铝合金的表面镜面处理工艺的制作方法
【专利摘要】本发明涉及金属表面处理技术领域，具体公开了铝合金的表面镜面处理工艺，包括：S1.将铝合金制品的表面进行研磨，除去制品表面的素材纹路，达到镜面光洁度；S2.对铝合金制品进行清洗；S3.将铝合金制品进行阳极氧化处理；S4.将铝合金制品送至磁流变抛光设备中进行磁流变抛光处理，获得高亮透明氧化膜；S6.将磁流变抛光后的铝合金制品进行清洗，再将铝合金制品作封孔处理；S7.表面镜面处理工艺完成。本处理工艺先将铝合金制品进行阳极氧化，然后进行首次封孔，再进行磁流变抛光，利用本磁流变抛光工艺可以获得具有镜面效果的铝合金制造，同时，良品率高，表面处理效果好。
【专利说明】
铝合金的表面镜面处理工艺
技术领域
[0001]本发明涉及金属表面处理技术领域，尤其涉及一种铝合金的表面镜面处理工艺。
【背景技术】
[0002]现在，铝合金已作为应用最为普遍的合金金属，特别是在电脑、手机等电子设备行业的运用相当广泛，但是由于现有工艺在对产品做外观处理时，往往采用阳极工艺，以使其表面可进行染色而提高装饰性，当需要取得镜面透明效果时，其现有工艺在做阳极处理后往往是通过布轮抛光工艺去取得透明的镜面效果，但是，现有的布轮抛光工艺在抛光过程中，容易出现抛光散热差，抛光后产品表面橘皮严重，阳极膜脱落，掉色工艺极不稳定的现象，造成良品率低，因此，现有工艺采用铝合金取得镜面工艺的存在较大技术难题，因此，现有的铝合金产品存在较大的使用局限性，大大限制了它在电子产品行业的应用。
[0003]针对以上现状，发明人经反复的试验和论证，提出了铝合金的表面镜面处理工艺，从而突破铝合金的使用局限。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于针对现有技术的不足，提供一种铝合金的表面镜面处理工艺，利用本表面镜面处理工艺处理的产品良品率高、产品表面质量好。
[0005]为实现上述目的，本发明的一种铝合金的表面镜面处理工艺，包括如下工艺步骤:
S1.将铝合金制品的表面进行研磨，除去制品表面的素材纹路，达到镜面光洁度;所述的镜面光洁度通常是指产品的表面粗糙度为Ra0.2以下，即可达到较好的镜面效果。
[0006]S2.对铝合金制品进行清洗；
53.将铝合金制品进行阳极氧化处理；
54.将铝合金制品送至磁流变抛光设备中进行磁流变抛光处理，获得高亮透明氧化膜；
55.将磁流变抛光后的铝合金制品进行清洗，再将铝合金制品作封孔处理；
56.表面镜面处理工艺完成。
[0007]进一步的，在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在150?200KA/m，控制抛光盘转速为40?60r/min，控制铝合金制品自转速度为100?150r/min，同时使铝合金制品与抛光轮的间隙为1.0?1.5mm。
[0008]作为优选，在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在150KA/m，控制抛光盘转速为40 r/min，控制招合金制品自转速度为100 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.0mm。
[0009]作为优选，在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在165KA/m，控制抛光盘转速为45 r/min,控制招合金制品自转速度为115 r/ min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.1mm。
[0010]作为优选，在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在180KA/m，控制抛光盘转速为50 r/min，控制招合金制品自转速度为130 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.25mm。
[0011 ]作为优选，在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在190KA/m，控制抛光盘转速为55 r/min，控制招合金制品自转速度为140 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.35mm。
