全自动真空电子枪镀膜装置制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种全自动真空电子枪镀膜装置，包括真空室，及垂直安装在真空室内的电子枪，该电子枪所对应于装载物料的电子枪坩埚；其特征是，包括有一输送带，该输送带穿过真空室位于电子枪的上方；所述的电子枪沿输送带横截面方向按间隔排列至少一排以上且分布多只的电子枪。本发明采用一排或多排的电子枪镀膜，可以满足产品不同规格的要求。另外，通过设置的移动输送带，可有效形成连续自动化生产，可提高生产效率达80平方米/小时，同时又降低了生产成本，及满足在任何形成的基片上镀制各种金属及氧化物、非金属膜层。解决了传统镀膜技术要求不同，每次间歇工作时间长，镀膜效率低，不能形成连续生产能力的问题。
【专利说明】全自动真空电子枪镀膜装置
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种真空镀膜装置。具体说是一种全自动真空电子枪镀膜装置。
【背景技术】
[0002]目前，对于玻璃基片真空镀膜的生产是以间歇式小规格、低效率、高成本的生产方式。该真空镀膜装置，包括真空罐体，在所述真空罐体内沿半径方向固定设置电子枪，及与电子枪相对应配置的装载物料的电子枪坩埚，距离电子枪上方一定高度具有一个旋转架。真空镀膜时，将被镀物体在大气状态下安放在真空罐内的旋转架上，关闭真空罐门，开始对真空罐体进行抽真空。在合理真空条件下(例如1*10Ε-2)满足后(抽真空时间约为30分钟)，被镀物体开始高速旋转，开启电子枪分别蒸镀多层相应物质的镀制，镀制完成后再对真空罐体进行充气，方可取出被镀物体，即完成一次间歇式镀膜。另外，因被镀物体的镀膜技术要求不同，每次间歇工作时间约为1-12小时，最大工作效率为3平方米/小时。因此，现行技术的生产仅以单个被镀物体有限的装载面积进行镀制，不能形成具有生产能力的连续镀膜，所以镀膜产品规格受到限制、生产效率低、生产成本高、无法形成高效率的全自动化生产，仅能镀制基片载体，无法完成在卷取基片上镀制各种金属及氧化物、非金属膜层的问题。
【发明内容】
[0003]鉴于上述现状，本发明提供了一种全自动真空电子枪镀膜装置，使其能够满足不同规格，及形成高效率的全自动化生产，并可在任何基片上镀制各种金属及氧化物、非金属膜层。
[0004]本发明的技术解决方案是，一种全自动真空电子枪镀膜装置，包括真空室，及垂直安装在真空室内的电子枪，该电子枪所对应于装载物料的电子枪坩埚；其中包括有一输送带，该输送带穿过真空室位于电子枪的上方；所述的电子枪沿输送带横截面方向按间隔排列至少一排以上且分布多只的电子枪。因此，通过线性位移的输送带的输送方式，可以使被镀物品具备自动化连续生产的能力。
[0005]本发明中，所涉及的真空室两端进出口处安装有用于密封的真空锁。保证真空室的真空要求。
[0006]进一步地，所述的真空锁为已有技术，故省略描述。
[0007]本发明中，所述的电子枪多排排列时，每排可排列相同或非相同数量的电子枪。
[0008]本发明中，所涉及的电子枪与一个一种被镀物料的电子枪坩埚相配置，也可与多种相同或不相同被镀物料的电子枪坩埚相配置。可实现镀制任何被镀物料，满足相同或不同要求的品种。
[0009]本发明所指的电子枪，均为外购国产配套电子枪，如北京盖德、南京涉谷、成都金雅克公司的产品。
[0010]本发明具有的积极效果是，采用一排或多排排列电子枪镀膜，可以满足产品不同规格的要求。另外，通过设置的移动输送带，可有效形成连续自动化生产，即提高了生产效率，又可降低生产成本，保证产品质量的稳定。本发明生产效率可达80平方米/小时。同时，还可满足在任何形成的基片上镀制各种金属及氧化物、非金属膜层。
【专利附图】
【附图说明】
