一种材料表面光催化脱脂装置及光催化脱脂方法
【专利摘要】一种材料表面光催化脱脂装置及光催化脱脂方法，属于材料表面处理【技术领域】。其特征是，材料表面光催化脱脂装置由供料机（1）、前压辊（2）、供水机构（3）、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管（4）、光源（5）、清洗器（6）、积液槽（7）、后压辊（8）、烘干机（9）和收料机（10）构成；将纳米光催化绿色降解油脂、微反应器加快反应速度和纳米光催化条件下流动水增加氧化基团相结合，实现材料（11）表面油脂的光催化脱脂。本发明的优点是，材料（11）表面脱脂过程在室温下进行，无需脱脂剂、短流程、绿色环保、节能、长效、实施方便、对人体无害、低成本、油脂去除彻底、对制品表面无损伤，装置结构简单，操作方便，投资少，易于实现自动化，脱脂后材料（11）的表面光洁度高。
【专利说明】一种材料表面光催化脱脂装置及光催化脱脂方法
[0001]
【技术领域】
[0002]本发明属于材料表面处理【技术领域】，特别是提供了一种材料表面光催化脱脂装置及光催化脱脂方法。
技术背景[0003]材料在进行涂装、电镀及其他防护处理之前必须经过表面处理，以除去材料表面的加工润滑油和防锈油等油脂。特别是，随着高新【技术领域】的快速发展和技术进步，对材料的表面处理质量也提出了越来越高的要求。脱脂就是为了去掉材料在制备加工和保存过程中留在其表面的油脂，从而保持材料表面的光洁度，是材料表面进行涂装、电镀等之前的基本前处理工序。脱脂对涂装和电镀等具有重要影响，涂层和镀层等与基体的结合情况以及干燥性、装饰性和耐蚀性等往往与基体表面的脱脂程度有直接关系。因此，材料表面的脱脂处理在工程领域受到了高度重视，也是科研人员的重点研究内容之一。
[0004]传统的脱脂是依靠脱脂剂对油脂的溶解作用和皂化作用，依靠表面活性剂对油脂的润湿、渗透、分散等物理作用，使油脂变为可溶解或可分散的，从而使油脂离开材料表面，让新的清洗剂占据表面，达到清洁。因材料表面有相对稳定的液膜，故溶解后的油脂离开材料表面以及更新表面上的清洗剂等往往较难，一般都需要加以搅拌、擦拭等。
[0005]目前，材料表面主要的脱脂方法包括化学脱脂、有机溶剂脱脂、电解脱脂、表面活性剂脱脂以及超声波脱脂。
[0006]化学脱脂是最传统的脱脂方法，其原理主要是发挥脱脂剂的皂化作用、乳化作用和络合作用，通过润湿、渗透、卷离、分散和增溶的方式，将材料表面的油脂去除。化学脱脂成本低，操作方便，便于连续化生产，应用十分广泛。但是，化学脱脂的脱脂效果比较差，使用温度高(有时脱脂温度高达80°C)，处理时间长，通常还要借助压力喷射或搅拌等机械作用。
[0007]有机溶剂脱脂是利用相似相溶的原理。常用的有机溶剂有煤油、汽油、甲苯、三氯乙烯和四氯化碳等。有机溶剂脱脂具有速率快、不腐蚀制品等优点；但具有脱脂不彻底、易燃、毒性大、成本高等缺点，有机溶剂的蒸汽在空气中达到一定浓度时，遇火即能爆炸，在生产中必须搞好通风、防火、防爆等安全措施，必须在密闭设备中进行。
[0008]电解脱脂是将制品挂在碱性电解液的阴极或阳极上，利用电解时电极的极化作用和产生的大量气体将油脂除去的方法。电解脱脂一般都需要高温(有时脱脂温度高达80°C),不仅能耗成本高，而且会给环境造成严重的污染。
[0009]表面活性剂脱脂(也称为乳化剂脱脂)是利用表面活性剂的亲水性的极性基团向水和亲油性的非极性基团向油的特性，使油脂在材料表面的附着力下降，在搅拌及加热作用下，油脂从材料表面离开从而达到脱脂效果。但是，目前脱脂效果好的表面活性剂往往价格较贵，使用浓度高，原料投资大；一般的表面活性剂往往容易产生大量泡沫，影响正常操作。
[0010]超声波脱脂是借助于超声波振荡，使脱脂剂中产生小气泡，由于小气泡不断生长破裂产生强大的机械力冲击材料表面，使油脂脱除浮于液面。超声波脱脂的能耗较高，且超声波脱脂通常是和化学脱脂与电解脱脂联合使用。