[0012]作为优选，在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在200KA/m，控制抛光盘转速为60 r/min,控制招合金制品自转速度为150 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.5mm。
[0013]进一步的，在S3步骤阳极氧化后，在S4步骤之前，还包括将铝合金制品进行首次封孔。
[0014]进一步的，在S5步骤中，将铝合金制品置于热水中进行热封孔，所述热水温度为90-1OO0C,所述热水PH值为5.5?6.5。
[0015]进一步的，热封孔完成后，再将铝合金制品进行烘干。
[0016]本发明的有益效果:与现有技术相比，本发明的一种铝合金的表面镜面处理工艺，本处理工艺先将铝合金制品进行阳极氧化，然后进行首次封孔，再进行磁流变抛光，利用本磁流变抛光工艺可以获得具有镜面效果的铝合金制造，同时，良品率高，表面处理效果好。
【附图说明】
[0017]图1为本发明的工艺流程图。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图1对本发明进行详细的说明。
[0019]实施例一。
[0020]一种铝合金的表面镜面处理工艺，包括如下工艺步骤:
51.将铝合金制品的表面进行研磨，除去制品表面的素材纹路，达到镜面光洁度；
52.对铝合金制品进行清洗；
53.将铝合金制品进行阳极氧化处理;所述阳极氧化处理后在铝合金的表面形成一层阳极氧化膜，该阳极氧化膜根据产品的需要可以是透明或半透明膜，阳极氧化处理后最好将铝合金制品进行首次封孔。所述首次封孔采用冷封孔进行处理，从而有利于快速的将封孔后的铝合金制品送入下一处理工序。
[0021]为了提高阳极氧化膜的透明光洁度，在本S4步骤中，将铝合金制品送至磁流变抛光设备中进行磁流变抛光处理，获得高亮透明氧化膜;具体地说，在本步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在150KA/m，控制抛光盘转速为40 r/min，控制铝合金制品自转速度为100 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.0mm。本控制方法中，将磁场强度控制在较低的参数，同时，降低工件与抛光轮之间的间隙，这样，当磁流变液在抛光轮的作用下对工件与抛光轮之间的间隙进行填充，从而对工件进行抛光，本步骤中，为了提高工件的表面抛光质量，利用磁流变抛光设备的主轴控制工件进行自转，从而可以使产品的表面抛光更加均匀，避免出现单一的抛光纹路影响外观。
[0022]S5.将磁流变抛光后的铝合金制品进行清洗，再将铝合金制品作封孔处理;在本步骤中，将铝合金制品置于热水中进行热封孔，所述热水温度为90?100°C，经过反复实验可知，当热水温度为95°C时，铝合金制品能够得到最好的封孔质量。同时，在热封孔时，需要进一步控制热水的酸碱度，避免热水的PH值过酸或过碱对铝合金制品造成的腐蚀，经过实验得知，所述热水PH值为5.5-6.5时，均可确保热水对铝合金制品的正确封孔。
[0023]当热封孔完成后，再将铝合金制品进行烘干，烘干的温度控制在30?50°C即可，以避免过高的烘干温度造成封孔质量的下降。
[0024]S6.表面镜面处理工艺完成。
[0025]由本实施例完成的铝合金制品能够得到较佳的镜面效果，同时，采用的磁流变抛光可以避免过热造成氧化膜脱落或起皮现象，产品的表面质量好。
[0026]实施例二。
[0027]一种铝合金的表面镜面处理工艺，包括如下工艺步骤:
51.将铝合金制品的表面进行研磨，除去制品表面的素材纹路，达到镜面光洁度；
52.对铝合金制品进行清洗；
53.将铝合金制品进行阳极氧化处理；阳极氧化处理后将铝合金制品进行首次封孔。所述首次封孔采用冷封孔进行处理，从而有利于快速的将封孔后的铝合金制品送入下一处理工序。
