一种连续卷绕镀膜的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种连续卷绕镀膜机，包括真空室，真空室连接有抽真空系统，真空室内设有靶极和卷绕系统，其特征在于：真空室连接有超低温系统，所述抽真空系统、靶极和卷绕系统均电连接有PLC控制系统，所述PLC控制系统电连接有中频电源和直流电源。本实用新型设备配置的分子泵抽真空系统快速可靠，抽速快、稳定性高，PLC控制系统采用人机界面触摸屏，使得卷绕系统转速平稳、稳定性高、适用面广，产品具有高精度、超薄镀层、高均匀度、稳定性好的优点。
【专利说明】一种连续卷绕镀膜机
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种工业镀膜设备，具体地说，是涉及一种连续卷绕镀膜机。
【背景技术】
[0002]卷绕镀膜是应用物理气相沉积的方法在柔性基材上连续镀膜的技术。在柔性基材表面镀膜有两种功用:一是功能性，二是装饰性。所谓功能性就是在塑料薄膜、纸、金属带、布等柔性基材上利用不同的镀膜方式镀上半导体膜、金属膜、绝缘膜、光学多层膜等薄膜，不仅可以提高其表面硬度、力学强度和耐水性能，还可以增加耐油性和耐溶剂性、提高耐老化性，使其具有导电性、反射性、吸收性、绝缘性、阻隔性以及防止静电等，从而使这些柔性材料具有一些特殊功能。例如:用于制造触摸屏、电容器、汽车贴膜、建筑贴膜(Low-Ε膜)。或因形成金属或陶瓷膜，从而阻止水和溶剂侵入，不被化学药品所腐蚀，便于焊接等。功能性卷绕镀膜对于镀膜的厚度、均匀度要求很高，目前国内的生产设备无法达到高精度、超薄镀层、高均匀度的连续卷绕镀膜。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的在于克服上述传统技术的不足之处，提供一种高精度、超薄镀层、高均匀度的连续卷绕镀膜机。
[0004]本实用新型的目的是通过以下技术措施来达到的:
[0005]一种连续卷绕镀膜机，包括真空室，真空室连接有抽真空系统，真空室内设有靶极和卷绕系统，其特征在于:真空室连接有超低温系统，所述抽真空系统、靶极和卷绕系统均电连接有PLC控制系统，所述PLC控制系统电连接有中频电源和直流电源。PLC控制系统能够通过程序控制真空室内的温度、注入惰性气体的浓度、靶极上的电压等参数，尤其是能够很好地控制卷绕系统的卷绕速度和卷绕系统上基材的张力，这些使得本实用新型的镀膜质量得到极大的提高，不仅镀膜的均匀度提高，而且能够进行超薄镀膜，甚至薄至lum。
[0006]进一步地说，所述卷绕系统包括相互平行设置的收卷辊、上导向辊、上张力辊、上主动辊、下主动辊、下张力辊、下导向辊和放卷辊，所述靶极与上主动辊和下主动辊相对设置。卷绕系统工作时将准备镀膜的基材卷在放卷辊上，基材的一端依次经下导向辊、下张力辊、下主动辊进入磁控溅射区，磁控溅射区出来的基材经上主动辊、上张力辊、上导向辊后收卷在收卷辊上。
[0007]进一步地说，所述靶极设置有两排，两排靶极为相互平行设置。两排靶极同时工作，保证镀膜具有更好的的均匀度。
[0008]进一步地说，所述抽真空系统为分子泵。分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子，使之获得定向速度，从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空栗。
[0009]进一步地说，所述超低温系统为深冷泵。在高真空环境中都存在着一定的残余气体，80%以上是水蒸汽、油蒸汽及其它高沸点的蒸汽，深冷泵能够达到-120°C以下低温，通过放置在真空室中制冷盘管表面的低温冷凝效应，迅速捕集真空系统的残余气体，从而大大缩短抽真空的时间、获得更加洁净的真空环境。
[0010]由于采用了上述技术方案，与现有技术相比，本实用新型的优点是:
[0011]本实用新型提供了一种连续卷绕镀膜机，设备配置的分子泵抽真空系统快速可靠，真空度高、稳定性高，PLC控制系统采用人机界面触摸屏，使得卷绕系统转速平稳、稳定性高、适用面广，产品具有高精度、超薄镀层、高均匀度、稳定性好的优点。
[0012]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步说明。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]附图1是本实用新型一种连续卷绕镀膜机的结构示意图；
[0014]附图2是本实用新型一种连续卷绕镀膜机的真空室内部结构示意图。
【具体实施方式】
[0015]实施例:如附图1和附图2所示，一种连续卷绕镀膜机，包括真空室5，真空室5连接有抽真空系统4，真空室5内设有靶极7和卷绕系统，真空室5连接有超低温系统6，抽真空系统4、靶极7和卷绕系统均电连接有PLC控制系统3，PLC控制系统3电连接有中频电源2和直流电源I。PLC控制系统3能够通过程序控制真空室5内的温度、注入惰性气体的浓度、靶极7上的电压等参数，尤其是能够很好地控制卷绕系统的卷绕速度和卷绕系统上基材12的张力，这些使得本实用新型的镀膜质量得到极大的提高，不仅镀膜的均匀度提高，而且能够进行超薄镀膜，甚至薄至lum。
[0016]如附图2所示，卷绕系统包括相互平行设置的收卷辊11、上导向辊10、上张力辊9、上主动辊8、下主动辊16、下张力辊15、下导向辊14和放卷辊13，靶极7与上主动辊8和下主动辊16相对设置。卷绕系统工作时将准备镀膜的基材12卷在放卷辊13上，基材12的一端依次经下导向辊14、下张力辊15、下主动辊16进入磁控溅射区，磁控溅射区出来的基材12经上主动辊8、上张力辊9、上导向辊10后收卷在收卷辊11上。
[0017]如附图2所示，靶极7设置有两排，两排靶极7为相互平行设置。两排靶极同7时工作，保证镀膜具有更好的的均匀度。
[0018]在本实施例中，抽真空系统4为分子泵。分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子，使之获得定向速度，从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空栗。
[0019]在本实施例中，超低温系统6为深冷泵。在高真空环境中都存在着一定的残余气体，80%以上是水蒸汽、油蒸汽及其它高沸点的蒸汽，深冷泵能够达到-120°C以下低温，通过放置在真空室中制冷盘管表面的低温冷凝效应，迅速捕集真空系统的残余气体，从而大大缩短抽真空的时间、获得更加洁净的真空环境。
【权利要求】
1.一种连续卷绕镀膜机，包括真空室(5)，真空室(5)连接有抽真空系统(4)，真空室(5)内设有靶极(7)和卷绕系统，其特征在于:真空室连接有超低温系统(6)，所述抽真空系统(4)、超低温系统(6)、靶极(7)和卷绕系统均电连接有PLC控制系统(3)，所述PLC控制系统⑶电连接有中频电源⑵和直流电源(I)。
2.根据权利要求1所述的一种连续卷绕镀膜机，其特征在于:所述卷绕系统包括相互平行设置的收卷辊(11)、上导向辊(10)、上张力辊(9)、上主动辊(8)、下主动辊(16)、下张力辊(15)、下导向辊(14)和放卷辊(13)，所述靶极(7)与上主动辊(8)和下主动辊(16)相对设置。
3.根据权利要求1所述的一种连续卷绕镀膜机，其特征在于:所述靶极(7)设置有两排，两排靶极(7)为相互平行设置。
4.根据权利要求1所述的一种连续卷绕镀膜机，其特征在于:所述抽真空系统(4)为分子泵。
5.根据权利要求1所述的一种连续卷绕镀膜机，其特征在于:所述超低温系统(6)为深冷泵。
【文档编号】C23C14/56GK203393223SQ201320500654
【公开日】2014年1月15日 申请日期:2013年8月10日 优先权日:2013年8月10日
【发明者】孟凡杰 申请人:潍坊怡通电子有限公司