[0011 ] 在现有的脱脂方法中，一般都要采用脱脂剂等化学试剂，存在的问题较多。就以脱脂剂而言，目前所用脱脂剂往往是含磷的水基清洗剂，排放的废液中会含有大量的磷，将造成环境污染和水体污染，导致江河中藻类的大量繁殖，影响鱼类的生长等。尽管也开始采用无磷脱脂剂，但其配方中都含有阴离子表面活性剂烷基苯磺酸钠，这种表面活性剂虽然有很强的乳化力和脱脂力，但在脱脂时很容易产生大量稳定性很强的泡沫，不易漂洗且费水费时，同时表面活性剂易残留在制品表面而造成脱脂不彻底，会窜到后道工序的设备上，影响后道工序的加工处理，危害生产安全，导致返工甚至停产。[0012]综上可知，现有的材料表面脱脂方法存在着工艺流程长、所需设备昂贵、环境污染较大、能源浪费严重、成本高以及脱脂效果难以满足不断发展的高质量要求等问题。
[0013]目前世界各国对环境保护的要求日益严格，对材料表面质量的追求不断提高，因此研制开发一种无需脱脂剂、短流程、绿色环保、节能、长效、对人体无害、低成本、油脂去除彻底、对制品表面无损伤、设备投资少且实施方便的材料表面脱脂新装置及方法，具有十分迫切而重要的意义。
【发明内容】
[0014]本发明是将纳米光催化降解有机物和微反应器加快化学反应等新原理引入材料表面脱脂【技术领域】而提出的。通过将光源置于外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管内，保证光源与有机物(如油脂)分别处于纳米半导体薄膜的两侧，解决通常情况下有机物介于光源与纳米半导体薄膜之间无法实现材料表面有机物纳米光催化降解的问题；将材料通过微张力与外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管外表面紧密接触，构成微反应器，提高纳米光催化降解有机物的效率；通过在纳米光催化与微反应器构成的光催化微反应器中输入流动水，有利于捕获空穴，起到光催化氧化剂的作用，增加有机物表面的氧化基团，进一步提高有机物的光催化降解效率。在此基础上开发一种材料表面光催化脱脂装置及方法，充分发挥纳米光催化绿色降解油脂、微反应器和流动水共同作用提高纳米光催化降解油脂效率等作用，达到无需脱脂剂、短流程、绿色环保、节能、长效、实施方便、对人体无害、低成本、油脂去除彻底、对制品表面无损伤且在室温下就能完成材料表面脱脂等目的，解决目前材料表面脱脂装置及方法存在的前述问题。
[0015]一种材料表面光催化脱脂装置，其特征在于，由供料机(I)、前压辊(2)、供水机构
(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、积液槽(7)、后压辊
(8)、烘干机(9)、收料机(10)构成。其中，供料机(I)、前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、后压辊(8)、烘干机(9)、收料机(10)布置在一条直线式生产线上，积液槽(7)布置在供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)和清洗器(6)所对应位置的正下方。由前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、积液槽(7)、后压辊(8)组成的脱脂单元重复布置，数量为广20个，并且间隔脱脂单元的布置水平高度一致，相邻脱脂单元的布置水平高度可以不同。光源(5)安装于外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管
(4)内的中部，光源(5)固定，外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)可以绕着轴向自由旋转；前压辊(2)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)和后压辊(8)均是由材料(11)前进时带动而被动转动，前压辊(2)和后压辊(8)的辊径相同且位于同一水平高度，外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)与材料(11)通过微张力紧密接触。供料机(I)和收料机
(10)的线速度保持一致，收料机(10)对后压辊(8)建张，前压辊(2)对供料机(I)建张。