[0028]S4.将铝合金制品送至磁流变抛光设备中进行磁流变抛光处理，获得高亮透明氧化膜;具体地说，在本步骤中，在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在165KA/m，控制抛光盘转速为45 r/min，控制招合金制品自转速度为115 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.1mm。本控制方法中，将磁场强度进一步增加，从而进一步提升磁流变液的强度，同时，提高工件与抛光轮之间的间隙，这样，当磁流变液在抛光轮的作用下对工件与抛光轮之间的间隙进行填充，从而对工件进行抛光，本步骤中，为了提高工件的表面抛光质量，利用磁流变抛光设备的主轴控制工件进行自转，从而可以使产品的表面抛光更加均匀，避免出现单一的抛光纹路影响外观。本实施例的参数控制的作用是尽量使磁流变液在变硬形成Bingham流体时，使流体的顶端与工件进行接触，从而可以得到更加精细的抛光精度。
[0029]S5.将磁流变抛光后的铝合金制品进行清洗，再将铝合金制品作封孔处理;在本步骤中，将铝合金制品置于热水中进行热封孔，所述热水温度为90?100°C，经过反复实验可知，当热水温度为95°C时，铝合金制品能够得到最好的封孔质量。同时，在热封孔时，需要进一步控制热水的酸碱度，避免热水的PH值过酸或过碱对铝合金制品造成的腐蚀，经过实验得知，所述热水PH值为5.5-6.5时，均可确保热水对铝合金制品的正确封孔。
[0030]当热封孔完成后，再将铝合金制品进行烘干，烘干的温度控制在30?50°C即可，以避免过高的烘干温度造成封孔质量的下降。
[0031]S6.表面镜面处理工艺完成。
[0032]由本实施例完成的铝合金制品能够得到较佳的镜面效果，同时，采用的磁流变抛光可以避免过热造成氧化膜脱落或起皮现象，产品的表面质量好。
[0033]实施例三。
[0034]一种铝合金的表面镜面处理工艺，包括如下工艺步骤:
51.将铝合金制品的表面进行研磨，除去制品表面的素材纹路，达到镜面光洁度；
52.对铝合金制品进行清洗；S3.将铝合金制品进行阳极氧化处理；阳极氧化处理后将铝合金制品进行首次封孔。所述首次封孔采用冷封孔进行处理，从而有利于快速的将封孔后的铝合金制品送入下一处理工序。
[0035]S4.将铝合金制品送至磁流变抛光设备中进行磁流变抛光处理，获得高亮透明氧化膜;具体地说，在本步骤中，在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在180KA/m，控制抛光盘转速为50 r/min，控制招合金制品自转速度为130 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.25_。本控制方法中，将磁场强度进一步增加，从而进一步提升磁流变液的强度，同时，提高工件与抛光轮之间的间隙，这样，当磁流变液在抛光轮的作用下对工件与抛光轮之间的间隙进行填充，从而对工件进行抛光，本步骤中，为了提高工件的表面抛光质量，利用磁流变抛光设备的主轴控制工件进行自转，从而可以使产品的表面抛光更加均匀，避免出现单一的抛光纹路影响外观。本实施例的参数控制的作用是尽量使磁流变液在变硬形成Bingham流体时，使流体的顶端与工件进行接触，从而可以得到更加精细的抛光精度。
[0036]S5.将磁流变抛光后的铝合金制品进行清洗，再将铝合金制品作封孔处理;在本步骤中，将铝合金制品置于热水中进行热封孔，所述热水温度为90?100°C，经过反复实验可知，当热水温度为95°C时，铝合金制品能够得到最好的封孔质量。同时，在热封孔时，需要进一步控制热水的酸碱度，避免热水的PH值过酸或过碱对铝合金制品造成的腐蚀，经过实验得知，所述热水PH值为5.5-6.5时，均可确保热水对铝合金制品的正确封孔。
[0037]当热封孔完成后，再将铝合金制品进行烘干，烘干的温度控制在30?50°C即可，以避免过高的烘干温度造成封孔质量的下降。
[0038]S6.表面镜面处理工艺完成。
[0039]由本实施例完成的铝合金制品能够得到较佳的镜面效果，同时，采用的磁流变抛光可以避免过热造成氧化膜脱落或起皮现象，产品的表面质量好。
[0040]实施例四。
[0041]—种铝合金的表面镜面处理工艺，包括如下工艺步骤:
51.将铝合金制品的表面进行研磨，除去制品表面的素材纹路，达到镜面光洁度；
52.对铝合金制品进行清洗；