[0011]图1是本发明的主视图；
图2是图1的俯视图。
【具体实施方式】
[0012]下面将结合附图实施例，对本发明作进一步说明。
[0013]实施例1
见图1、图2所示的一种全自动真空电子枪镀膜装置，包括真空室5，及位于真空室5两侧的进片室3和出片室9，本发明所述真空室5内部垂直安装有电子枪6，及与电子枪6所对应的装载物料的电子枪坩埚7。本实施例还包括有一输送带4，该输送带4穿过真空室5位于电子枪6的上方。本实施例所述的电子枪6沿输送带4横截面方向按间隔排列有三排电子枪，第一排排列有五只电子枪，第二排排列有三只电子枪，第三排排列有五只电子枪，每一只电子枪对应一个装载物料的电子枪坩埚7。本新型中，在所述真空室5的两端连接有进片室3和出片室9，及安装在进片室3和出片室9内的进片、出片输送带2和10，与真空室5内的输送带4对接。实施例中真空室5的两端及进片室3和出片室8的进出口两端分别安装有用于封闭的真空锁8和I。保证真空室5的真空要求。本实施例的设计可镀制规格为:1.5m*2m，三层减反膜(也叫增透膜)，第一排的五只电子枪，每只电子枪与装载折射率为1.6物料的电子枪坩埚相对应；第二排的三只电子枪，每只电子枪与装载折射率为2.2物料的电子枪坩埚相对应；第三排五只电子枪，每只电子枪与装载1.4物料的电子枪坩埚相对应。对上述物料每只电子枪采用不同的高压和束流进行蒸镀，约五分钟可以生产一片透光率为98%以上的性能优良的大规格减反膜产品，该产品每小时产能为36平方米。
[0014]上述中，除所述的电子枪6沿输送带的横截面方向每排排列非相同数量的电子枪之外，也可以选用每排相同数量的电子枪。本发明主要通过线性位移的输送带的输送方式，可以使被镀物品具备自动化连续生产的能力。
[0015]工作原理:
1、将进片室进口处的真空锁打开，关闭真空室两端的真空锁及出片室出口处的真空锁，被镀物体通过进片输送带在大气状态送入进片室，关闭进片室进口处的真空锁对真空室进行抽真空，真空达到条件后，开启真空室进口端的真空锁，被镀物体通过输送带送入真空室；
2、真空室内的每排、每只电子枪以不同光斑、电压、束流对镀膜物料进行蒸镀，被镀物体以一定线速度通过电子枪即完成镀膜；
3、镀膜过程完成后，在出片室真空允许的条件下开启真空室出口一侧的真空锁，将镀膜后的物体送入进片室，再关闭真空室出口一侧的真空锁，对出片室充气到大气压状态，开启出片室出口处的真空锁，镀膜后的物体送出，完成一个镀制过程。
[0016]4、整个镀制过程均通过电脑自动控制完成。
[0017]实施例2
镀制七层介质高反膜(板面1.5m*2m)，第一排安装五只电子枪，每只电子枪对应一个装载Ti02物料的电子枪坩埚；第二排沿纵向安装三只电子枪，每只电子枪对应一个装载Si02物料的电子枪坩埚；第三排沿纵向安装五只真空电子枪，每只电子枪对应一个装载Ti02物料的电子枪坩埚。第四排安装三只电子枪，每只电子枪对应一个装载Si02物料的电子枪坩埚；第五排安装五只电子枪，每只电子枪对应一个装载Ti02物料的电子枪坩埚；第六排安装三只电子枪，每只电子枪对应一个装载Si02物料的电子枪坩埚；第七排安装五只电子枪，每只电子枪对应一个装载Ti02物料的电子枪坩埚。对上述装载不同物料的每只排电子枪采用不同的高压和束流进行蒸镀，约三分钟可以生产一片产品，介质高反膜每小时产能为60平方米。
[0018]该实施例与实施例1不同的是电子枪的排数及每一排电子枪坩埚装载的被镀物料不同，其装载的机构相同，故省略附图的表示。
[0019]实施例3