[0016]一种采用上述材料表面光催化脱脂装置对材料表面进行光催化脱脂的方法，其特征在于，表面有油脂的材料(11)从供料机(I)送出，通过前压辊(2)后与外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)紧密接触；同时材料(11)将供水机构(3 )提供的流动水带入材料
(11)与外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)之间的接触区域；来自外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)内部光源(5)的光线或太阳光与纳米半导体薄膜作用发生光催化反应，在纳米半导体薄膜表面产生电子和空穴，对接触区域内材料(11)表面的油脂进行降解；表面油脂降解后的材料(11)紧接着通过清洗器(6 )，被清洗器(6 )提供的清洗液洗刷，完成一个脱脂单元的脱脂过程；过程中所有的流动水、光催化脱脂产物及清洗液直接流入积液槽(7 )中；一个脱脂单元的脱脂完成后的材料(11)将通过后压辊(8 );经过所有脱脂单元彻底完成脱脂的材料(11)进入烘干机(9)进行烘干处理，烘干温度为8(T20(TC ;最后到达收料机(10)，获得具有高表面光洁度的材料(11)。
[0017]所述供料机(I)用于提供表面有油脂的材料(11);所述前压辊(2)用于对来自供料机(I)的材料(11)施加 一定张力；所述供水机构(3)用于提供输入材料(11)与外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)之间的接触区域的流动水；所述外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)用于透过来自光源(5)的光线或太阳光，与纳米半导体发生光催化反应，在纳米半导体薄膜表面产生电子和空穴，所述纳米半导体薄膜是纳米二氧化钛薄膜、纳米氧化锌薄膜、纳米氧化硅薄膜或经过掺杂改性的纳米半导体薄膜。
[0018]所述外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)是外表面沉积纳米半导体薄膜的石英玻璃管、外表面沉积纳米半导体薄膜的高硅氧玻璃管或外表面沉积纳米半导体薄膜的普通透明玻璃管。
[0019]所述光源(5)是紫光灯、高压汞灯或日光灯；也可以取消所述光源(5)，只在外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)的内部透过太阳光。
[0020]所述清洗器(6 )用于提供对光催化脱脂后的材料(11)表面进行清洁的清洗液；所述积液槽(7)用于收集流动水、光催化脱脂产物及清洗液；所述后压辊(8)用于与收料机(10)配合给材料(11)施加一定张力；所述烘干机(9)用于对脱脂彻底并完成表面清洁处理的材料(11)进行烘干处理；所述收料机(10)用于收集并输出烘干后的材料(11)。
[0021]所述材料(11)是金属板材、金属带材或金属箔材。
[0022]本发明的主要优点在于:
1、材料表面光催化脱脂主要利用纳米半导体薄膜的光催化降解有机物特性，具有短流程、消耗少、长效稳定、实施方便、对人体无害、成本低、油脂去除彻底、对制品表面无损伤、脱脂均匀性好等优点，有利于获得具有高表面光洁度的材料。
[0023]2、材料表面光催化脱脂过程中输入流动水，不仅提高了光催化脱脂效率，而且有利于分解后的产物快速离开材料表面，进一步加速对底层油脂的光催化分解，缩短光催化脱脂的时间。
[0024]3、材料表面光催化脱脂时无需任何脱脂剂、不用其他化学试剂，脱脂后的产物主要是水和二氧化碳，绿色环保。
[0025]4、材料表面光催化脱脂过程在室温下就能完成，节约能源。
[0026]5、材料表面光催化脱脂装置的结构简单，操作方便，投资少，易于实现自动化，减少人工，节省场地。
【专利附图】
【附图说明】[0027]图1为本发明的材料表面光催化脱脂工艺流程示意图。其中(I)为供料机；(2)为前压辊；(3)为供水机构；(4)为外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管；(5)为光源；(6)为清洗器；(7)为积液槽；(8)为后压辊；(9)为烘干机；(10)为收料机；(11)为材料。