53.将铝合金制品进行阳极氧化处理；阳极氧化处理后将铝合金制品进行首次封孔。所述首次封孔采用冷封孔进行处理，从而有利于快速的将封孔后的铝合金制品送入下一处理工序。
[0042]S4.将铝合金制品送至磁流变抛光设备中进行磁流变抛光处理，获得高亮透明氧化膜;具体地说，在本步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在190KA/m，控制抛光盘转速为55 r/min，控制招合金制品自转速度为140 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.35mm。本控制方法中，将磁场强度进一步增加，从而进一步提升磁流变液的强度，在较高参数的磁场作用下，使磁流变液硬化流体的体积提高，使硬化的流体与工件具有更大的接触面积，同时，提高工件与抛光轮之间的间隙，这样，当磁流变液在抛光轮的作用下对工件与抛光轮之间的间隙进行填充，从而对工件进行抛光，本步骤中，为了提高工件的表面抛光质量，利用磁流变抛光设备的主轴控制工件进行自转，从而可以使产品的表面抛光更加均匀，避免出现单一的抛光纹路影响外观。本实施例的参数控制的作用是尽量使磁流变液在变硬形成Bingham流体时，使流体的顶端与工件进行接触，从而可以得到更加精细的抛光精度，再结合硬化流体与工件具有较大的接触面积的情况下，实现提高工艺效率的目的。
[0043]S5.将磁流变抛光后的铝合金制品进行清洗，再将铝合金制品作封孔处理;在本步骤中，将铝合金制品置于热水中进行热封孔，所述热水温度为90?100°C，经过反复实验可知，当热水温度为95°C时，铝合金制品能够得到最好的封孔质量。同时，在热封孔时，需要进一步控制热水的酸碱度，避免热水的PH值过酸或过碱对铝合金制品造成的腐蚀，经过实验得知，所述热水PH值为5.5-6.5时，均可确保热水对铝合金制品的正确封孔。
[0044]当热封孔完成后，再将铝合金制品进行烘干，烘干的温度控制在30?50°C即可，以避免过高的烘干温度造成封孔质量的下降。
[0045]S6.表面镜面处理工艺完成。
[0046]由本实施例完成的铝合金制品能够得到较佳的镜面效果，同时，采用的磁流变抛光可以避免过热造成氧化膜脱落或起皮现象，产品的表面质量好。
[0047]实施例五。
[0048]一种铝合金的表面镜面处理工艺，包括如下工艺步骤:
51.将铝合金制品的表面进行研磨，除去制品表面的素材纹路，达到镜面光洁度；
52.对铝合金制品进行清洗；
53.将铝合金制品进行阳极氧化处理；阳极氧化处理后将铝合金制品进行首次封孔。所述首次封孔采用冷封孔进行处理，从而有利于快速的将封孔后的铝合金制品送入下一处理工序。
[0049]S4.将铝合金制品送至磁流变抛光设备中进行磁流变抛光处理，获得高亮透明氧化膜;具体地说，在本步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在200KA/m，控制抛光盘转速为60 r/min，控制招合金制品自转速度为150 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.5mm。本控制方法中，将磁场强度进一步增加，从而进一步提升磁流变液的强度，在较高参数的磁场作用下，使磁流变液硬化流体的体积提高，使硬化的流体与工件具有更大的接触面积，同时，提高工件与抛光轮之间的间隙，这样，当磁流变液在抛光轮的作用下对工件与抛光轮之间的间隙进行填充，从而对工件进行抛光，本步骤中，为了提高工件的表面抛光质量，利用磁流变抛光设备的主轴控制工件进行自转，从而可以使产品的表面抛光更加均匀，避免出现单一的抛光纹路影响外观。本实施例的参数控制的作用是尽量使磁流变液在变硬形成Bingham流体时，使流体的顶端与工件进行接触，从而可以得到更加精细的抛光精度，再结合硬化流体与工件具有较大的接触面积的情况下，实现提高工艺效率的目的。
[0050]S5.将磁流变抛光后的铝合金制品进行清洗，再将铝合金制品作封孔处理;在本步骤中，将铝合金制品置于热水中进行热封孔，所述热水温度为90?100°C，经过反复实验可知，当热水温度为95°C时，铝合金制品能够得到最好的封孔质量。同时，在热封孔时，需要进一步控制热水的酸碱度，避免热水的PH值过酸或过碱对铝合金制品造成的腐蚀，经过实验得知，所述热水PH值为5.5-6.5时，均可确保热水对铝合金制品的正确封孔。
