偏光板及其制造方法
【专利摘要】本发明提供一种偏光板及其制造方法。此偏光板的制造方法利用研磨设备的固定装置及基座挟持积层体后，利用研磨设备的研磨装置的研磨面以预设切入角研磨积层体的边缘，以制得具有良好尺寸精准度且不溢胶的偏光板。
【专利说明】
偏光板及其制造方法
技术领域
[0001] 本发明设及一种偏光板及其制造方法，且特别设及一种具有良好尺寸精准度且不 溢胶的偏光板及其制造方法。
【背景技术】
[0002] 显示器中的偏光板可改变光线的偏振方向，而可提升显示器的效能，且达成不同 的显示技术，例如维显示器或液晶显示器等的显示技术。一般现有的偏光板包含偏光 膜、黏胶层及离型层，且黏胶层是设置于偏光膜及离型层之间。其中，偏光膜可藉由黏胶层 与其他光学膜片贴合，且离型层可避免偏光板的黏胶层与其他物体沾黏，而提升偏光板的 运输便利性。
[0003] 为了量产并满足各种尺寸的光学膜片的需求，多片偏光板可先堆叠成积层体，再 同时将积层体裁剪为适当的尺寸。
[0004] 然而，当进行前述的裁切制程时，由于偏光板的机械性质较为柔初，裁切时所施加 的压力会使得积层体的各个偏光板产生些微偏移，而降低裁剪后的尺寸精准度，进而降低 后续制得的显示器的效能。此外，裁切时所施加的压力会使得裁剪后偏光板的黏胶层容易 由侧边溢胶，而使得偏光板彼此沾黏或沾黏其他物体，降低偏光板的品质。
[0005] 有鉴于此，极须提供一种偏光板及其制造方法，W改进现有偏光板及其制造方法 的缺陷。
【发明内容】
[0006] 因此，本发明的目的在于提供一种偏光板的制造方法，其是利用研磨设备研磨积 层体，而可制得具有良好尺寸精准度且不易溢胶的偏光板。
[0007] -种偏光板的制造方法，包含：提供一研磨设备，其中研磨设备包含：一基座，包 含一基座顶面；一固定装置；W及一研磨装置，包含一研磨面、一中屯、轴及一基准线，其中 研磨装置具有一半径，且基准线垂直于中屯、轴的延伸方向；将一积层体置于基座的基座顶 面上，其中积层体包含一偏光单元、一边缘及一研磨起始位置；利用固定装置及基座挟持积 层体，其中固定装置至基座顶面具有一最小挟持距离，最小挟持距离可具有一中点位置，且 中点位置、中屯、轴与基准线为共平面；进行一研磨步骤，其中研磨步骤是利用研磨面自研磨 起始位置研磨积层体的至少一边缘，W去除积层体的部分边缘，而制得至少一偏光板。
[0008] W下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。
【附图说明】
[0009] 图1绘示依照本发明的一实施例的偏光板的制造方法的流程图；
[0010] 图2a绘示依照本发明的一实施例的研磨设备的立体图。
[0011] 图化绘示依照本发明的一实施例的研磨设备的侧视图。
[0012] 图3a绘示依照本发明的一实施例的将积层体置于研磨设备的基座的侧视图；
[0013] 图3b绘示依照本发明的一实施例的偏光单元的局部剖面图；
[0014] 图3c绘示依照本发明的一实施例的进行研磨步骤时的研磨设备的侧视图；
[0015] 图4a绘示依照本发明的另一实施例的固定装置及基座挟持积层体的侧视图；
[0016] 图4b绘示依照本发明的又一实施例的固定装置及基座挟持积层体的侧视图；
[0017] 图5a绘示依照本发明的制造方法所制得的一偏光板的局部剖面图；
[0018] 图化绘示依照本发明的制造方法所制得的另一偏光板的局部剖面图。
[001引其中，附图标记
[0020] 100 :方法
[002。 110 :提供研磨设备的步骤
[0022] 120 :将积层体置于基座顶面，使积层体的偏光单元平行基座顶面的步骤
[0023] 130 :利用固定装置及基座挟持积层体的步骤
[0024] 140 :判断积层体的第一高度是否小于挟持距离的步骤
[00巧]140a :将堆叠件设于积层体的上表面或下表面，W使堆叠件的第二高度与第一高 度的总和等于挟持距离
[0026] 150 :进行研磨步骤
[0027] 160 :移除固定装置的步骤
[002引 170 :制得偏光板的步骤
[0029] 200 :研磨设备 210 :基座
[0030] 210a:基座顶面 220 :固定装置
[0031] 230:研磨装置 230a:第一旋转方向
[0032] 230b :第二旋转方向 231 :研磨面