【具体实施方式】
[0028]以下结合实施例对本发明进行具体描述，有必要在此指出的是本实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，该领域的熟练技术人员可以根据上述本发明的内容做出一些非本质的改进和调整。
[0029]结合附图1对本发明的材料表面光催化脱脂装置具体说明如下:
材料表面光催化脱脂装置由供料机(I)、前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、积液槽(7)、后压辊(8)、烘干机(9)、收料机(10)构成。其中，供料机(I)、前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、后压辊(8)、烘干机(9)、收料机(10)布置在一条直线式生产线上，积液槽(7)布置在供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)和清洗器(6)所对应位置的正下方。由前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、积液槽(7)、后压辊(8)组成的脱脂单元重复布置，数量为广20个，并且间隔脱脂单元的布置水平高度一致，相邻脱脂单元的布置水平高度可以不同。光源(5)安装于外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)内的中部，光源(5)固定，外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)可以绕着轴向自由旋转；前压辊(2)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)和后压辊(8)均是由材料(11)前进时带动而被动转动，前压辊(2)和后压辊(8)的辊径相同且位于同一水平高度，外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)与材料(11)通过微张力紧密接触。供料机(I)和收料机(10)的线速度保持一致，收料机(10 )对后压辊(8 )建张，前压辊(2 )对供料机(I)建张。
[0030]所述供料机(I)用于提供表面有油脂的材料(11);所述前压辊(2)用于对来自供料机(I)的材料(11)施加一定张力；所述供水机构(3)用于提供输入材料(11)与外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)之间的接触区域的流动水；所述外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)用于透过来自光源(5)的光线或太阳光，与纳米半导体发生光催化反应，在纳米半导体薄膜表面产生电子和空穴，所述纳米半导体薄膜是纳米二氧化钛薄膜、纳米氧化锌薄膜、纳米氧化硅薄膜或经过掺杂改性的纳米半导体薄膜。
[0031]所述外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)是外表面沉积纳米半导体薄膜的石英玻璃管、外表面沉积纳米半导体薄膜的高硅氧玻璃管或外表面沉积纳米半导体薄膜的普通透明玻璃管。
[0032]所述光源(5)是紫光灯、高压汞灯或日光灯；也可以取消所述光源(5)，只在外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)的内部透过太阳光。
[0033]所述清洗器(6 )用于提供对光催化脱脂后的材料(11)表面进行清洁的清洗液；所述积液槽(7)用于收集流动水、光催化脱脂产物及清洗液；所述后压辊(8)用于与收料机
(10)配合给材料(11)施加一定张力；所述烘干机(9)用于对脱脂彻底并完成表面清洁处理的材料(11)进行烘干处理；所述收料机(10)用于收集并输出烘干后的材料(11)。
[0034]所述材料(11)是金属板材、金属带材或金属箔材。