[0051]当热封孔完成后，再将铝合金制品进行烘干，烘干的温度控制在30?50°C即可，以避免过高的烘干温度造成封孔质量的下降。
[0052]S6.表面镜面处理工艺完成。
[0053]由本实施例完成的铝合金制品能够得到较佳的镜面效果，同时，采用的磁流变抛光可以避免过热造成氧化膜脱落或起皮现象，产品的表面质量好，且本实施例能最大限度的提高处理效率。
[0054]以上内容仅为本发明的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本发明的思想，在【具体实施方式】及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
【主权项】
1.铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:包括如下工艺步骤: 51.将铝合金制品的表面进行研磨，除去制品表面的素材纹路，达到镜面光洁度； 52.对铝合金制品进行清洗； 53.将铝合金制品进行阳极氧化处理； 54.将铝合金制品送至磁流变抛光设备中进行磁流变抛光处理； 55.将磁流变抛光后的铝合金制品进行清洗，再将铝合金制品作封孔处理； 56.表面镜面处理工艺完成。2.根据权利要求1所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在150?200KA/m，控制抛光盘转速为40?60r/min，控制铝合金制品自转速度为100?150r/min，同时使铝合金制品与抛光轮的间隙为1.0?1.5mm。3.根据权利要求2所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在150KA/m，控制抛光盘转速为40 r/min，控制招合金制品自转速度为100 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.0mm。4.根据权利要求2所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在165KA/m，控制抛光盘转速为45 r/min，控制铝合金制品自转速度为115 r/min，同时使招合金制品与抛光轮的间隙为1.1_。5.根据权利要求2所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在180KA/m，控制抛光盘转速为50 r/min,控制招合金制品自转速度为130 r/min，同时使铝合金制品与抛光轮的间隙为1.25_。6.根据权利要求2所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在190KA/m，控制抛光盘转速为55 r/min，控制铝合金制品自转速度为140 r/min，同时使铝合金制品与抛光轮的间隙为1.35_。7.根据权利要求2所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:在S4的步骤中，将磁流变抛光设备的磁场强度控制在200KA/m，控制抛光盘转速为60 r/min，控制招合金制品自转速度为150 r/min，同时使铝合金制品与抛光轮的间隙为1.5_。8.根据权利要求1所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:在S3步骤阳极氧化后，在S4步骤之前，还包括将铝合金制品进行首次封孔。9.根据权利要求1所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:在S5步骤中，将铝合金制品置于热水中进行热封孔，所述热水温度为90?100°C，所述热水PH值为5.5?6.5。10.根据权利要求9所述的铝合金的表面镜面处理工艺，其特征在于:热封孔完成后，再将铝合金制品进行烘干。
【文档编号】C25D11/18GK106078364SQ201610460495
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年6月23日
【发明人】邹小明
【申请人】东莞金稞电子科技有限公司