一种酸洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种酸洗设备，尤其涉及一种用于钢垫片的酸洗机。
【背景技术】
[0002]钢垫片是用于设备内部多个机构之间的承载部件，其长时间使用后表面防锈漆掉落，容易引起腐蚀，而且旧垫片一般不作再处理，重新进行熔炼，较为浪费。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种酸洗装置，支架内具有酸洗室，便于垫片或其他部件的酸洗。
[0004]本实用新型为解决其技术问题所提出的一种酸洗装置，包括底座、支架、管道、喷头、固定架、储液罐以及设置于底座一侧的控制器，支架设置于底座之上，固定架位于支架内部，与底座连接，其上部设有喷头，表面设置固定模具，所述喷头穿过支架顶部，一端连接设置于支架上方的喷液装置；储液罐设置于支架下部，其侧面设置连接喷液装置的管道，酸液自底部储液罐内进入喷液装置，通过喷头喷洒于酸洗室内。
[0005]支架呈正方体，四周设置4根立柱，所述立柱的顶部及底部分别连接酸洗装置及储液罐，立柱之间设置玻璃，支架底部设置内部中空的底座，固定架设置于所述底座的顶部，其表面设有固定模具，固定架两侧设置可升降的挡板，用于部分区域的酸洗。
[0006]底座顶部具有若干通孔，其内部的中空部分的横截面位于立柱之间，所述立柱穿过底座的实心部分，便于酸洗液回收，防止多余酸洗液流出造成污染。
[0007]支架顶部具有顶板，喷头通过穿过顶板的管道连接喷液装置，所述管道外设有耐酸垫片，防止酸洗液自管道连接部分渗出腐蚀设备。
[0008]本实用新型的优点在于，支架内具有酸洗室，便于垫片或其他部件的酸洗；支架底部的底座内中空，能够收集酸洗液，防止流出。
【附图说明】
[0009]图1是本实用新型提出的送料机构与整形机构的结构示意图。
【具体实施方式】
[0010]为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合图示与具体实施例，进一步阐述本实用新型。
[0011]如图1所示，一种酸洗装置，包括底座1、支架2、管道3、喷头4、固定架5、储液罐6以及设置于底座一侧的控制器7，支架2设置于底座I之上，固定架5位于支架2内部，与底座连接，其上部设有喷头4，表面设置固定模具，所述喷头4穿过支架2顶部，一端连接设置于支架2上方的喷液装置8 ;储液罐6设置于支架2下部，其侧面设置连接喷液装置8的管道。
[0012]支架2呈正方体，四周设置4根立柱，所述立柱的顶部及底部分别连接喷液装置8及储液罐6，立柱之间设置玻璃，支架2底部设置内部中空的底座1，固定架5设置于所述底座I的顶部。
[0013]底座I顶部具有若干通孔，其内部的中空部分的横截面位于立柱之间，所述立柱穿过底座I的实心部分。
[0014]支架2顶部具有顶板，喷头4通过穿过顶板的管道连接喷液装置8，所述管道外设有耐酸垫片。
[0015]以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
【主权项】
1.一种酸洗装置，包括底座、支架、管道、喷头、固定架、储液罐以及设置于底座一侧的控制器，其特征在于:支架设置于底座之上，固定架位于支架内部，与底座连接，其上部设有喷头，表面设置固定模具，所述喷头穿过支架顶部，一端连接设置于支架上方的喷液装置；储液罐设置于支架下部，其侧面设置连接喷液装置的管道。2.根据权利要求1所述的一种酸洗装置，其特征在于:支架呈正方体，四周设置4根立柱，所述立柱的顶部及底部分别连接酸洗装置及储液罐，立柱之间设置玻璃，支架底部设置内部中空的底座，固定架设置于所述底座的顶部。3.根据权利要求2所述的一种酸洗装置，其特征在于:底座顶部具有若干通孔，其内部的中空部分的横截面位于立柱之间，所述立柱穿过底座的实心部分。4.根据权利要求1所述的一种酸洗装置，其特征在于:支架顶部具有顶板，喷头通过穿过顶板的管道连接喷液装置，所述管道外设有耐酸垫片。
【专利摘要】本实用新型公开了一种酸洗装置，包括底座、支架、管道、喷头、固定架、储液罐以及设置于底座一侧的控制器，支架设置于底座之上，固定架位于支架内部，与底座连接，其上部设有喷头，表面设置固定模具，所述喷头穿过支架顶部，一端连接设置于支架上方的喷液装置；储液罐设置于支架下部，其侧面设置连接喷液装置的管道；支架内具有酸洗室，便于垫片或其他部件的酸洗；支架底部的底座内中空，能够收集酸洗液，防止流出。
【IPC分类】C23G3/00
【公开号】CN204625791
【申请号】CN201520166150
【发明人】钱明奎
【申请人】嘉善睿逸电子科技有限公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2015年3月24日