一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备及其使用方法
【技术领域】
[0001]本发明属于真空镀膜技术领域，涉及一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备及其使用方法。
【背景技术】
[0002]色彩具有强大的视觉表现效果，色系本身就意味着轻与重、冷与暖、华丽朴实，正面与负面等较多情感意义，展现无尽的联想和象征特性，以不同形式刺激不同的产品消费，并可结合图像、文字等辅助设施，对人的心灵和精神产生巨大的影响。
[0003]消费类电子产品要想获得广大的消费市场，满足众多消费人群的使用需求，就必须通过创新的色彩设计，来满足来自不同年龄、性别、地区、职业、文化程度的消费者。消费者的购买行为是由独特、个性、新潮的设计来促进的，通过颜色设计来改善产品现有状况，增强消费者的审美需求可以在促进消费行为方面得到一定良好的效果。
[0004]深空灰的颜色最早流行在3C行业，通常使用电泳的表面处理工艺完成。经过市场检验发现，用电泳工艺制备的深空灰薄膜存在易变色、掉颜色层、只能在铝材上进行等不足之处，从而有了在不锈钢表面用真空镀膜的方式沉积出深空灰颜色的技术需求。
[0005]深空灰颜色采用真空镀膜方式制备在工业界也有尝试，但存在工艺极不稳定，重复性很差，颜色变化较大，一直以来也没有实现批量生产。
【发明内容】
[0006]为了克服现有技术的上述缺点，本发明提供一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备及其使用方法，它能够在不锈钢上装饰深空灰，具有附着力良好，颜色均匀稳定、耐腐蚀、耐候性，耐磨擦的特点。
[0007]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备，包括一个密封的真空腔体，在该真空腔体内设置有一个圆环形的转架，在该转架上均匀排列有工件，在转架中间上下排列有两组呈圆弧形的加热管，该真空腔体一体化连接有左右两个对称的凸腔，两个凸腔内各设置有上下两个料口，其中左边的凸腔内设有放置有一对钛靶和一对钛铝合金靶的料口，右边的凸腔则对应设置有放置一对钛靶和一对钛铝合金靶的料口，在左右两个凸腔的上下两个料口之间还设置有一个气管，在右边的凸腔上端还设有一个用于放置离子源的小凸腔，在真空腔体的上端连通有一个抽真空系统。
[0008]一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备的使用方法，其步骤是:
第一步:镀膜之前先对工件进行化学清洗，清洗掉产品表面的油污、腊和颗粒物等；第二步:对真空腔体内进行抽真空处理并通过气管进行加热，抽到真空腔体内的真空值为l-9X10_4Pa，加热温度为250° C ;
第三步:在真空腔体内使用离子源对工件进行离子清洗，清洗时间为5-20min ;
第四步:利用钛靶沉积Ti底层，沉积时间5-20min ;
第五步:利用钛靶及钛铝合金靶沉积TiAlN层，沉积时间20-60min ; 第六步:利用钛靶及钛铝合金靶沉积TiAlCN层，沉积时间30-180min，降温至100°C后出炉。
[0009]在两排加热管之间则设置有与凸腔内料口及气管相连通的料口及气管。
[0010]本发明的有益效果是:深空灰的颜色均匀稳定、光泽度高、附着力好、硬度高、耐候耐磨，在3C行业又增加了一款高端大气上档次的镀膜颜色。
【附图说明】
[0011]图1是本发明结构示意图。
[0012]图中:1-抽真空系统，2-真空腔体，3-工件，4-小凸腔，5-凸腔，6_转架，7_加热管，8-气管。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
[0014]参见图1，一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备，包括一个密封的真空腔体2，在该真空腔体2内设置有一个圆环形的转架6，在该转架6上均勾排列有工件3，在转架6中间上下排列有两组呈圆弧形的加热管7，该真空腔体2 —体化连接有左右两个对称的凸腔5，两个凸腔5内各设置有上下两个料口，其中左边的凸腔5内设有放置一对钛靶和一对钛铝合金靶的料口，右边的凸腔5则对应设置有放置一对钛靶和一对钛铝合金靶的料口，在两排加热管7之间则设置有与凸腔内料口及气管8相连通的料口及气管8，在左右两个凸腔5的上下两个料口之间还设置有一个气管8，在右边的凸腔5上端还设有一个用于放置离子源的小凸腔4，在真空腔体2的上端连通有一个抽真空系统I。