[0033] 232:中屯、轴 232a:延伸方向
[0034] 233 :基准线 300 :积层体
[0035] 300a :上表面 300b :下表面
[0036] 300c :边缘 310 :偏光单元
[0037] 310a :光学薄膜 310b :黏着薄膜
[003引 310c :离型层 400 :堆叠件
[0039] 500a/500b :偏光板 510 :光学薄膜
[0040] 510a/510b :外缘部 520 :离型层
[0041] 520a/520b :外缘部 530 :黏着薄膜
[0042] 530a/530b :外缘部 531 :第一黏着薄膜
[0043] 531a/53化：外缘部 533 :第二黏着薄膜
[0044] 533a/533b :外缘部 目：切入角
[0045] D :挟持距离 H1 :第一高度
[0046] 肥：第二高度 C/C' ：起始位置
[0047] T/T' ：厚度 dl/dl' /d2/d2' ：内缩距离
【具体实施方式】
[0048] W下仔细讨论本发明实施例的制造和使用。然而，可W理解的是，实施例提供许多 可应用的发明概念，其可实施于各式各样的特定内容中。所讨论的特定实施例仅供说明，并 非用W限定本发明的范围。
[0049] 请同时参照图1、图2a及图2b，其中图1绘示依照本发明的一实施例的偏光板的 制造方法的流程图，且图2a及图化分别绘示依照本发明的一实施例的研磨设备的立体图 与侧视图。在一实施例中，方法100是先提供研磨设备200,如步骤110所示。
[0050] 在上述实施例中，此研磨设备200包含基座210、固定装置220及研磨装置230。前 述的研磨装置230包含研磨面231、中屯、轴232及基准线233,其中基准线233垂直于中屯、 轴232的延伸方向232曰。在一具体例中，研磨装置230可为一滚轮、一轮盘、一圆盘、前述装 置的任意组合或其他适当的研磨装置。
[0051] 请同时参照图1与图3曰，图3a绘示依照本发明的一实施例的将积层体置于研磨设 备的基座的侧视图。在步骤110后，如步骤120及图3a所示，将积层体300置于基座210的 基座顶面210a。此积层体300可包含至少一偏光单元310,接着使至少一偏光单元310的 延伸面平行于基座顶面210曰。然后，利用固定装置220及基座210挟持积层体300,如步骤 130及图3a所示。
[0052] 请参照图3曰，前述的固定装置220至基座顶面210a具有一最小挟持距离D，积层 体300具有第一高度H1，且第一高度H1小于或等于挟持距离D。在一实施例中，挟持距离 D的中点位置，即D/2的位置、研磨装置230的中屯、轴232及研磨装置230的基准线233 Ξ 者为共平面。
[0053] 在一实施例中，上述研磨装置的中屯、轴232的两倍半径2R与挟持距离D具有一比 值，且比值介于1/15~1/3之间。
[0054] 请参照图3a及图抓，其中图3b绘示依照本发明一实施例的偏光单元的局部剖面 图。在一实施例中，积层体300中的每一个偏光单元310可包含至少一光学薄膜310曰、至少 一黏着薄膜31化及至少一离型层310c，其中黏着薄膜31化设置于光学薄膜310a及离型 层310c之间。在一实施例中，上述光学薄膜310a或离型层310c与基座顶面210a或固定 装置220接触。在另一实施例中，偏光单元也可包含二层W上黏着薄膜及二层W上离型层， 且此些黏着薄膜分别设置于光学薄膜及离型层的一者之间。在另一实施例中，偏光单元也 可包含二层W上光学薄膜。
[00巧]在一实施例中，当固定装置220及基座210挟持积层体300时，于此挟持状态下所 产生的压力会将积层体300的偏光单元310中的黏着薄膜31化些微挤出而造成溢胶。
[0056] 请继续参照图1，在步骤130后，判断前述积层体300的第一高度化是否等于挟持 距离D，如步骤140所示。当第一高度H1等于挟持距离D时，进行研磨步骤，如步骤150所 /J、- 〇
[0057] 当步骤140判断前述的第一高度化小于挟持距离D时，固定装置220及基座210 无法有效挟持积层体300,故方法100须进一步进行步骤140a，才得W进行后续的研磨步骤 150。