[0035]实施例1: 表面有油脂的压延铜箔(11)从供料机(I)送出，通过前压辊(2)后与外表面沉积纳米二氧化钛薄膜的石英玻璃管(4 )紧密接触；同时压延铜箔(11)将供水机构(3 )提供的流动水带入压延铜箔(11)与外表面沉积纳米二氧化钛薄膜的石英玻璃管(4)之间的接触区域；来自外表面沉积纳米二氧化钛薄膜的石英玻璃管(4)内部紫光灯(5)的光线与纳米二氧化钛薄膜作用发生光催化反应，在纳米二氧化钛薄膜表面产生电子和空穴，对接触区域内压延铜箔(11)表面的油脂进行降解；表面油脂降解后的压延铜箔(11)紧接着通过清洗器
(6)，被清洗器(6)提供的清洗液洗刷，完成一个脱脂单元的脱脂过程；过程中所有的流动水、光催化脱脂产物及清洗液直接流入积液槽(7)中；一个脱脂单元的脱脂完成后的压延铜箔(11)将通过后压辊(8);经过所有脱脂单元彻底完成脱脂的压延铜箔(11)进入烘干机
(9)进行烘干处理，烘干温度为80°C;最后到达收料机(10)，获得具有高表面光洁度的压延铜箔(11)。
[0036]实施例2:
表面有油脂的不锈钢带(11)从供料机(I)送出，通过前压辊(2)后与外表面沉积氮掺杂纳米二氧化钛薄膜的普通透明玻璃管(4)紧密接触；同时不锈钢带(11)将供水机构(3)提供的流动水带入不锈钢带(11)与外表面沉积氮掺杂纳米二氧化钛薄膜的普通透明玻璃管(4)之间的接触区域；来自外表面沉积氮掺杂纳米二氧化钛薄膜的普通透明玻璃管(4)内部的太阳光与氮掺杂纳米二氧化钛薄膜作用发生光催化反应，在氮掺杂纳米二氧化钛薄膜表面产生电子和空穴，对接触区域内不锈钢带(11)表面的油脂进行降解；表面油脂降解后的不锈钢带(11)紧接着通过清洗器(6 )，被清洗器(6 )提供的清洗液洗刷，完成一个脱脂单元的脱脂过程；过程中所有的流动水、光催化脱脂产物及清洗液直接流入积液槽(7)中；一个脱脂单元的脱脂完成后的不锈钢带(11)将通过后压辊(8);经过所有脱脂单元彻底完成脱脂的不锈钢带(11)进入烘干机(9)进行烘干处理，烘干温度为200°C ;最后到达收料机
(10)，获得具有高表面光洁度的不锈钢带(11)。
[0037]实施例3:
表面有油脂的铝合金板(11)从供料机(I)送出，通过前压辊(2)后与外表面沉积纳米氧化锌薄膜的高硅氧玻玻璃管(4)紧密接触；同时铝合金板(11)将供水机构(3)提供的流动水带入铝合金板(11)与外表面沉积纳米氧化锌薄膜的高硅氧玻玻璃管(4)之间的接触区域；来自外表面沉积纳米氧化锌薄膜的高硅氧玻玻璃管(4)内部高压汞灯(5)的光线与纳米氧化锌薄膜作用发生光催化反应，在纳米氧化锌薄膜表面产生电子和空穴，对接触区域内铝合金板(11)表面的油脂进行降解；表面油脂降解后的铝合金板(11)紧接着通过清洗器(6)，被清洗器(6)提供的清洗液洗刷，完成一个脱脂单元的脱脂过程；过程中所有的流动水、光催化脱脂产物及清洗液直接流入积液槽(7)中；一个脱脂单元的脱脂完成后的铝合金板(11)将通过后压辊(8 );经过所有脱脂单元彻底完成脱脂的铝合金板(11)进入烘干机(9)进行烘干处理，烘干温度为150°C ;最后到达收料机(10)，获得具有高表面光洁度的铝合金 板(11)。
【权利要求】
1.一种材料表面光催化脱脂装置，其特征在于，由供料机(I)、前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、积液槽(7)、后压辊(8)、烘干机(9)、收料机(10)构成；其中，供料机(I)、前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、后压辊(8)、烘干机(9)、收料机(10)布置在一条直线式生产线上，积液槽(7)布置在供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)和清洗器(6)所对应位置的正下方；由前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、积液槽(7)、后压辊(8)组成的脱脂单元重复布置，数量为f 