[0015]一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备的使用方法，其步骤是:
第一步:镀膜之前先对工件进行化学清洗，清洗掉产品表面的油污、腊和颗粒物等；第二步:对真空腔体内进行抽真空处理并通过气管进行加热，抽到真空腔体内的真空值为1-9X 10_4 Pa，加热温度为250° C；
第三步:在真空腔体内使用离子源对工件进行离子清洗，清洗时间为5-20min ;
第四步:利用钛靶沉积Ti底层，沉积时间5-20min ;
第五步:利用钛靶及钛铝合金靶沉积TiAlN层，沉积时间20-60min ;
第六步:利用钛靶及钛铝合金靶沉积TiAlCN层，沉积时间30-180min，降温至100°C后出炉。
[0016]实施例1
工件3清洗后，进炉，抽真空至5X10_4Pa，加热到250 °C，然后离子清洗lOmin，底层沉淀15min，过渡层沉淀45min，颜色层沉淀90min，降温至100°C后出炉；测试结果:膜厚1.126um，百格硬度5B，牛仔布耐磨擦、盐雾测试通过，表面光滑，外观良好，颜色L=48.53，a=0.05，b=-2.32ο
[0017]实施例2
工件3清洗后，进炉，抽真空至5X10_4Pa，加热到250 °C，然后离子清洗lOmin，底层沉淀15min，过渡层沉淀45min，颜色层沉淀120min，降温至100°C后出炉；测试结果:膜厚1.389um，百格硬度5B，牛仔布耐磨擦、盐雾测试通过，表面光滑，外观良好，颜色L=49.75，a=0.01，b=-3.17。
[0018]实施例3
工件3清洗后，进炉，抽真空至5X10_4Pa，加热到250 °C，然后离子清洗lOmin，底层沉淀15min，过渡层沉淀45min，颜色层沉淀180min，降温至100°C后出炉；测试结果:膜厚1.659um，百格硬度5B，牛仔布耐磨擦、盐雾测试通过，表面光滑，外观良好，颜色L=49.05，a=-0.11，b=-l.51。
[0019]深空灰的颜色均匀稳定，光泽度高、附着力好、硬度高，耐候耐磨，在3C行业又增加了一款高端大气上档次的镀膜颜色。
【主权项】
1.一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备，其特征是:包括一个密封的真空腔体，在该真空腔体内设置有一个圆环形的转架，在该转架上均匀排列有工件，在转架中间上下排列有两组呈圆弧形的加热管，该真空腔体一体化连接有左右两个对称的凸腔，两个凸腔内各设置有上下两个料口，其中左边的凸腔内设有放置有一对钛靶和一对钛铝合金靶的料口，右边的凸腔则对应设置有放置一对钛靶和一对钛铝合金靶的料口，在左右两个凸腔的上下两个料口之间还设置有一个气管，在右边的凸腔上端还设有一个用于放置离子源的小凸腔，在真空腔体的上端连通有一个抽真空系统。
2.一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备的使用方法，其特征在于步骤是: 第一步:镀膜之前先对工件进行化学清洗，清洗掉产品表面的油污、腊和颗粒物等； 第二步:对真空腔体内进行抽真空处理并通过气管进行加热，抽到真空腔体内的真空值为l-9X10_4Pa，加热温度为250° C ; 第三步:在真空腔体内使用离子源对工件进行离子清洗，清洗时间为5-20min ; 第四步:利用钛靶沉积Ti底层，沉积时间5-20min ; 第五步:利用钛靶及钛铝合金靶沉积TiAlN层，沉积时间20-60min ; 第六步:利用钛靶及钛铝合金靶沉积TiAlCN层，沉积时间30-180min，降温至100°C后出炉。
3.如权利要求1所述磁控溅射沉积深空灰薄膜设备，其特征是:在两排加热管之间则设置有与凸腔内料口及气管相连通的料口及气管。
【专利摘要】本发明涉及一种磁控溅射沉积深空灰薄膜设备，包括一个密封的真空腔体，在该真空腔体内设置有一个圆环形的转架，在该转架上均匀排列有工件，在转架中间上下排列有两组呈圆弧形的加热管，该真空腔体一体化连接有左右两个对称的凸腔，两个凸腔内各设置有上下两个料口，在左右两个凸腔的上下两个料口之间还设置有一个气管，在右边的凸腔上端还设有一个用于放置离子源的小凸腔，真空腔体连通有抽真空系统。深空灰的颜色均匀稳定、光泽度高、附着力好、硬度高、耐候耐磨，在3C行业又增加了一款高端大气上档次的镀膜颜色。
【IPC分类】C23C14-06, C23C14-14, C23C14-35
【公开号】CN104846345
【申请号】CN201510302024
【发明人】杜旭颖, 阮志明, 王大洪, 曾德强, 庞文峰
【申请人】深圳市正和忠信股份有限公司
【公开日】2015年8月19日
【申请日】2015年6月5日