[0058] 请同时参照图1、图4a及图4b，其中图4a及图4b分别绘示依照本发明的另一实 施例及又一实施例的固定装置及基座挟持积层体的侧视图。当步骤140判断前述的第一高 度H1小于挟持距离D时，如步骤140a所示，可将堆叠件400设置于积层体300的上表面 300曰，如图4a所示；或下表面30化，如图4b所示，W使堆叠件400的第二高度肥与第一高 度HI的总和等于挟持距离D，使固定装置220及基座210藉由堆叠件400而有效挟持积层 体300,并进行后续的研磨步骤150。
[0059] 请参照图1及图3c，其中图3c绘示依照本发明的一实施例的进行研磨步骤时的研 磨设备的侧视图。当进行研磨步骤150时，使用者可根据所欲制得的偏光板的尺寸要求，调 整固定装置220、及/或基座210、及/或研磨装置230于水平方向或垂直方向的移动距离， 藉此连带移动积层体300的位置，使挟持距离D的中点位置，即D/2的位置、研磨装置230 的中屯、轴232及研磨装置230的基准线233 Ξ者为共平面。接着，使研磨装置230的研磨 面231 W-预设切入角Θ研磨积层体300的边缘300c，W调整积层体300的被研磨量，从 而去除积层体300的部分边缘300c。
[0060] 前述的切入角Θ是指研磨装置230的研磨面231研磨积层体的起始位置C或C' 与研磨装置230的中屯、轴232的连线及基准线233所形成的夹角。且依上述定义，当积层 体的起始位置C或C'与基准线233平行时，切入角Θ即为0°。
[0061] 当前述的起始位置为C时，研磨装置230的研磨面231 W第一旋转方向230a研磨 积层体300的边缘300c。其中，第一旋转方向230a指由积层体300的上表面300a往下表 面30化的方向，且定义切入角Θ为正值。
[0062] 于另一种方式中，当前述的起始位置为C'时，研磨装置230的研磨面231 W第二 旋转方向23化研磨积层体300的边缘300c。其中，第二旋转方向23化指由积层体300的 下表面30化往上表面300a的方向，且定义切入角Θ为负值。
[0063] 前述的切入角满足下式（I):
[0064]
[0065] 于式（I)中，Θ代表切入角，D代表挟持距离，R代表研磨装置的半径。在本实施 例中，切入角Θ可介于-70°至70。。
[0066] 倘若前述挟持距离D的中点位置、中屯、轴232及基准线233不为共平面时，研磨装 置230的中屯、轴232会较挟持距离D的中点位置高或低。当中屯、轴232高于挟持距离D的 中点位置时，对于积层体300的上部的偏光单元310而言，其切入角Θ的角度小于70° ; 对于积层体300的下部的偏光单元310而言，其切入角Θ的角度大于70°。基于前述相同 的移动距离，积层体300的上部及下部的偏光单元310会具有不等量的被研磨部分，亦即上 部的偏光单元310与下部的偏光单元310具有不同的研磨量，而降低研磨所制得的偏光板 的尺寸精准度，且所制得的偏光板具有溢胶的缺陷。
[0067] 前述积层体300的上部的偏光单元310指堆叠位置高于挟持距离D的中点位置的 偏光单元310 ;反之，积层体300的下部的偏光单元310指堆叠位置低于挟持距离D的中点 位置的偏光单元310。
[0068] 反之，当中屯、轴232低于挟持距离D的中点位置时，对于积层体300的上部的偏光 单元310而言，其切入角Θ的角度大于70° ;对于积层体300的下部的偏光单元310而言， 其切入角Θ的角度小于70°。据此，研磨所制得的偏光板亦具有尺寸精准度不佳及溢胶的 缺陷。
[0069] 此外，倘若积层体300的第一高度化大于挟持距离D时，除了固定装置220及基 座210不易挟持积层体300的缺点外，积层体300的偏光单元310中的黏着薄膜会被完全 挤出，而使所制得的偏光板不具有黏着薄膜，进而无法应用。
[0070] 其次，当第一高度化大于挟持距离D时，研磨面231亦会W更大的切入角Θ，如大 于70°去研磨积层体300的至少一边缘300c，而降低所制得的偏光板的尺寸精准度。
[0071] 请参照图1，在研磨步骤150后，如步骤160及步骤170所示，移除研磨设备200及 固定装置220, W制得至少一偏光板。据此，本发明利用研磨步骤研磨积层体的每一个偏光 单元310, W使研磨后的偏光单元310形成偏光板。
