软接触上盘工装的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种软接触上盘工装，包括光胶垫板，所述光胶垫板与光学零件接触的光胶面上设置有一层具有缓冲作用的保护层，其在上盘时使得光学零件与光胶垫板之间为软接触以对光学零件表面进行保护，光学零件的基础不受损伤，并能够保证各项加工技术指标。
【专利说明】
软接触上盘工装
技术领域
[0001]本发明涉及光学零件加工装置领域，更具体的说，是涉及一种软接触上盘工装。
【背景技术】
[0002]在高精度光学零件加工过程中，上盘是一个重要的工序，合理的和正确的上盘方法，才能保证光学零件的各项技术指标。光胶是利用两个抛光面紧密贴合后分子引力的作用，将零件固定在光学工具上的一种方法，它适用于高精度的玻璃平板、棱镜等的加工。光胶上盘即利用光学工具光胶零件，即根据工具的角度与零件的角度互补180度后，利用光胶垫板与被加工面成一对平行平面的原理，加工中依靠控制其平行差来保证零件的精度，平板零件可直接光胶在光胶垫板上加工。现有的光胶上盘可以加工出平行差小于10秒的光学零件，但现有的光胶上盘工装其直接采用光胶垫板，与光学零件是一种刚性硬接触，零件接触会受到一定程度的损伤，很难达到n、m级表面光洁度。
【发明内容】
[0003]本发明为了解决上述技术问题提供一种软接触上盘工装，在上盘时使得光学零件与光胶垫板之间为软接触以对光学零件表面进行保护，光学零件的基础不受损伤，并能够保证各项加工技术指标。
[0004]本发明通过下述技术方案实现:
软接触上盘工装，包括光胶垫板，所述光胶垫板与光学零件接触的光胶面上设置有一层具有缓冲作用的保护层。本发明在现有技术的基础上做了改进，在光胶垫板的表面设置一层具有缓冲作用的保护层，在上盘时，使得光学零件与光胶垫板之间为软接触，保护层对光学零件起缓冲作用，避免光学零件的基础受到损伤。保护层起缓冲作用，即具有弹性，在加工过程中可显著降低加工过程中产生的应力对零件形变影响。
[0005]作为优选，所述保护层为等厚结构且厚度为0.03毫米至0.05毫米。保护层为等厚结构，可减小光学零件的平行差。保护层对光学零件起保护作用，厚度控制在0.03毫米至
0.05毫米范围内，当其厚度较厚时，不仅难以保证在各处等厚，也会使得保护层内存储更多的保护液，使光学零件上盘后粘接不牢，影响光学零件加工效果。
[0006]作为优选，所述保护层为重叠式网状结构或筛状结构。保护层成重叠式网状结构或筛状结构，有利于储存保护液，使保护层处于润湿状态，保持接触面的弹性，有利于提高加工产品的平行差。
[0007]作为优选，所述光胶垫板的平行差<5秒，低光圈偏差值< 5、光洁度B=V。
[0008]作为优选，所述保护层由软质材料制得。
[0009]本发明与现有技术相比，至少具有如下的优点和有益效果:
本发明将在光胶垫板的表面设置一层具有缓冲作用的保护层，在上盘时，使得光学零件与光胶垫板之间为软接触，保护层对光学零件起缓冲作用，避免光学零件的基础受到损伤。
【附图说明】
[0010]此处所说明的附图用来提供对本发明实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本发明实施例的限定。在附图中:
图1为本发明结构示意图。
[0011]附图中标记及对应的零部件名称:
1-光胶垫板，2-保护层。
【具体实施方式】
[0012]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本发明作进一步的详细说明，本发明的示意性实施方式及其说明仅用于解释本发明，并不作为对本发明的限定。
实施例
[0013]如图1所示的一种软接触上盘工装，包括光胶垫板，所述光胶垫板与光学零件接触的光胶面上设置有一层具有缓冲作用的保护层。
[0014]所述保护层为等厚结构且厚度为0.03毫米至0.05毫米。
[0015]所述保护层为重叠式网状结构或筛状结构。
[0016]所述光胶垫板的平行差彡5秒，低光圈偏差值彡5、光洁度B=V。在制作软接触上上盘工装时，用一平板玻璃抛压，使其表面平整，最后测量平行差应小于5秒即可待用。
[0017]所述保护层由软质材料制得。保护层由软质材料、液体等组成。保护层的软质材料可采用镜头纸，保护液可采用液体石蜡。
[0018]操作时，按光胶上盘要求，将零件擦拭干净按排列摆放到已制作好的光胶垫板上进行粘结。零件下盘后，用汽油稍稍浸泡去除残留的粘结胶后，可重复使用几次。采用该种软接触上盘工装加工的零件的光洁度高于I级，025和050的零件，其平行差分别小于30秒和1秒。
[0019]以上所述的【具体实施方式】，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的【具体实施方式】而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.软接触上盘工装，包括光胶垫板，其特征在于:所述光胶垫板与光学零件接触的光胶面上设置有一层具有缓冲作用的保护层。2.根据权利要求1所述的软接触上盘工装，其特征在于:所述保护层为等厚结构且厚度为0.03晕米至0.05晕米。3.根据权利要求1所述的软接触上盘工装，其特征在于:所述保护层为重叠式网状结构或筛状结构。4.根据权利要求1所述的软接触上盘工装，其特征在于:所述光胶垫板的平行差<5秒，低光圈偏差值<5、光洁度B=V。5.根据权利要求1所述的软接触上盘工装，其特征在于:所述保护层由软质材料制得。
【文档编号】B24B13/005GK105965347SQ201610579859
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年7月22日
【发明人】陈兴建, 曾贤高
【申请人】成都贝瑞光电科技股份有限公司