镀制三十一层介质高反膜(板面1.5m*2m)，第一排安装五只电子枪，每只所对应的电子枪坩埚装载Ti02物料；第二排安装五只电子枪，每只所对应的电子枪坩埚装载Si02物料；第三排安装五只电子枪，每只所对应的电子枪坩埚装载Ti02物料。第四排安装五只电子枪，每只所对应的电子枪坩埚装载Si02物料；第五排安装五只电子枪，每只所对应的电子枪坩埚装载Ti02物料；第六排安装五只电子枪，每只所对应的电子枪坩埚装载Si02物料；第七排安装五只电子枪，每只所对应的电子枪坩埚装载Ti02物料。对上述物料每只电子枪采用不同的高压和束流进行蒸镀，进行往返2次镀制，可得到品质很好的介质高反膜，约十分钟可以生产一片产品，介质高反膜每小时产能为18平方米。
[0020]上述中，所提及的输送方式是采用往返方式进行多次多层镀膜，除此之外，还可以采用单方向运行模式，满足不同工艺及质量的要求。
[0021]实施例4
如镀制规格为:1.5m*2m，单层硅，只用需安装一排电子枪五只，每只所对应的电子枪坩埚装载物料硅物料。对上述装载物料的每只电子枪采用相同的高压和束流进行蒸镀，约二分钟可以生产一片镀膜产品，每小时产能为90平方米。
[0022]实施例5
在塑料薄膜上镀制二层Al/Si02膜(膜宽2m)。安装一排电子枪七只，每只所对应两个电子枪坩埚装载两种Al和Si02物料；将塑料薄膜卷(膜宽2m，长1000m)放入真空室，未镀制的塑料薄膜安装在放料筒内，旋转塑料薄膜，经镀制后塑料薄膜放在收料筒内，实现塑料薄膜在七支电子枪上方高速方线性运动。
[0023]镀制方法:先对装载Al物料的电子枪坩埚对应每只电子枪进行镀制，每只电子枪采用相同的高压和束流进行蒸镀。当镀制Al物料厚度满足后，旋转电子枪坩埚至Si02料位置，再对Si02物料对应每只电子枪，同样每只电子枪采用相应的高压和束流进行蒸镀，镀制Si02。约二十小时可以完成塑料薄膜镀膜，每小时产能为100平方米。
[0024]上述实施例，因镀制塑料薄膜卷，故在图1装置中的进片室3和出片室9的两端安装一个放料筒和收料筒，旋转放料筒一侧的塑料薄膜，送入进片输送带2，通过真空室5经电子枪6镀制后，通过出片输送带10卷取在收料筒内。
[0025]实施例6
在塑料薄膜上镀制九层高反介质膜(膜宽2m)。选用安装二排电子枪，每排安装七只电子枪；第一排电子枪坩埚装载高折射率物料，第二排电子枪坩埚装载低折射率物料；将塑料薄膜卷(膜宽2m，长1000m)放入真空室，旋转塑料薄膜的放料筒和收料筒，实现塑料薄膜在七支电子枪上高速方线性运动。先对第一排高折射率物料进行蒸镀，每只电子枪采用相同的高压和束流进行蒸镀，第一层膜层厚度满足后，关闭第一排电子枪，开启第二排装载低折射率物料的电子枪，每只电子枪采用相同的高压和束流进行蒸镀，膜制第二层膜层厚度满足后，关闭第二排电子枪，如此反复上述九次即可完成镀制过程。约二十小时可以完成生产，每小时产能为100平方米。
【权利要求】
1.一种全自动真空电子枪镀膜装置，包括真空室，及垂直安装在真空室内的电子枪，该电子枪所对应于装载物料的电子枪坩埚；其特征是，包括有一输送带(4)，该输送带(4)穿过真空室(5 )位于电子枪(6 )的上方；所述的电子枪(6 )沿输送带(4)横截面方向按间隔排列至少一排以上且分布多只的电子枪。
2.根据权利要求1所述的全自动真空电子枪镀膜装置，其特征是，所述的真空室(5)两端进出口处安装有用于密封的真空锁(8 )。
3.根据权利要求1所述的全自动真空电子枪镀膜装置，其特征是，所述的电子枪(6)多排排列时，每排可排列相同或非相同数量的电子枪。
4.根据权利要求1所述的全自动真空电子枪镀膜装置，其特征是，所述的电子枪(6)与一个一种被镀物料的电子枪坩埚相配置，也可与多种相同或不相同被镀物料的电子枪坩埚相配置。
【文档编号】C23C14/30GK104264114SQ201410539734
【公开日】2015年1月7日 申请日期:2014年10月14日 优先权日:2014年10月14日
【发明者】张国勇 申请人:秦皇岛国泰玻璃有限公司