20个，并且间隔脱脂单元的布置水平高度一致，相邻脱脂单元的布置水平高度可以不同；光源(5)安装于外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)内的中部，光源(5)固定，外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)可以绕着轴向自由旋转；前压辊(2)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)和后压辊(8)均是由材料(11)前进时带动而被动转动，前压辊(2)和后压辊(8)的辊径相同且位于同一水平高度，外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)与材料(11)通过微张力紧密接触；供料机(I)和收料机(10)的线速度保持一致，收料机(10)对后压辊(8)建张，前压辊(2)对供料机(I)建张。
2.如权利要求1所述一种材料表面光催化脱脂装置，其特征在于，所述纳米半导体薄膜是纳米二氧化钛薄膜、纳米氧化锌薄膜、纳米氧化硅薄膜或经过掺杂改性的纳米半导体薄膜。
3.如权利要求1所述一种材料表面光催化脱脂装置，其特征在于，所述供料机(I)用于提供表面有油脂的材料(11);所述前压辊(2 )用于对来自供料机(I)的材料(11)施加一定张力；所述供水机构(3)用于提供输入材料(11)与外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)之间的接触区域的流动水；所述外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)是外表面沉积纳米半导体薄膜的石英玻璃管、外表面沉积纳米半导体薄膜的高硅氧玻璃管或外表面沉积纳米半导体薄膜的普通透明玻璃管，用于透过来自光源(5)的光线或太阳光并发生光催化反应。
4.如权利要求1所述一种材料表面光催化脱脂装置，其特征在于，所述光源(5)是紫光灯、高压汞灯或日光灯。
5.如权利要求1所述一种材料表面光催化脱脂装置，其特征在于，取消所述光源(5)，只在外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)的内部透过太阳光。
6.如权利要求1所述一种材料表面光催化脱脂装置，其特征在于，所述清洗器(6)用于提供对光催化脱脂后的材料(11)表面进行清洁的清洗液；所述积液槽(7 )用于收集流动水、光催化脱脂产物及清洗液；所述后压辊(8)用于与收料机(10)配合给材料(11)施加一定张力；所述烘干机(9)用于对脱脂彻底并完成表面清洁处理的材料(11)进行烘干处理；所述收料机(10)用于收集并输出烘干后的材料(11)。
7.如权利要求1所述一种材料表面光催化脱脂装置，其特征在于，所述材料(11)是金属板材、金属带材或金属箔材。
8.一种采用权利要求1所述材料表面光催化脱脂装置对材料表面进行光催化脱脂的方法，其特征在于，表面有油脂的材料(11)从供料机(I)送出，通过前压辊(2 )后与外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)紧密接触；同时材料(11)将供水机构(3)提供的流动水.带入材料(11)与外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)之间的接触区域；来自外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)内部光源(5)的光线或太阳光与纳米半导体薄膜作用发生光催化反应，在纳米半导体薄膜表面产生电子和空穴，对接触区域内材料(11)表面的油脂进行降解；表面油脂降解后的材料(11)紧接着通过清洗器(6 )，被清洗器(6 )提供的清洗液洗刷，完成一个脱脂单元的脱脂过程；过程中所有的流动水、光催化脱脂产物及清洗液直接流入积液槽(7)中；一个脱脂单元的脱脂完成后的材料(11)将通过后压辊(8);经过所有脱脂单元彻底完成脱脂的材料(11)进入烘干机(9)进行烘干处理，烘干温度为8(T20(TC ;最后到达收料机(10)，获得具有高表面光洁度的材料(11)。
【文档编号】C23G5/04GK103834962SQ201410016361
【公开日】2014年6月4日 申请日期:2014年1月14日 优先权日:2014年1月14日
【发明者】刘雪峰, 彭展南, 林冠群, 谢建新 申请人:北京科技大学