通过电动机驱动玻璃吸盘转动。通过使玻璃吸盘转动，使待研磨玻璃板同时实现多种模式的复合式研磨。研磨动力系统I设有一电机，电机通过一变速箱连接研磨盘，电机通过一变频器连接电源系统。通过变速箱稳定转速，通过变频器精确控制和调整电机转速。以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
权利要求1.玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统包括一机架，所述机架上设有一研磨平台，所述研磨平台可转动连接在所述机架上，所述研磨平台上设有用于进行研磨工作的研磨盘，所述研磨盘连接一驱动其转动的研磨动力系统； 玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统还包括一控制系统，所述控制系统包括一微型处理器系统，所述微型处理器系统连接所述研磨动力系统， 其特征在于，玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统还包括一研磨料供给系统，所述研磨料供给系统设有一供料泵； 所述供料泵的控制端连接所述微型处理器系统； 所述研磨平台上方设有研磨料投放口，所述研磨料供给系统连接所述研磨料投放口 ；所述研磨料投放口下方设有一整流罩，所述整流罩采用锥形罩体，所述锥形罩体的顶部位于所述研磨料投放口下方，所述锥形罩体罩在所述研磨平台上方，且所述锥形罩体下方的外径小于所述研磨平台内径。
2.根据权利要求1所述的玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，其特征在于，所述研磨料投放口处设有一压力传感器，所述压力传感器连接所述微型传感器系统。
3.根据权利要求2所述的玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，其特征在于，所述压力传感器位于所述锥形罩体的顶部。
4.根据权利要求1所述的玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，其特征在于，所述机架上设有一机械臂，所述机械臂上设有一玻璃吸盘； 所述机械臂为一至少具有水平旋转、上下移动自由度的机械臂； 所述研磨盘位于所述机械臂水平旋转覆盖范围以内。
5.根据权利要 求4所述的玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，其特征在于，所述玻璃吸盘下方设有一压力传感器，所述压力传感器设有一承压部件，所述承压部件的一端抵住所述待研磨玻璃板； 所述压力传感器连接所述微型处理器系统。
6.根据权利要求5所述的玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，其特征在于， 所述机械臂设有机械臂动力系统，所述微型处理器系统连接所述机械臂动力系统。
7.根据权利要求5所述的玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，其特征在于，所述玻璃吸盘通过一转轴连接在所述机械臂上，并通过所述转轴连接一电动机，通过电动机驱动所述玻璃吸盘转动。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，其特征在于，所述研磨动力系统设有一电机，所述电机通过一变速箱连接所述研磨盘，所述电机通过一变频器连接电源系统。
9.根据权利要求4至7中任意一项所述的玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统，其特征在于，所述机械臂上设有21个玻璃吸盘，各个吸盘分别通过转轴连接在所述机械臂上，并通过所述转轴连接一电动机。
专利摘要本实用新型涉及一种玻璃研磨机。玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统包括一机架，机架上设有一研磨平台，研磨平台可转动连接在机架上，研磨平台上设有研磨盘，研磨盘连接一研磨动力系统。玻璃平面研磨机系统的具有整流罩的研磨系统还包括一控制系统，控制系统包括一微型处理器系统，微型处理器系统连接研磨动力系统，还包括一研磨料供给系统，研磨料供给系统设有一供料泵；供料泵的控制端连接微型处理器系统；研磨平台上方设有研磨料投放口，研磨料供给系统连接研磨料投放口；研磨料投放口下方设有一锥形罩体，锥形罩体的顶部位于研磨料投放口下方，锥形罩体罩在所述研磨平台上方，且锥形罩体下方的外径小于所述研磨平台内径。
文档编号B24B37/34GK202910711SQ20122061659
公开日2013年5月1日 申请日期2012年11月20日 优先权日2012年11月20日
发明者朱福君, 陈学军, 朱纪江 申请人:上海光远橡塑制品有限公司