[0072] 请参照图5a，其绘示依照本发明的制造方法所制得的偏光板的局部剖面图。其中， 偏光板500a包含一光学薄膜510、一离型层520及一黏着薄膜530。此离型层520的两外 缘部520a或52化分别对齐光学薄膜510的两外缘部510a或51化，且黏着薄膜530设置于 光学薄膜510及离型层520之间。
[0073] 当前述的固定装置220移除后，因为挟持压力解除W及自身的内聚力的影响，黏 着薄膜530的外缘部530a或53化会分别较光学薄膜510的二外缘部510a或51化更加内 缩。
[0074] 其次，由于研磨装置的研磨面的粗糖表面及前述内聚力的影响，当黏着薄膜530 内缩时，黏着薄膜530经研磨后的外缘部530a或53化可呈一不规则面。在一实施例中，上 述不规则面可为一连续曲面。在一实施例中，上述不规则面可至少包含一曲面区域。在另 一实施例中，黏着薄膜530的外缘部530a或53化可为一圆弧面或一银齿面。在一实施例 中，上述不规则面可为一连续曲面。
[00巧]基于光学薄膜510的二外缘部510a或51化为起始点，黏着薄膜530的两外缘部 530a或53化的不规则面可具有一最大内缩距离dl及d2。其中上述最大内缩距离dl为黏 着薄膜530的最大内缩位置至光学薄膜510的一外缘部510a与离型层520的同侧外缘部 520a的连线进行量测所得的垂直距离。最大内缩距离d2的量测方法同上述方式，不再寶 述。
[0076] 其中，任一最大内缩距离dl或d2与黏着薄膜530的厚度T的比值不超过1.8。在 一实施例中，任一最大内缩距离dl或d2与黏着薄膜530的厚度T的比值介于0. 25至1. 8。
[0077] 当前述的最大内缩距离dl或d2与厚度T的比值超过1. 8时，所制得偏光板的黏 着薄膜530的黏贴面积会减少，使得偏光板不易与其他光学膜片贴合或是造成液晶显示模 组漏光，进而影响其应用。
[0078] 光学薄膜510的黏着薄膜530的厚度一般并无特别限制，然而在一实施例中，黏着 薄膜530的厚度可例如为5 μηι至50 μηι。
[0079] 在一实施例中，光学薄膜510可举例如：偏光转换元件、反射板、或半穿透板、相位 差板、视角补偿薄膜、辉度提升薄膜、保护薄膜、配向液晶层、易接合处理层、硬涂层、抗反射 层、防黏层、扩散层、防眩层等各种表面处理层。在一实施例中，光学薄膜510可为多层结 构，且该多层可为选自上列的组合。
[0080] 在一实施例中，离型层520的材料可选自聚乙締、聚丙締、聚对苯二甲酸乙二醋等 合成树脂薄膜；橡胶片、纸、布、不织布、网状物、发泡片、金属锥及该等的层积体的适当薄层 体。
[0081] 在一实施例中，黏着薄膜530的材料可选自在丙締酸聚合物中调配丙締酸寡聚物 与硅烷偶合剂而获得者，或在丙締酸聚合物中添加光聚合起始剂，并经照射紫外线OJV)而 获得者，或丙締酸聚合物中添加抗静电成分的化合物。
[0082] 请参照图加，其绘示依照本发明的制造方法所制得的另一偏光板的局部剖面图。 其中，偏光板50化包含一光学薄膜510、二离型层520、一第一黏着薄膜531与一第二黏着 薄膜533。两离型层520的两外缘部520a或52化分别对齐光学薄膜510的两外缘部510a 或510b，且分别设置于光学薄膜510的二侧。第一黏着薄膜531与第二黏着薄膜533分别 设置于光学薄膜510及两离型层520之间。
[008引相同地，由于内聚力的影响，第一黏着薄膜531的外缘部531a或53化，化及第二黏 着薄膜533的外缘部533a或533b，都分别较光学薄膜510的二外缘部510a或51化内缩， 且第一黏着薄膜531或第二黏着薄膜533的外缘部531a、531b、533a或533b可呈一不规则 面。在一实施例中，上述不规则面可至少包含一曲面区域。在一实施例中，上述不规则面可 为一连续曲面。在另一实施例中，第一黏着薄膜531或第二黏着薄膜533的外缘部531a、 53化、533a或533b也可为一圆弧面或一银齿面。
[0084] 基于光学薄膜510的二外缘部510a或51化为起始点，第一黏着薄膜531或第二 黏着薄膜533的外缘部53la、53化、533a或533b的不规则面可具有一最大内缩距离dl、d2、 dr及d2'。最大内缩距离dl、d2、dr及d2'的量测方法同上述实施例所述的方式，不再寶 述。
[0085] 在一实施例中，第一黏着薄膜531的厚度T与第二黏着薄膜533的厚度Τ'不相同。 在一实施例中，第一黏着薄膜531的厚度Τ约为50 μ m至250 μ m，且第二黏着薄膜533的厚 度Τ'约为5μπι至50μπι。
