一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和PH自动调整系统的制作方法

本发明涉及晶片边缘抛光设备技术领域，具体为一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统。

背景技术：

在使用晶片边缘抛光机时，边抛液储存箱内的边抛液使用一段时间后需要人工打开供液阀门补液，ph值降低后需要人工加入定量的调节剂来调节边抛液的ph值。

现在这种人工补液和人工调节ph值的操作的方式非常费时费力，而且容易出错，补液阀忘记关闭，ph调节剂加入过少，ph值未达到允许范围，ph调节剂加入过量，ph值超出允许范围等情况，由于人工操作无法量化，全靠经验值，ph值调节无法稳定，使边缘抛光机抛出的晶片一致性不好，良品率也无法满足要求

为此我们提出一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统用于解决上述问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，包括plc控制器、计量泵和ph计，所述于plc控制器电学连通供液阀，所述供液阀插入边抛液储存箱内部，所述边抛液储存箱内接入ph计，所述ph计受控于plc控制器，所述plc控制器电学连接计量泵，所述计量泵一端连通调节液储存箱，另一端连通边抛液储存箱。

优选的，所述边抛液储存箱内部顶壁下表面固定连接保护壳，所述保护壳内部固定安装有伺服电机，所述伺服电机通过皮带传动连接转轴，所述转轴周侧固定连接固定环内侧，所述固定环周侧固定连接若干搅拌叶片。

优选的，所述转轴上下端分别转动连接的插入套筒内部，所述套筒底壁分别的固定连接边缘液储存箱顶壁下表面和底壁上表面。

优选的，所述固定环及搅拌叶片共有两组，且位于转轴靠近底部位置。

优选的，所述转轴周侧间隙配合的穿过保护壳底壁。

优选的，所述转轴位于边缘液储存箱中心位置。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：通过一体化控制，协调作业，可实现边抛液少液后自动补液，边抛液ph值低于设定值后自动调整ph值至允许范围，全程系统自动控制，无需人员干预，降低人员工作强度，减少人员误操作频率，增加ph值的稳定性，提供产品一致性；

伺服电机通过皮带带动转轴转动，转轴能够通过固定环带动搅拌叶片转动，加快抛液储存箱内的边抛液与调节剂的混合，有利于提高工作效率，同时提高ph值检测的准确性。

附图说明

图1为本发明结构示意图；

图2为本发明抛液储存箱内部剖视结构图。

图中：1、套筒；2、保护壳；3、伺服电机；4、皮带；5、转轴；6、搅拌叶片；7、固定环。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

边抛液自动供液和ph自动调整实施列：

当边抛液储存箱中的边抛液液位低于设定值后，plc系统打开电动供液阀给边抛液储存箱供液，当边抛液储液箱液位达到设定之后，plc系统关闭电动供液阀停止供液，以达到边抛液储液箱液位一直处于可用范围，当电动供液阀有异常，系统无法关闭和打开时，系统将通过人机界面报警提醒；

当边抛液储存箱中的在线ph计检测到边抛液的ph值低于设定值后，plc系统将自动计算ph值和预设的ph值之间的差值，根据计算值自动调节需要打入储液箱的调节剂容量，设定完成后plc系统打开计量泵，从调节剂储存箱中泵入定量的调节剂到边抛液储存箱中，待混合气鼓泡将边抛液和调节剂充分混合之后，在线ph计将再次检查边抛液储液箱中的边抛液ph值，如果ph值达到预设值后，单次调整完毕，如果ph值未达到预设值，plc系统将再次进行完整ph值调整一次，当调整多次还未达到ph值预设值后，plc系统将通过人机界面报警，是否设备有异常。

请参阅图1-2，本发明提供一种技术方案：一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，包括plc控制器、计量泵和ph计，于plc控制器电学连通供液阀，供液阀插入边抛液储存箱内部，边抛液储存箱内接入ph计，ph能够计检测到边抛液的ph值，ph计受控于plc控制器，plc控制器电学连接计量泵，计量泵一端连通调节液储存箱，另一端连通边抛液储存箱；

边抛液储存箱内部顶壁下表面固定连接保护壳2，保护壳2内部固定安装有伺服电机3，伺服电机3通过皮带4传动连接转轴5，伺服电机3能够通过皮带4带动转轴5转动，转轴5周侧固定连接固定环7内侧，固定环7周侧固定连接若干搅拌叶片6，转轴5能够通过固定环7带动搅拌叶片6转动，加快抛液储存箱内的边抛液与调节剂的混合；

转轴5上下端分别转动连接的插入套筒1内部，能够增强转轴5转动的稳定性，套筒1底壁分别的固定连接边缘液储存箱顶壁下表面和底壁上表面；

固定环7及搅拌叶片6共有两组，且位于转轴5靠近底部位置，便于加快抛液储存箱内的边抛液与调节剂的混合；

转轴5周侧间隙配合的穿过保护壳2底壁，转轴5能够保护壳2底壁内侧转动；

转轴5位于边缘液储存箱中心位置，便于起到混合作用。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

技术特征：

1.一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，包括plc控制器、计量泵和ph计，其特征在于：所述于plc控制器电学连通供液阀，所述供液阀插入边抛液储存箱内部，所述边抛液储存箱内接入ph计，所述ph计受控于plc控制器，所述plc控制器电学连接计量泵，所述计量泵一端连通调节液储存箱，另一端连通边抛液储存箱。

2.根据权利要求1所述的一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，其特征在于：所述边抛液储存箱内部顶壁下表面固定连接保护壳(2)，所述保护壳(2)内部固定安装有伺服电机(3)，所述伺服电机(3)通过皮带(4)传动连接转轴(5)，所述转轴(5)周侧固定连接固定环(7)内侧，所述固定环(7)周侧固定连接若干搅拌叶片(6)。

3.根据权利要求1所述的一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，其特征在于：所述转轴(5)上下端分别转动连接的插入套筒(1)内部，所述套筒(1)底壁分别的固定连接边缘液储存箱顶壁下表面和底壁上表面。

4.根据权利要求1所述的一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，其特征在于：所述固定环(7)及搅拌叶片(6)共有两组，且位于转轴(5)靠近底部位置。

5.根据权利要求1所述的一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，其特征在于：所述转轴(5)周侧间隙配合的穿过保护壳(2)底壁。

6.根据权利要求1所述的一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统，其特征在于：所述转轴(5)位于边缘液储存箱中心位置。

技术总结
本发明公开了一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和PH自动调整系统，包括PLC控制器、计量泵和PH计，所述于PLC控制器电学连通供液阀，所述供液阀插入边抛液储存箱内部，所述边抛液储存箱内接入PH计，所述PH计受控于PLC控制器，所述PLC控制器电学连接计量泵，所述计量泵一端连通调节液储存箱，另一端连通边抛液储存箱，通过一体化控制，协调作业，可实现边抛液少液后自动补液，边抛液PH值低于设定值后自动调整PH值至允许范围，全程系统自动控制，无需人员干预，降低人员工作强度，减少人员误操作频率，增加PH值的稳定性，提供产品一致性。

技术研发人员：黄盛军;菅明辉;高晟淇;王维师;孙晨光;王彦君
受保护的技术使用者：中环领先半导体材料有限公司
技术研发日：2020.12.21
技术公布日：2021.03.23