[0086] 其中，最大内缩距离dl或d2与第一黏着薄膜531的厚度Τ的比值不超过1. 8,且 内缩距离dr或d2'与第二黏着薄膜533的厚度Τ'的比值不超过1. 8。在一实施例中，内 缩距离dl或d2中的最大内缩距离与厚度Τ的比值可介于0. 25至1. 8,且内缩距离dr或 d2'中的最大内缩距离与厚度Τ'的比值可介于0. 25至1. 8。
[0087] 同样地，当第一黏着薄膜531或第二黏着薄膜533的内缩距离与厚度Τ或Τ'的比 值超过1. 8时，所制得偏光板50化的第一黏着薄膜531或第二黏着薄膜533的黏胶黏贴面 积减少，使得偏光板不易与其他光学膜片贴合或是造成液晶显示模组漏光，进而影响其应 用。
[0088] W下利用实施例W说明本发明的应用，然其并非用W限定本发明，任何熟习此技 艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。
[008引制备偏光板
[0090]
[00川 实施例1
[0092] 请同时参照图3a至图3c，将积层体300先置于基座210上，并利用固定装置220 及基座210挟持积层体300,其中积层体300包含多个偏光单元310,此些偏光单元310均包 含至少一层黏着薄膜310b，且此黏着薄膜31化设置于光学薄膜310a及离型层310c之间。 在此实施例中，积层体300的第一高度H1等于固定装置220与基座210的挟持距离D。
[0093] 然后，将研磨装置230的研磨面231 W 70。的切入角Θ研磨积层体300。进行研 磨步骤后，即可制得实施例1的偏光板，其结构如图5a所示。所得的偏光板W下列的评价方 式进行评价，且其评价结果如第1表所示，其中研磨品质及内缩程度的检测方法容后再述。
[0094] 实施例2至实施例6及比较例1至比较例4
[0095] 实施例2至实施例6及比较例1至比较例4使用与实施例1相同的方法来制备偏 光板。不同的是，实施例2至实施例6及比较例1至比较例4利用不同的切入角研磨不同 结构的积层体300,其中当偏光单元310包含二层黏着薄膜时，此些黏着薄膜分别设置于光 学薄膜的两侧，且于黏着薄膜中，远离光学薄膜的另一侧设有离型层，其制造完成后的结构 图如图化所示。实施例2至实施例6及比较例1至比较例4的条件及评价结果如第1表 所示，此处不另寶述。
[009引评价方式 [0097] 1.研磨品质
[009引前述实施例1至实施例6及比较例1至比较例4所制得的偏光板，可根据研磨后 的尺寸精准度及溢胶状况，评价偏光板的研磨品质。
[0099] 申言之，偏光板的尺寸精准度分别将实施例1至实施例6及比较例1至比较例4所 制得的偏光板放至于水平平台上，保持偏光板为平整状态，W游标卡尺量测偏光板的尺寸， 并计算其与欲制得的尺寸的误差値。计算所得的尺寸误差値根据W下基准进行评价：
[0100] ◎:尺寸误差値兰±0. 1公厘；
[0101] 0 :+〇. 1公厘<尺寸误差値兰±0. 2公厘；
[010引 X :±0. 2公厘<尺寸误差値。
[0103] 前述溢胶状况的评价方式W目视的方式判断偏光板的黏着薄膜是否有溢出。
[0104] 2.内缩程度
[0105] 本发明所制得偏光板的黏着薄膜的内缩程度根据下式（II)计算，其中黏着薄膜 的最大内缩距离藉由光学显微镜量测，其中黏着薄膜最大内缩距离的量测方法同上述实施 例所述的方式，不再寶述：
[0106]
[0107] 根据第1表的结果可知，当研磨装置的研磨面W 70°至-70°的切入角Θ研磨积 层体时，所制得的偏光板具有良好的尺寸精准度，且偏光板的黏着薄膜不易溢出，而可减少 黏胶的污染，并降低偏光板与其他光学膜片沾黏的发生，因此提升偏光板制程的良率及偏 光板的品质。
[0108] 其次，藉由前述70°至-70°的切入角Θ研磨积层体时，所制得偏光板的黏着薄 膜的内缩程度，即黏着薄膜内缩距离与厚度的比值大于0且不超过1. 8,而确保偏光板可与 其他光学膜片有效贴合。
[0109] 此外，当切入角Θ不为70°至-70°时，所制得偏光板的尺寸精准度不佳，且偏光 板的黏着薄膜未内缩，而使得偏光板的黏着薄膜容易溢胶，进而降低偏光板的品质。
[0110]当然，本发明还可有其他多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟 悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但运些相应的改变和变 形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。
【主权项】
1. 一种偏光板的制造方法，其特征在于，包含： 提供一研磨设备，其中该研磨设备包含： 一基座，包含一基座顶面； 一固定装置；及 一研磨装置，包含一研磨面、一中屯、轴及一基准线，其中该研磨装置具有一半径，且该 基准线垂直于该中屯、轴的延伸方向； 将一积层体置于该基座的该基座顶面上，其中该积层体包含一偏光单元、一边缘及一 研磨起始位置； 利用该固定装置及该基座挟持该积层体，其中该固定装置至该基座顶面具有一挟持距 离，该挟持距离可具有一中点位置，且该中点位置、该中屯、轴与该基准线为共平面；W及 进行一研磨步骤，其中该研磨步骤是利用该研磨面自该研磨起始位置研磨该积层体的 至少一边缘，W去除该积层体的部分边缘，而制得该至少一偏光板，其中该研磨起始位置与 该中屯、轴的连线及该基准线所形成的夹角可定义为一切入角Θ，且该切入角Θ满足下式 (I):巧 于该式（I)中，该D代表该挟持距离，该R代表该研磨装置的该半径。2. 根据权利要求1根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该切入角 Θ 为-70° 至 70。。3. 根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该积层体具有一第一高度， 且该第一高度小于或等于该挟持距离。4. 根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该积层体包含一上表面与 一下表面，且该上表面与下表面分别与该边缘相邻，且其中该研磨面由该积层体的该上表 面往该积层体的该下表面方向研磨该边缘，或该研磨面由该积层体的该下表面往该积层体 的该上表面方向研磨该边缘。5. 根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该中屯、轴的两倍半径与该 挟持距离具有一比值，且该比值介于1/15~1/3之间。6. 根据权利要求1所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该至少一偏光板包含： 一光学薄膜，具有一第一外缘部； 一离型层，具有一第二外缘部，且该第二外缘部对齐该第一外缘部；W及 一黏着薄膜，具有一第Ξ外缘部及一第一厚度，且该黏着薄膜设于该光学薄膜及该离 型层之间，其中该黏着薄膜的第Ξ外缘部分别较该第一外缘部或该第二外缘部内缩，且具 有一第一最大内缩距离，其中该第一最大内缩距离与该黏着薄膜的该第一厚度比值大于0 且不超过1.8。7. 根据权利要求6所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该黏着薄膜的该第Ξ外缘 部呈一不规则面、一连续曲面、一圆弧面或一银齿面，且该第=外缘部可W包含一曲面区 域。8. 根据权利要求6所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该至少一偏光板更包含： 一第二黏着薄膜，具有一第四外缘部及一第二厚度，且该第二黏着薄膜设于该光学薄 膜相对于该第一黏着薄膜的另一侧；W及 一第二离型层，设置于该第二黏着薄膜相对于该光学薄膜的另一侧，且该一第二离型 层具有一第五外缘部，且该对齐该第一外缘部，其中该第二黏着薄膜的第四外缘部分别较 该第一外缘部或该第五外缘部内缩，且具有一第二最大内缩距离，其中该第二最大内缩距 离与该第二黏着薄膜的该第二厚度比值大于0且不超过1. 8。9.根据权利要求8所述的偏光板的制造方法，其特征在于，该第一厚度与该第二厚度 不相等。
【文档编号】B24B37/00GK105834884SQ201510522384
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2015年8月24日
【发明人】陈志添, 黄怡菱, 陈彦年, 李愷澄
【申请人】住华科技股份有限公司